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應(yīng)用材料公司全新的物理氣相沉積(PVD)系統(tǒng) 采用突破性硬掩模技術(shù)
·使用全新硬掩膜材料技術(shù)于10納米及以下確保緊湊型薄互連的大規(guī)模圖形生成·領(lǐng)先的物理氣相沉積技術(shù)提供多代產(chǎn)品的創(chuàng)新工具應(yīng)用材料公司近日推出全新的Applied Endura Cirrus HTX物理氣相沉積(PVD)*系
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