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[導(dǎo)讀]光掩模屬于高端半導(dǎo)體材料,在光刻環(huán)節(jié),利用掩膜版上已設(shè)計好的圖案,通過透光與非透光的方式進(jìn)行圖像復(fù)制,從而實現(xiàn)批量生產(chǎn),其功能類似相機“底片”,占據(jù)全球晶圓制造材料的12%,根據(jù)2020年晶圓制造市場規(guī)模349億美元測算,全球半導(dǎo)體光掩模市場規(guī)模在41.9億美元左右。

光掩模屬于高端半導(dǎo)體材料,在光刻環(huán)節(jié),利用掩膜版上已設(shè)計好的圖案,通過透光與非透光的方式進(jìn)行圖像復(fù)制,從而實現(xiàn)批量生產(chǎn),其功能類似相機“底片”,占據(jù)全球晶圓制造材料的12%,根據(jù)2020年晶圓制造市場規(guī)模349億美元測算,全球半導(dǎo)體光掩模市場規(guī)模在41.9億美元左右。

光掩模上游主要是光刻機、研磨基板相關(guān)抗蝕劑等,掩膜基板的生產(chǎn)完成后,進(jìn)入中游光掩模版制造商,在玻璃基板基礎(chǔ)上進(jìn)行研磨、拋光、鍍鉻、涂膠等生產(chǎn)環(huán)節(jié),需要較高的技術(shù)門檻,而后才能成為合格的電子元器件。下游主要為半導(dǎo)體和平板顯示等,目前全球范圍內(nèi)半導(dǎo)體是主要需求結(jié)構(gòu)。

就全球光掩模板市場規(guī)模而言,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體需求持續(xù)擴張,全球光掩模板規(guī)模表現(xiàn)為穩(wěn)步增長趨勢,行業(yè)整體技術(shù)壁壘深厚,產(chǎn)業(yè)集中度高,龍頭議價能力高,利潤水平高,數(shù)據(jù)顯示,2020年全球光掩膜版市場規(guī)模達(dá)41.88億美元。

頂尖的晶圓制造廠商通常會使用自制的掩模版,如臺積電、英特爾、三星等龍頭廠商,晶圓廠自供以外,這部分市場主要為美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷。而國內(nèi)半導(dǎo)體掩模版行業(yè)發(fā)展較為落后,除了中芯國際等代工廠會自制掩模版外,尚無商業(yè)掩模版公司可在IC領(lǐng)域掩模版實現(xiàn)較好的突破,僅部分公司在面板領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)較好的技術(shù)和客戶突破,而半導(dǎo)體領(lǐng)域極度依賴海外進(jìn)口。

光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備,如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。

關(guān)于光掩?;孢@幾個字行業(yè)內(nèi)大佬們也是字字斟酌、修改過幾個版本,最終訂下了光掩模基版,如截圖所示,文本提示錯別字糾正,那我就要掰扯一下了,掩模版的版字沒有錯,在光刻或者蝕刻圖形時,機臺都有固定的加工尺寸,所需圖形在不同規(guī)格中進(jìn)行排版,最終做出來的圖形稱做版,一版中可以涵蓋不同的圖形,圖形整版使用或者裁切都可以.

如今,芯片需求全面強勁。例如,28nm 平面產(chǎn)品仍然是按節(jié)點計算的最大市場之一。聯(lián)華電子在最近一個季度的 28nm 技術(shù)收入增長了 75%?!?5% 的收入同比增長反映了與 5G、物聯(lián)網(wǎng)和汽車相關(guān)的強勁芯片需求,”聯(lián)電聯(lián)席總裁 Jason Wang 表示。

其他節(jié)點也有需求?!叭绻憧纯疵總€節(jié)點在哪里建造晶圓廠,它不僅僅是 3nm。幾乎每個節(jié)點都在以某種形式增加產(chǎn)能,”Toppan 的 Caverly 說?!?8nm 是一個高需求節(jié)點。在 40nm 到 65nm,您會看到先進(jìn)的射頻、混合信號和某些邏輯的最佳點。您還看到了 110nm 至 130nm 范圍內(nèi)的活動,這是通用、混合信號和模擬類型的產(chǎn)品?!?

8月19日上午,南湖高新區(qū)微電子產(chǎn)業(yè)又添一員“猛將”——由中芯國際創(chuàng)始人、青島恩芯創(chuàng)始人張汝京主導(dǎo)的光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈項目簽約儀式在浙江嘉興科技城(南湖高新區(qū))智立方舉行?!霸?G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等產(chǎn)業(yè)快速壯大的拉動下,全球半導(dǎo)體市場蓬勃發(fā)展,光罩作為芯片的關(guān)鍵原材料,市場需求不斷上升?!奔闻d立恩半導(dǎo)體科技有限公司項目總聯(lián)絡(luò)人鄒才明表示,本項目的設(shè)立,旨在成為國內(nèi)光罩上游材料龍頭,填補國內(nèi)該方面的技術(shù)空白。

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