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ASML、IMEC聯(lián)合研發(fā)第二代EUV光刻機，制造更小的晶體管
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有達
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長知識啦！AMSL的光刻機為何一臺能賣上億美元？
要了解光刻機為何為何受到如此的熱捧，首先簡單了解一下什么是光刻機。光刻機的工作方式通常是在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程，而這種方式正是芯片制造的核心流程之一。光刻機有幾種分類，有專門用于芯片生產(chǎn)的，有用于封裝的，有用于LED制造領域的投影光刻機。本次主要講的便是芯片制造用的光刻機，而在這個領域中，ASML無疑是絕對的龍頭，占據(jù)光刻機市場80%的份額。
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光刻機廠家ASML做了個廣告，連吉尼斯都驚動了!
為了招聘人才，ASML公司制作了全世界最小的招聘廣告，并獲得了吉尼斯世界記錄。這個廣告長33.27微米，寬7.76微米，面積為258平方微米，比一根頭發(fā)還小。上面刻有ASML宣傳語“To truly go small, you have to think big”(想要真的變小，那么你必須有宏大的想法)。
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阿斯麥仍看好EUV光刻機前景 最先進的NXT:2000i將于下半年入華
中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關心的話題。
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ASML辟謠：沒有限招中國員工
在光刻機領域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場，在EUV光刻機中更是獨一份，7納米及以后的工藝都要依賴EUV光刻機。而日前，一則關于荷蘭光刻機巨頭拒絕接收中國留學生簡歷的消息近日在社交媒體流傳，根據(jù)流傳的郵件稱，迫于美國政府的壓力，ASML公司被曝禁止招收中國籍員工。
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中國芯片為何一直卡在光刻機上 它到底有多復雜？
荷蘭ASML是世界頂尖光刻機的全球唯一生產(chǎn)商。 眾所周知，航空發(fā)動機和光刻機分別代表了人類科技發(fā)展的頂級水平，都可以算得上是工業(yè)皇冠上的奪目的明珠。目前，我國航空發(fā)動機已經(jīng)有了長足的進步，那么，我國的光刻機發(fā)展現(xiàn)狀如何?這種譽為新時代“兩彈一星”級別的“神器”我國能趕超歐美嗎?特別是最近某科技媒體稱，“是什么卡了我們的脖子—— 這些“細節(jié)”讓中國難望頂級光刻機項背”，筆者根據(jù)公開資料解析我國光刻機最新進展。所謂光刻機，原理實際上跟照相機差不多，不過它的底片是涂滿光敏膠(也叫光刻膠)的硅片。各種電路圖
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詳解光刻機！
什么是光刻機呢?本節(jié)小編就帶大家一起認識一下光刻機。
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“超級設備”入華 芯片自主生產(chǎn)有希望？
據(jù)多家媒體證實，長江存儲從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購的一臺光刻機已抵達武漢。這臺光刻機價值價值7200萬美元，約合人民幣4.6億元。另據(jù)媒體報道，中芯國際在中興事件之后也向該公司下單了一臺光刻機，這臺名為EUV(極紫外線)光刻機更是身價不菲，價值1.2億美元，交貨日期尚不確定。
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EUV能成就中國芯之夢嗎？
中興通訊受美國政府制裁一案，為大陸高端芯片的自主拉起警報，大陸自官方到民間無不立刻加大芯片研發(fā)的投資力度。日前有消息指，長江存儲與中芯國際在近日突破海外封鎖，先后從荷蘭艾司摩爾(ASML)公司訂購了兩臺總值近兩億美元的高端光刻機。
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中科院研發(fā)出新型直接光刻機搶占半導體設備商機
隨著光產(chǎn)業(yè)結構的升級與應用，該行業(yè)的發(fā)展迅猛。近日，一種新型的中紫外直接光刻機由中國科學院光電技術研究所微電子專用設備研發(fā)團隊在國內(nèi)研制成功。該設備采用特有的高均勻、高準直中紫外照明技術，結合光敏玻璃材料，實現(xiàn)基于光敏玻璃基底的微細結構直接加工，能夠極大簡化工藝流程，將有力促進光敏玻璃微細結構的光刻工藝技術“革命”，目前在國內(nèi)尚未見有此類產(chǎn)品成功研發(fā)的報道。
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EV集團推出全新掩模對準光刻技術突破速度和精度極限
微機電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備領先供應商EV集團(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT，旨針對大容量先進封裝應用推出的全新自動掩模對準系統(tǒng)。IQ Aligner NT光刻機配備了高強度和高均勻度曝光鏡頭、全新晶圓處理硬件、支持全局多點對準的全 200 毫米和全300毫米晶圓覆蓋、以及優(yōu)化的工具軟件。與EVG此前推出的IQ Aligner光刻機相比，產(chǎn)出率和對準精度都提升了兩倍。這套系統(tǒng)最大程度地滿足了對后端光刻最嚴苛的要求，成本相較競爭者降低30%。
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芯片制造關鍵的EUV光刻機單價為何能超1億歐元?
