光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。生產(chǎn)集成電路的簡要步驟：利用模版去除晶圓表面的保護膜。將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。其中曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設(shè)備。一片晶圓可以制作數(shù)十個集成電路，根據(jù)模版曝光機分為兩種：模版和晶圓大小一樣，模版不動。模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。其中模版隨曝光機移動的方式，模版相對曝光機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流 。

2月9日，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)在2021年財報中宣稱，中國企業(yè)東方晶源(Dong Fang JingYuan Electron，DFJY)正在中國積極銷售可能(could potentially)侵犯阿斯麥知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。而阿斯麥所稱的東方晶源關(guān)聯(lián)公司XTAL，曾在2019年被美國法院判定侵犯阿斯麥知識產(chǎn)權(quán)。

觀察者網(wǎng)隨后聯(lián)系了東方晶源，對方工作人員稱暫時不方便回應(yīng)此事。而阿斯麥中國方面告訴觀察者網(wǎng)，此事與XTAL之前的侵權(quán)案有關(guān)，是年報中的正常披露。阿斯麥正在密切關(guān)注東方晶源的動態(tài)，目前尚未準備采取法律措施，但如果有確鑿證據(jù)該公司將訴諸法律。

據(jù)阿斯麥財報中披露的信息，該公司在2021年初獲悉，一家與XTAL公司有關(guān)的公司正在中國積極推銷可能侵犯阿斯麥知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品，2019年XTAL曾因在美國盜取阿斯麥的商業(yè)秘密被判定做出賠償。作為回應(yīng)，阿斯麥已經(jīng)告知客戶不要協(xié)助這家名叫“東方晶源“的中國公司從事此類潛在的侵權(quán)行為。阿斯麥還透露，該公司已向中國監(jiān)管部門告知相關(guān)信息，正在密切監(jiān)測相關(guān)情況，并準備在適當?shù)臅r機采取法律行動。

觀察者網(wǎng)查詢發(fā)現(xiàn)，東方晶源全稱為東方晶源微電子科技(北京)有限公司，成立于2014年，總部位于北京亦莊經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，專注于集成電路良率管理。亦莊國投曾披露，東方晶源由中國500強企業(yè)東方集團投資控股，而東方集團是一家成立于1978年的大型投資控股型民營企業(yè)。

從具體業(yè)務(wù)來看，東方晶源主要產(chǎn)品為納米級電子束缺陷檢測裝備(EBI)和關(guān)鍵尺寸量測裝備(CD-SEM)、計算光刻產(chǎn)品(OPC)以及微電子設(shè)計與制造智能良率優(yōu)化平臺(HPOTM)。該公司稱，其產(chǎn)品均為自主研發(fā)且處于國內(nèi)領(lǐng)先水平，可以有效解決國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)多個難點。

而阿斯麥官網(wǎng)顯示，該公司產(chǎn)品除光刻機之外，也包括用于提高芯片良率和質(zhì)量的計算光刻，“如果沒有計算光刻，芯片制造商就不可能制造出最新的技術(shù)節(jié)點”。

有資深半導(dǎo)體行業(yè)人士告訴觀察者網(wǎng)，在光刻過程中，光的衍射以及感光層中的物理和化學(xué)效應(yīng)會使光刻機試圖刻出的圖像變形，因此需要計算光刻進行校準和優(yōu)化。簡單來說，計算光刻類似EDA中的算法，是一種晶圓廠需要購買的服務(wù)，如果曝光圖形跟實際掩膜(Mask)有差異，可以通過計算光刻提前修正掩膜確保得到想要的圖形。一般來說，如果晶圓廠覺得阿斯麥的計算光刻不夠好，也可以選擇第三方提供的產(chǎn)品，二者由此便會形成競爭。

在全球半導(dǎo)體公司中，荷蘭的ASML公司規(guī)模不算頂尖，但它們掌握了主要的光刻機市場，EUV光刻機買到10億一臺都供不應(yīng)求，業(yè)績紅到發(fā)紫，這也讓ASML管理層拿獎到手軟，CEO去年就拿到3500萬元的獎勵。

根據(jù)ASML公司發(fā)布的信息，2021年中公司管理層獲得了超過2000萬歐元的獎勵，其中最多的是CEO Peter Wennink和CTO Martin van de Brink，每人拿到了480萬歐元的薪酬，比上一年多了30萬歐元，總計約合3500萬人民幣。

CFO Roger Dassen去年的薪酬是380萬歐元，與上一年持平，還有其他兩位高管分別獲得了310萬歐元的獎勵，比之前增加了20萬歐元。

管理層獲得重獎跟去年的業(yè)績有關(guān)，根據(jù)ASML的數(shù)據(jù)，ASML公司實現(xiàn)凈銷售額186.11億歐元，較上一財年增長33%，凈利潤也從35.54億歐元漲至58.83億歐元，全年凈訂單額達到262.4億歐元，較去年同期翻了一倍，需求強烈。

2021年中，ASML出貨了EUV光刻機總計多達42套，2020年是31套，實現(xiàn)營收63億美元，算下來平均每套EUV光刻機要1.5億歐元，折合人民幣10.8億元。

當然，10億一臺的EUV光刻機還不是最貴的，新一代EUV光刻機也開始產(chǎn)生訂單了，據(jù)說成本高達3億美元，約合19億元。