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[導(dǎo)讀] 從產(chǎn)品開(kāi)發(fā)進(jìn)度來(lái)看,Micro LED近在咫尺,但從商用化時(shí)間來(lái)看,Micro LED又遠(yuǎn)在天涯。從最初的萌芽期發(fā)展到現(xiàn)階段,Micro LED技術(shù)取得了很大的進(jìn)步,市場(chǎng)上相關(guān)產(chǎn)品也相繼浮出水面

從產(chǎn)品開(kāi)發(fā)進(jìn)度來(lái)看,Micro LED近在咫尺,但從商用化時(shí)間來(lái)看,Micro LED又遠(yuǎn)在天涯。從最初的萌芽期發(fā)展到現(xiàn)階段,Micro LED技術(shù)取得了很大的進(jìn)步,市場(chǎng)上相關(guān)產(chǎn)品也相繼浮出水面,但由于技術(shù)瓶頸和成本問(wèn)題,Micro LED距離廣泛普及還有很久。

根據(jù)集邦咨詢(xún)LED研究中心(LEDinside)最新研究報(bào)告《2019 Micro LED次世代顯示關(guān)鍵技術(shù)報(bào)告》,Micro LED技術(shù)雖面臨眾多的挑戰(zhàn),但對(duì)比兩年前,目前的技術(shù)進(jìn)展已經(jīng)進(jìn)步許多,早期的專(zhuān)利技術(shù)已經(jīng)有實(shí)體樣品展示機(jī)的出現(xiàn)。隨著Micro LED技術(shù)的成熟,Micro LED商品化將逐漸加快。另外,Micro LED制造流程繁瑣及要求更加精細(xì),制程中所使用的原材料、制程耗材、生產(chǎn)設(shè)備、檢測(cè)儀器及輔助治具等,需求規(guī)格嚴(yán)謹(jǐn)且精密度相對(duì)嚴(yán)格。

Micro LED的商用化,制程中的每個(gè)息息相關(guān)的環(huán)節(jié)都很重要,例如LED外延片制造的關(guān)鍵核心設(shè)備MOCVD。總部位于德國(guó)的MOCVD設(shè)備供應(yīng)商愛(ài)思強(qiáng)一直致力于研發(fā)外延片等方面的技術(shù),旨在推動(dòng)Micro LED的大規(guī)模量產(chǎn)化,加速M(fèi)icro LED產(chǎn)品應(yīng)用打入市場(chǎng)。

關(guān)于Micro LED的應(yīng)用,愛(ài)思強(qiáng)認(rèn)為,TV顯示面板將會(huì)是首先打開(kāi)市場(chǎng)的商業(yè)化產(chǎn)品。其次,車(chē)用顯示也是未來(lái)Micro LED比較大的應(yīng)用市場(chǎng)。隨著客戶(hù)要求提高,升級(jí)車(chē)內(nèi)顯示的需求逐漸增多,如車(chē)內(nèi)外信息的動(dòng)態(tài)顯示以及營(yíng)造氛圍增加人車(chē)互動(dòng)等。其他應(yīng)用市場(chǎng)包括智能手機(jī)、AR/VR、可穿戴式設(shè)備等。

良率和成本是阻礙Micro LED大規(guī)模量產(chǎn)的兩大因素

愛(ài)思強(qiáng)表示,現(xiàn)階段,與LCD和OLED相比,Micro LED不具備成本優(yōu)勢(shì)。降低成本涉及許多因素,如缺陷率和良率。由于Micro LED芯片尺寸超小,技術(shù)難度大,良率難以保證,故成本居高不下。尤其是紅光的處理,因受限于材料與特性,紅光良率低且可靠性不高,因此成本極高。

作為L(zhǎng)ED外延片制造的關(guān)鍵核心設(shè)備,MOCVD外延片生產(chǎn)良率涉及波長(zhǎng)均勻性、翹曲管理(Bow Management)以及缺陷密度(Defects Density)等。