每每提到半導體行業(yè)發(fā)展，免不了要說下中國最近兩年發(fā)展集成電路的決心之強、投資之大，國內(nèi)公司對人才也求賢若渴，不惜高薪挖人，但在關鍵技術上，我們落后歐美公司還是挺多的，特別是在半導體制造裝備上，先進的光刻機還被歐美封鎖，有錢也買不到。進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
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三星欲購入頂級光刻機 英特爾你慫了么？
產(chǎn)業(yè)鏈有傳言稱，臺積電與蘋果達成A10芯片獨家供應協(xié)議。作為臺積電的主要競爭對手，三星電子加快提升芯片工藝進程。據(jù)外媒Korea Times消息，三星電子在本月初派出包括一名執(zhí)行副總裁在內(nèi)的團隊訪問ASML總部，計劃引
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不再受制：我國成為少數(shù)能研制光刻機的國家之一
對于普通人來說，光刻機或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻技術的鍛造。記者13日從清華大學獲悉，國家科技重大專項“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)&rd
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中國科學家自主研制成功新型光刻機
記者23日從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型
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上海微電子：提升中國光刻設備高端制造水平
上海微電子裝備有限公司成立于2002年，公司主要致力于大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的投影光刻機研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務，可廣泛應用于IC制造與先進封裝、MEMS、3D-TSV、OLED-TFT、LED、Power Devices等制造領域。這是IC制造領域的
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2010年全球存儲器短缺的三個理由
2010年全球存儲器可能出現(xiàn)供應缺貨，而且非?？赡軙永m(xù)下去。為什么?可能有三個原因，1)，存儲器市場復蘇;2)，前幾年中存儲器投資不足;3)，由ASML供應的光刻機交貨期延長。
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上海微電子展出SMEE 300系列光刻機
致力于投影光刻機研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment；SMEE)，將于6/17至19來臺參加2014臺北國際光電周暨LED照明展，展出用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機設備。此次，將
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中國半導體企業(yè)走向產(chǎn)業(yè)鏈核心 漸受風投追捧
【導讀】中國半導體企業(yè)走向產(chǎn)業(yè)鏈核心 漸受風投追捧 一貫孱弱的中國半導體設備業(yè)忽然成了美國風投追逐的對象。《第一財經(jīng)日報》昨日獲悉，國內(nèi)目前唯一能為12英寸半導體工廠生產(chǎn)設備的公司——中微半導體公司
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中國半導體設備企業(yè)漸受風投追捧
【導讀】中國半導體設備企業(yè)漸受風投追捧 一貫孱弱的中國半導體設備業(yè)忽然成了美國風投追逐的對象?！兜谝回斀?jīng)日報》昨日獲悉，國內(nèi)目前唯一能為12英寸半導體工廠生產(chǎn)設備的公司——中微半導體公司(下稱“中
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