1月7日消息，Intel官方宣布，位于俄勒岡州的晶圓廠已經(jīng)收到ASML發(fā)貨的全球第一臺高NA(數(shù)值孔徑) EUV極紫外光刻機，型號為“Twinscan EXE:5000”，它將幫助Intel繼續(xù)推進摩爾定律。

Intel早在2018年就向ASML訂購了這種新一代光刻機，將用于計劃今年量產(chǎn)的Intel 18A制造工藝，也就是1.8nm級別。

Intel還第一個下單了改進型的Twinscan EXE:5200，將在2025-2026年用于更先進工藝。

根據(jù)此前報道，ASML將在2024年生產(chǎn)最多10臺新一代高NA EUV光刻機，其中Intel就定了多達6臺。

到了2027-2028年，ASML每年都能生產(chǎn)20臺左右的高NA EUV光刻機。

新光刻機的價格估計至少3億美元，甚至可能達到或超過4億美元，也就是逼近人民幣30億元，而現(xiàn)有低NA EUV光刻機需要2億美元左右。