今年 6 月的時候，荷蘭政府正式宣布了針對先進半導體設備出口的新規(guī)，即相關企業(yè)(ASML)在出口先進半導體設備之前必須獲得政府的許可證，否則將被禁止。該規(guī)定已于上周五（9 月 1 日）生效，但近日荷蘭政府通過了 ASML 的許可證，即年底之前 ASML 的先進浸沒式深紫外光刻設備 (DUV) 將繼續(xù)出口中國。

ASML 的發(fā)言人表示，出口限制確實從 9 月份開始實施，但該公司已獲得在今年年底之前向中國運送受限制芯片制造機器的許可。這表明年底之前的這段時間是一個緩沖期，預計從明年開始將不會起獲得出口三款先進浸沒式深紫外光刻設備 (DUV) 型號的出口許可證。

也就是說，在新的出口管制條例下，今年年底前ASML仍然能夠履行與客戶簽訂的合同，之后就大概率不被允許了。但 ASML 表示出口管制條例不會對其 2023 年財務展望或長期展望產(chǎn)生實質(zhì)性影響。

據(jù)悉，當時的出口新規(guī)只涉及部分最新的 DUV(深紫外)型號，包括 TWINSCAN NXT:2000i 以及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)，EUV(極紫外)光刻系統(tǒng)在此前就已經(jīng)受到限制，而其他系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。

根據(jù) ASML 官網(wǎng)顯示，其浸潤式 DUV 光刻系統(tǒng)包括NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i 和 TWINSCAN NXT:2050i 三款設備。它們能夠進行 38nm-45nm 制程工藝的晶圓加工，這其中 2000i 和 2050i 兩款是出口限制新規(guī)中點名的設備產(chǎn)品。

此外，能夠進行 45nm 以上晶圓加工的，比如 65nm-220nm 制程的干式 DUV 光刻設備(TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等型號)均不在荷蘭政府的出口管制清單之內(nèi)。

ASML 執(zhí)行副總裁兼首席商務官 Christophe·Fouquet 在接受采訪時表示，全球半導體供應鏈當中，任何單一國家想要與別人分開是極其困難和需要巨大成本的。

美國從去年開始，在半導體領域?qū)嵤┝艘幌盗袑θA出口管制措施，然而并未達到其預期效果。隨后美國開始游說拉攏荷蘭日本等幾個重度參與半導體產(chǎn)業(yè)的國家來加強其措施。

今年第二季度，日本正式出臺半導體出口管制措施，包含半導體生產(chǎn)過程中的光刻、刻蝕、熱處理、清洗、檢測等 6 大類 23 種半導體制造設備/材料，清單中受管制物品在向中國大陸和俄羅斯等地區(qū)出口時，需要獲得日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省的許可證。