EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現(xiàn)在三星與韓國半導體廠商東進合作開發(fā)成功EUV光刻膠，已經通過驗證。東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

消息人士稱，東進半導體在其位于京畿道華城的工廠開發(fā)了EUV PR，并在三星電子華城 EUV生產線上對其進行了測試，并已通過可靠性測試。PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料。

光刻的原理是在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線(一般是紫外光、深紫外光、極紫外光)透過掩模照射在硅片表面，被光線照射到的光刻膠會發(fā)生反應。此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實現(xiàn)了電路圖從掩模到硅片的轉移。

光刻完成后對沒有光刻膠保護的硅片部分進行刻蝕，最后洗去剩余光刻膠，就實現(xiàn)了 半導體器件在硅片表面的構建過程。

光刻根據(jù)所采用正膠與負膠之分，劃分為正性光刻和負性光刻兩種基本工藝。 在正性光刻中，正膠的曝光部分結構被破壞，被溶劑洗掉，使得光刻膠上的圖形與掩模版上圖形相同。相反地，在負性光刻中，負膠的曝光部分會因硬化變得不可溶解，掩模部分則會被溶劑洗掉，使得光刻膠上的圖形與掩模版上圖形相反。

光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的30%，耗時約占整個芯片工藝的40%~50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。

那么什么是光刻膠呢?光刻膠是一類通過光束、電子束、離子束等能量輻射后,溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料,在集成電路和半導體分立器件的微細加工中有著廣泛的應用。根據(jù)其應用領域、分辨率、對紫外光反應特性可以進行如下分類：

最早時期光刻膠是應用在印刷工業(yè)領域，到 20 世紀 20 年代才被逐漸用在印刷電路板領域，20 世紀 50 年代開始用于半導體工業(yè)領域。20 世紀 50 年代末，Eastman Kodak和 Shipley 公司分別設計出適合半導體工業(yè)需要的正膠和負膠。

光刻膠難度非常高，光刻膠對分辨率、對比度、敏感度，此外還有粘滯性黏度、粘附性等要求極高。其中分辨率描述形成的關鍵尺寸;對比度描述光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)的陡度;敏感度為光刻膠上產生一個良好的圖形所需一定波長光的最小能量值。諸多技術參數(shù)限制構成了光刻膠的技術壁壘。

它應用于芯片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發(fā)生化學反應并改變物理性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，只留下必要的部分。2019年，日本與韓國爆發(fā)爭議之后曾經限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發(fā)。雖然已經通過了測試，不過三星是否會在EUV生產線上立即使用東進半導體的EUV光刻膠還不確定，三星及東進拒絕表態(tài)。

據(jù)businessKorea報道，自去年7月日本開始限制對韓國的出口以來，三星仍沒有找到為EUV技術提供足夠光刻膠的替代供應商。到2030年成為全球代工行業(yè)老大的目標恐遇阻。

據(jù)韓國科學技術研究院11月27日公布的數(shù)據(jù)顯示，韓國企業(yè)93.2%的光刻膠需求依賴于日本供應商，EUV光刻膠對日本的依賴程度幾乎相同。

日本限制EUV光刻膠的出口，韓國公司迅速做出反應，增加了比利時產材料的進口。據(jù)韓國海關(KCS)稱，從比利時進口的光刻膠在今年第三季度達到了459萬美元，是上一季度(約25萬美元)的20倍。其中大多數(shù)是EUV的光刻膠。

三星開始大規(guī)模生產基于7納米EUV工藝的移動應用處理器Exynos 9825，但產量只占其總產量的一小部分。真正的問題將在幾年后出現(xiàn)，那時EUV制程工藝將成為主流。自今年4月以來，三星一直在向全球芯片設計公司推廣其5納米EUV工藝，并計劃明年在其華城市的工廠開一條獨家EUV生產線。

市場研究公司也預測了EUV工藝的推進。根據(jù)IC Insights的報告，到2023年，10nm以下的半導體產量將從今年的105萬張/月增加到627萬張/月。同期，10納米以下半導體工藝的比例將從5%增長到25%。業(yè)內人士預測，在未來幾年內，EUV技術將占到大部分7納米以下的工藝。

EUV技術的不斷推進將導致EUV中光刻膠使用的增加。據(jù)韓國芯片制造商預測，EUV光刻膠的本土化無法在幾年內實現(xiàn)，因此他們計劃脫離日本，尋求多樣化供應商。然而，由于他們與日本供應商對EUV光刻膠進行了優(yōu)化，如果脫離日本，收益率或直接下降。

這種情況將有利于臺積電。臺積電推出EUV工藝的時間比三星晚，但臺積電最近從EUV光刻機龍頭企業(yè)ASML手中購置了EUV光刻設備，此外，臺積電對光刻膠供應沒有任何顧慮。

無晶圓廠產業(yè)顯示出相互矛盾的觀點。盡管一些fables公司覺得有必要阻止臺積電的統(tǒng)治地位，但也有一些公司認為有必要阻礙三星在代工業(yè)的腳步，因為三星是一家集成設備制造商IDM。然而，如今有越來越多的fables企業(yè)開始向臺積電下訂單。