氮化鎵(GaN)是一種III-V族寬能隙化合物半導體材料,能隙為3.4 eV,電子遷移率為1,700 cm2/Vs,而硅的能隙和電子遷移率分別為1.1 eV和1,400 cm2/Vs。
此次收購將大幅提高意法半導體在汽車、工業(yè)和消費級高頻大功率GaN的技術積累、擴大其開發(fā)計劃和業(yè)務
ADI數(shù)據(jù)中心白皮書搶先看,測試領紅包
深度剖析 C 語言 結構體/聯(lián)合/枚舉/位域:鉑金十三講 之 (11)
3小時熟悉Allegro軟件功能、層作用、與114個高效快捷鍵
印刷電路板設計基礎
vim從入門到精通第01季:基礎命令入門
內(nèi)容不相關 內(nèi)容錯誤 其它
本站介紹 | 申請友情鏈接 | 歡迎投稿 | 隱私聲明 | 廣告業(yè)務 | 網(wǎng)站地圖 | 聯(lián)系我們 | 誠聘英才
ICP許可證號:京ICP證070360號 21ic電子網(wǎng) 2000- 版權所有 用戶舉報窗口( 郵箱:macysun@21ic.com )
京公網(wǎng)安備 11010802024343號