以傳統(tǒng)顯示LED芯片為例,分選環(huán)節(jié)占的成本比例較大,若能去掉此環(huán)節(jié),成本將下降不少。至于Micro LED,由于生產(chǎn)流程及成本的問(wèn)題,不可能存在分選環(huán)節(jié),這就表明對(duì)波長(zhǎng)均勻性的要求很高。為了實(shí)現(xiàn)Micro LED量產(chǎn),MOCVD設(shè)備生產(chǎn)的所有外延片的波長(zhǎng)范圍需在4nm以?xún)?nèi)。

翹曲管理方面,愛(ài)思強(qiáng)認(rèn)為,Micro LED會(huì)往6英寸以上方向發(fā)展,而6英寸的翹曲管理與4英寸的差別很大。無(wú)論是硅襯底或是藍(lán)寶石襯底,都需要特殊的外延工藝來(lái)達(dá)到穩(wěn)定的翹曲性能。

若波長(zhǎng)均勻性保持在4nm范圍內(nèi),翹曲管理小于50μm,缺陷密度控制在0.15/cm2以?xún)?nèi),生產(chǎn)良率就能夠得到保證。

MOCVD的C2C和In-Situ Cleaning技術(shù),助力Micro LED商用化

在實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能及低成本方面,愛(ài)思強(qiáng)的自動(dòng)卡匣式(C2C)晶圓傳輸模塊技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)8x6英寸或5x8英寸GaN-on-Si晶圓在封閉的卡匣環(huán)境中的自動(dòng)加載和移除,提高產(chǎn)量的同時(shí)保證了外延片的顆粒密度。

圖1: G5+C C2C傳輸模塊

此外,愛(ài)思強(qiáng)MOCVD設(shè)備具備自動(dòng)原位清潔(In-Situ Cleaning)技術(shù),該技術(shù)可確保設(shè)備在每次運(yùn)行時(shí)都處于清潔狀態(tài),保證了外延片的低缺陷密度率并顯著減少停機(jī)維護(hù)時(shí)間,保證高良率,從而降低生產(chǎn)成本。

據(jù)介紹,自動(dòng)原位清潔技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)是一個(gè)標(biāo)配技術(shù),但在MOCVD設(shè)備圈內(nèi),此技術(shù)還未普及,原因如下:氮化鎵分解溫度很高,達(dá)1400—1500攝氏度。如果是在氯氣情況下,此溫度會(huì)相對(duì)降低,可到900攝氏度左右,包括表面以及腔體所有的面都需降到這個(gè)溫度,這對(duì)MOCVD設(shè)備廠(chǎng)商來(lái)說(shuō)極具挑戰(zhàn)性。目前,很多MOCVD設(shè)備采用不銹鋼結(jié)構(gòu),不銹鋼需要用水冷卻,這與900攝氏度相互矛盾。而愛(ài)思強(qiáng)的MOCVD設(shè)備采用的是全石墨的腔體,可以保證表面沉積穩(wěn)定,也可以保證石墨能夠被加熱到900攝氏度以上。

愛(ài)思強(qiáng)表示,MOCVD設(shè)備的這兩大技術(shù)都是實(shí)現(xiàn)Micro LED高良率和低成本的關(guān)鍵技術(shù)。傳統(tǒng)的LED生產(chǎn)需向更自動(dòng)化的生產(chǎn)模式轉(zhuǎn)變,才能保證高良率,降低成本,加快Micro LED的大規(guī)模量產(chǎn)。

圖2: AIX G5+C 行星式反應(yīng)器

據(jù)了解,愛(ài)思強(qiáng)搭載自動(dòng)卡匣(C2C)和自動(dòng)原位清潔技術(shù)的行星式反應(yīng)器平臺(tái)獲得了多家客戶(hù)的訂單,極高地優(yōu)化了外延片的良率及生產(chǎn)自動(dòng)化水平。

未來(lái),愛(ài)思強(qiáng)將繼續(xù)投入技術(shù)研發(fā)工作,助力Micro LED的商用化。

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