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Inpria與SK hynix聯(lián)合開發(fā)金屬氧化物抗蝕劑，降低新一代DRAM的制版復雜性
JSR株式會社(JSR Corporation)今天宣布加速與SK hynix Inc.的合作開發(fā)進程，以便將JSR旗下公司Inpria的極紫外光刻(EUV)金屬氧化物抗蝕劑(MOR)應用于制造先進的DRAM芯片。Inpria擁有廣泛專利的EUV金屬氧化物光刻膠平臺使客戶能夠高效地對先進節(jié)點設備架構進行制版。
JSR株式會社(JSR Corporation)今天宣布加速與SK hynix Inc.的合作開發(fā)進程，以便將JSR旗下公司Inpria的極紫外光刻(EUV)金屬氧化物抗蝕劑(MOR)應用于制造先進的DRAM芯片。Inpria擁有廣泛專利的EUV金屬氧化物光刻膠平臺使客戶能夠高效地對先進節(jié)點設備架構進行制版。
