光刻機(jī)(lithography)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

7月6日，外交部發(fā)言人趙立堅主持例行記者會。有記者提問，美方稱要求荷蘭禁止向中方出口用于制造芯片的光刻機(jī)技術(shù)，你對此有何評論?如果這個公司按美國的要求這么做的話，中方是否會對美方或者是荷蘭的相關(guān)公司采取反制措施?

趙立堅指出，這是美方濫用國家力量、倚仗技術(shù)霸權(quán)搞脅迫外交的又一例證。這也是典型的技術(shù)恐怖主義。在當(dāng)前全球化背景下，美方一再將科技和經(jīng)貿(mào)問題政治化、工具化、意識形態(tài)化，對別國搞技術(shù)封鎖、技術(shù)脫鉤，這只會讓其他國家更加警醒。在技術(shù)上一味依靠美國行不通，這也將促使各國加快實現(xiàn)科技自主、自立自強。

趙立堅稱，企圖堵別人的路，最終只會堵死自己的路。我們希望美方秉持客觀公正立場，從自身長遠(yuǎn)利益和公平公正市場原則出發(fā)，能夠做出相應(yīng)的決定。我們也相信有關(guān)方面能夠保持獨立自主，能夠做出獨立的決定。

美國正在推動荷蘭政府禁止ASML向中國大陸出售包括DUV光刻機(jī)在內(nèi)的設(shè)備，試圖通過卡住芯片制造的“喉嚨”來擴(kuò)大其遏制中國大陸崛起的行動。

目前ASML已經(jīng)無法向中國大陸出售其最先進(jìn)的極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)，單臺售價高達(dá)1.6億歐元(1.64億美元)，因為它無法獲得荷蘭政府的出口許可證。

如果荷蘭同意，這將大大擴(kuò)大現(xiàn)在禁止進(jìn)入中國大陸的芯片制造設(shè)備的范圍和類別，這可能對從中芯國際到華虹半導(dǎo)體等中國大陸芯片制造商造成嚴(yán)重的沖擊。

ASML CEOPeter Wennink今年早些時候曾表示，不希望禁止向中國大陸客戶銷售DUV光刻設(shè)備。截止發(fā)稿，ASML的美國存托憑證跌幅擴(kuò)大到了8.3%，這是自2020年3月以來的最大盤中跌幅。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，光刻機(jī)是核心設(shè)備，它不僅決定了芯片制造的工藝水平，而且是耗時最多、成本最高的一步，目前先進(jìn)的7nm、5nm及接下來的3nm、2nm都需要EUV光刻機(jī)，一臺這樣的光刻機(jī)售價將近10億人民幣，但目前還是供不應(yīng)求。

目前，荷蘭的ASML公司可以生產(chǎn)光刻機(jī)，他們的產(chǎn)能將決定全球先進(jìn)工藝擴(kuò)張的速度，所以代工龍頭臺積電、三星半年以來也在因為爭搶最先進(jìn)光刻機(jī)打的不可開交。

不難看出，光刻機(jī)是如今半導(dǎo)體行業(yè)的命脈，那這個命脈為什么被ASML所掌控?

作為制造芯片最先進(jìn)的設(shè)備，光刻機(jī)的先進(jìn)程度直接決定了芯片的制程工藝。ASML發(fā)言人稱，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小170%，同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進(jìn)的工藝將極度依賴高NA EUV光刻機(jī)。

隨著芯片越來越精密，更高數(shù)值的孔徑意味著更小的光線入射角度，也意味著能夠用來制造尺寸更小、速度更快的芯片。三星、臺積電都希望通過獲得下一代EUV光刻機(jī)，從而在未來2nm技術(shù)競爭上占據(jù)優(yōu)勢。

