EDA版圖驗(yàn)證自動(dòng)化：DRC/LVS腳本編寫與批處理執(zhí)行指南

在先進(jìn)制程（7nm及以下）芯片設(shè)計(jì)中，版圖驗(yàn)證的復(fù)雜度呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)。通過(guò)自動(dòng)化腳本實(shí)現(xiàn)DRC（設(shè)計(jì)規(guī)則檢查）和LVS（版圖與電路圖一致性檢查）的批處理執(zhí)行，可將驗(yàn)證周期從數(shù)天縮短至數(shù)小時(shí)。本文以Cadence Virtuoso平臺(tái)為例，系統(tǒng)闡述驗(yàn)證腳本的編寫方法與優(yōu)化策略。