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N3

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  • 臺積電 3nm 工藝良率 63%，正在追趕自家 4nm 良率

    據(jù) 21ic 信息報道，臺積電的第一代 3nm 工藝(N3)仍采用鰭式場效應(yīng)晶體管架構(gòu)制程工藝，在去年最后的幾天在南科廠正式投入開始商業(yè)量產(chǎn)，隨后產(chǎn)能在不斷提升。有報道稱已經(jīng)量產(chǎn)了一個季度的臺積電 3nm(N3)制程工藝目前的良率約為 63%，正在追趕自家 4nm 良率。