近日，韓國三星電子副會長李在镕又馬不停蹄奔赴歐洲，外媒報道，三星電子副董事長李在镕已結(jié)束與 ASML 公司的會談，并就韓國三星引進(jìn)下一代高數(shù)值孔徑 High-NA EUV 光刻設(shè)備達(dá)成了協(xié)議。High-NA EUV 作為 ASML 公司的下一代光刻設(shè)備，與 EUV 光刻設(shè)備相比，雕刻出的電路更為精細(xì)。而一臺High-NA EUV 光刻設(shè)備的價格估計為 5000 億韓元(約 25.85 億元人民幣)，是現(xiàn)有 EUV 光刻設(shè)備價格的兩倍。盡管如此，三星也在試圖購進(jìn)多至10臺機(jī)器，有韓國業(yè)內(nèi)人士表示：如果三星采購 10 臺 High-NA EUV 光刻設(shè)備，將花費超過 5 萬億韓元(約 258.5 億元人民幣)，因此政府可能會下場支持。

三星這么做，也是為了盡快追趕臺積電。6月17日臺積電舉行的技術(shù)論壇上，作為晶圓代工龍頭的臺積電首次披露，到2024年，臺積電將擁有ASML最先進(jìn)的高數(shù)值孔徑極紫外high-NA EUV光刻機(jī)，用于生產(chǎn)納米片晶體管(GAAFET)架構(gòu)的2nm(N2)芯片，預(yù)計在2025年量產(chǎn)。

盡管臺積電業(yè)務(wù)開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強稱，臺積電2024年還不準(zhǔn)備運用新的高數(shù)值孔徑EUV工具生產(chǎn)，引進(jìn)的光刻機(jī)將主要用于與合作伙伴的研究，但臺積電此次成功引進(jìn)最先進(jìn)的光刻機(jī)，無疑將進(jìn)一步鞏固自身在先進(jìn)制程研發(fā)方面的領(lǐng)先地位。

ASML公司作為一家高端的光刻機(jī)制造公司，擁有光刻機(jī)的整個生產(chǎn)制造鏈，致力于打造自己的一體化光刻機(jī)制造流程。一開始其實ASML也是一個名不見經(jīng)傳的小公司，從一點一滴做起來的，經(jīng)過了十幾年的研發(fā)之路，ASML公司才開始在光刻機(jī)領(lǐng)域展露風(fēng)頭。而后，ASML公司越做越大，躋身到了光刻機(jī)的一線梯隊。在后來，ASML公司率先研制出了EUV光刻機(jī)，這使得了自己一躍變成了光刻機(jī)制造行業(yè)的“老大哥”，開始在國際上名聲四起。

有一句話說得好，當(dāng)一個人站在巔峰的時候，也是他要開始走下坡路的時候了。外媒目前對于ASML都一致不看好，表示：“ASML的時代正在宣告結(jié)束?！蹦敲?，究竟是發(fā)生了什么事使得外界有如此看法呢?

目前，很多芯片廠商都已經(jīng)暫停了對新型芯片的工藝升級，就拿蘋果為例，目前最新款的蘋果13仍然使用的是A15芯片，而Pro使用的則是A16芯片，而蘋果官宣下款新手機(jī)仍然會使用A15，而不會大量替換為A16。從目前的情況來說，5nm的芯片已經(jīng)能夠滿足新型手機(jī)以及電子設(shè)備的需求了，再大量更換最新的芯片也并不會有質(zhì)的飛躍，所以很多公司為了節(jié)省成本，暫停了對新型芯片的更換升級。那么，取消了對新型芯片的研發(fā)工作，自然就用不到最新款的光刻機(jī)了，因此ASML公司會比較難受。

并且，ASML公司的EUV光刻機(jī)成本巨大，一款EUV光刻機(jī)的成本就要數(shù)十億，很多公司對此都望而卻步。而我國公司更是通過技術(shù)手段實現(xiàn)了不用EUV光刻機(jī)也能制造芯片的能力。這些年，很多半導(dǎo)體業(yè)界都開始推廣NIL光刻機(jī)，這是一款價格便宜耗電少，但是性能與EUV幾乎相差無幾的光刻機(jī)，所以遭到了很多企業(yè)的喜愛。這也就表示ASML公司的EUV光刻機(jī)將會失去更多的市場。