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[導(dǎo)讀]那么,阿斯麥爾在光刻機設(shè)備方面放出這樣的大動作,對于自身的發(fā)展而言會有怎樣的影響呢?在阿斯麥爾新一代光刻機即將亮相的情況下,舊款的EUV光刻機是否能對我國出貨呢?

一臺光刻機,內(nèi)部包含了十萬多個零件,阿斯麥爾憑借著龐大的全球供應(yīng)鏈,在這個領(lǐng)域占據(jù)了多年的鰲頭。但是,因為美國對規(guī)則的修改,反而倒逼全球企業(yè)在光刻機方面實現(xiàn)獨立自主,其中,特別是我國,近年來的進展尤為迅速和順利。

再加上,如今已經(jīng)漸漸就要觸及摩爾定律的極限,因此,阿斯麥爾為了延長自己光刻機產(chǎn)品的壽命,因此也開始在光刻機方面進行相應(yīng)的發(fā)展。如今,新一代光刻機即將就要在明年正式在市場亮相。

那么,阿斯麥爾在光刻機設(shè)備方面放出這樣的大動作,對于自身的發(fā)展而言會有怎樣的影響呢?在阿斯麥爾新一代光刻機即將亮相的情況下,舊款的EUV光刻機是否能對我國出貨呢?

根據(jù)路透社2022年5月20日報道,阿斯麥爾如今正在研發(fā)一款新型光刻機,價值據(jù)說高達4億美元。這樣的價格貴嗎?其實還真有點,別的不說,就拿目前最先進的這一代EUV光刻機來說吧,目前一臺售價大約2億美元的樣子。這臺新型光刻機直接就等于目前兩臺這樣的普通EUV。

價格昂貴自然也有昂貴的道理,在體型上,正在研發(fā)的這款新型光刻機大約和雙層巴士差不多。而且,這臺EUV光刻機據(jù)說生產(chǎn)的芯片更加高端,將用于生產(chǎn)下一代芯片,芯片終端領(lǐng)域可以覆蓋手機、汽車、AI等等。具體怎樣,根據(jù)阿斯麥爾透露,在2030年上半年就會亮相了。目前,估摸這臺新型光刻機應(yīng)該也會很驚艷的。

如今,阿斯麥爾終于開始發(fā)力了,終于沒有繼續(xù)躺在老本上,當(dāng)一只溫水里的青蛙了,隨著新型光刻機的落地,將會給阿斯麥帶來怎樣的影響呢?

此舉對阿斯麥爾影響幾何?

今年4月20日,阿斯麥爾公開表示,目前根本就沒有任何跡象表明全球芯片放緩預(yù)計今年和明年的芯片產(chǎn)能仍將嚴(yán)重短缺。如今,阿斯麥爾不僅僅要將當(dāng)前EUV光刻機的年產(chǎn)量提升到70臺,還要落地這樣一臺更加先進的新型EUV光刻機。截至發(fā)稿,阿斯麥(ASML.US)漲2.50%,報539.13美元。據(jù)報道,阿斯麥正在制造新款極紫外線(EUV)光刻機,每臺售價約4億美元。阿斯麥公司高級管理人員表示,新一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機的原型機將在2023年上半年制造完成。這些高管說,頂級芯片供應(yīng)商準(zhǔn)備最早2025年開始使用上述產(chǎn)品的量產(chǎn)機。

最新消息稱,荷蘭ASML正在研發(fā)新款光刻機, 價值高達4億美元(約合26億元人民幣),雙層巴士大、重超200噸。

原型機預(yù)計2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出貨。

這款機器應(yīng)該指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA),Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數(shù)值孔徑,2nm之后的節(jié)點都得依賴它實現(xiàn)。

在ASML公布的今年一季度財報中,EXE:5200已經(jīng)訂出去不止一臺。按計劃,第一臺原型試做機2023年開放,預(yù)計由imec(比利時微電子研究中心)裝機,2025年后量產(chǎn),第一臺預(yù)計交付Intel。

