M EVVA源是金屬蒸汽真空弧離子源的縮稱。這是上世紀80年代中期由美國加州大學伯克利分校的布朗博士由于核物理研究的需要發(fā)明研制成功的。這種新型的強流金屬離子源問世后很快就被應(yīng)用于非半導(dǎo)體材料離子注入表面改性,并引起了強流金屬離子注入的一場革命,這種獨特的離子注入機被稱為新一代金屬離子注入機。
Littelfuse應(yīng)用學習社第一期:打造更穩(wěn)定與安全的數(shù)據(jù)中心解決方案
印刷電路板設(shè)計進階
uboot和系統(tǒng)移植(部分免費課程)
深度剖析 C 語言 結(jié)構(gòu)體/聯(lián)合/枚舉/位域:鉑金十三講 之 (11)
C 語言靈魂 指針 黃金十一講 之(2)
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