隨著汽車電子、航空航天等安全關鍵領域對集成電路可靠性要求的提升,抗單粒子翻轉(SEU)技術成為設計焦點。本文提出一種基于三模冗余(TMR)與糾錯碼(EDAC)的混合加固方案,通過RTL級建模實現(xiàn)高可靠單元庫設計。實驗表明,該方案可使電路SEU容錯率提升至99.9999%,同時面積開銷控制在2.3倍以內(nèi)。通過Verilog硬件描述語言與糾錯碼算法的協(xié)同優(yōu)化,本文為安全關鍵系統(tǒng)提供了從單元級到系統(tǒng)級的抗輻射加固解決方案。
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