據(jù)了解,實際上,ASML的EUV光刻機非常龐大,現(xiàn)售的0.33NA EUV光刻機擁有超10萬零件,需要40個海運集裝箱或者4架噴氣貨機才能一次性運輸完成,單價1.4億美元左右。

據(jù)稱,ASML 計劃在 2026-2030 年,將這款設(shè)備打造成為公司旗艦產(chǎn)品,最早 2025 年有望將生產(chǎn)模型投入使用,但目前對 ASML 來說仍是一項工程挑戰(zhàn)。

ASML 荷蘭總部一位高管對路透表示,原型機有望在 2023 年上半年完工。他們說,該公司和長期研發(fā)合作伙伴 IMEC 正在現(xiàn)場建立一個測試實驗室,也是第一個實驗室,以此進一步研究機器的性能,并準(zhǔn)備最早于 2025 年以此進行模型生產(chǎn)。該公司必然會遇到技術(shù)或供應(yīng)鏈障礙,但他們幾乎沒有試錯的余地。

與半導(dǎo)體行業(yè)各公司合作的非營利研究組織 IMEC 認為,在阿斯麥設(shè)立實驗室,可以節(jié)省至多一年的開發(fā)時間。

阿斯麥表示,該公司接到了 5 份試點機器訂單,預(yù)計將于 2024 年交付,還有來自 5 家不同客戶的“5 份以上”訂單,將從 2025 年開始交付更先進的生產(chǎn)機型。

ASML 的 EUV 項目主管 Christophe Fouquet 表示:“現(xiàn)在每一張支票都是綠色的。但是,你要知道,我們?nèi)匀恍枰吹竭@一切 (組裝)?!?

當(dāng)然,該項目的命運對 ASML 客戶也很重要,尤其是現(xiàn)階段在全球半導(dǎo)體短缺的情況下,各大芯片制造商都在競相擴大產(chǎn)能。

超大規(guī)模集成電路研究公司 (VLSI Research) 專家丹?哈奇森 (Dan Hutcheson) 沒有參與 ASML 項目,他表示,這種被稱為“High-NA”版 EUV 的新技術(shù)可能為一些芯片制造商提供顯著優(yōu)勢。

“這有點像誰有最好的槍,”他說“所以 ASML 要么讓它發(fā)生,要么不讓它發(fā)生”,“但如果他們做到了,而你卻沒有得到,你將毫無疑問地錯過它,并將從此失去競爭力。”

他表示,臺積電在 2010 年代末首次整合了 ASML 的 EUV 光刻機,從而令英特爾等一眾競爭對手黯然失色。去年剛上任的英特爾 CEO 帕特?蓋爾辛格也因此發(fā)誓不會在 High-NA 上再犯同樣的錯誤。

IT之家了解到,先進光刻技術(shù)是衡量芯片制造上限的關(guān)鍵因素,而這種 High-NA 光刻技術(shù)有望降低 66% 的尺寸大小。而在芯片制造領(lǐng)域,雖然目前的 3nm、5nm 已經(jīng)不代表實際柵極寬度,但肯定還是越小越好。5月21日消息,最新消息稱,荷蘭ASML正在研發(fā)新款光刻機,價值高達4億美元(約合26億元人民幣),雙層巴士大、重超200噸。原型機預(yù)計2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出貨。

這款機器應(yīng)該指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA),Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數(shù)值孔徑,2nm之后的節(jié)點都得依賴它實現(xiàn)。

在ASML公布的今年一季度財報中,EXE:5200已經(jīng)訂出去不止一臺。按計劃,第一臺原型試做機2023年開放,預(yù)計由imec(比利時微電子研究中心)裝機,2025年后量產(chǎn),第一臺預(yù)計交付Intel。實際上,ASML的EUV光刻機非常龐大,現(xiàn)售的0.33NA EUV光刻機擁有超10萬零件,需要40個海運集裝箱或者4架噴氣貨機才能一次性運輸完成,單價1.4億美元左右。



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