集成光學(xué)發(fā)展初期，田炳耕曾對集成光學(xué)作了三條定義：（1）光波導(dǎo)能限制光束在其中傳播。（2）利用光波導(dǎo)可制成各種光波導(dǎo)器件；（3）將光波導(dǎo)和光波導(dǎo)器件集成起來可構(gòu)成有特定功能的集成光路。 集成光學(xué)在一開始就將光纖通信作為其主要應(yīng)用目標之一。

　　集成光學(xué)器件伴隨著光纖通信的興起和發(fā)展已經(jīng)走過了幾十年。集成光學(xué)器件不僅成為光纖網(wǎng)絡(luò)的重要組成部分，而且也促使光纖通信容量爆炸性增長、光纖通信技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，加上集成光學(xué)器件技術(shù)的進一步發(fā)展和成熟還將掀起光纖通信技術(shù)及其相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新高潮。

　　發(fā)展歷程

　　集成光學(xué)基于薄膜能夠傳輸光頻波段的電磁能的原理。故其誕生主要受微波工程和薄膜光學(xué)的影響。在1962年前，平面介質(zhì)波導(dǎo)已應(yīng)用于微波工程中，但直到1965年才由Anderson和他的研究小組把微波理論和光刻技術(shù)結(jié)合起來制作出應(yīng)用于紅外區(qū)域的薄膜波導(dǎo)和其它平面器件和光路。1969年，貝爾實驗室的S.E Miller首次提出了“集成光學(xué)”（integrated opTIcs）的概念，宣告了大力研究和發(fā)展光通信用的完善而可靠的薄膜技術(shù)的開始。

　　上世紀70年代初，研究人員對制作波導(dǎo)的材料和制作工藝作了大量的研究。此間，發(fā)光二極管（LED）、激光二極管（LD）、光纖的制造技術(shù)取得了很大進展。光纖傳播損耗的降低加速了光纖通信系統(tǒng)的發(fā)展。70年代晚期，和光纖通信相關(guān)的技術(shù)進一步成熟，企業(yè)和研究機構(gòu)開始集中發(fā)展光纖通信系統(tǒng)；對集成光學(xué)的研究反而減少了，他們認為集成光學(xué)器件的商品化在近期內(nèi)難以實現(xiàn)。80年代研究人員開始重新關(guān)注集成光學(xué)的發(fā)展，因為光纖通信系統(tǒng)中的分立元件較難準直，且其性能又不夠穩(wěn)定。

　　平面光波導(dǎo)器件的分類

　　光波導(dǎo)是集成光學(xué)的重要基礎(chǔ)性部件，它能將光波束縛在光波長量級尺寸的介質(zhì)中。用集成光學(xué)工藝制成的各種平面光波導(dǎo)器件，有的還要在一定的位置上沉積電極，兩端接上電壓，用以控制在波導(dǎo)中傳輸?shù)墓獠ǖ南辔换驈姸?。然后，光波?dǎo)再與光纖或光纖陣列耦合。激光信號在光波導(dǎo)中耦合、傳輸、調(diào)制。

　　光波導(dǎo)器件按其組成材料可分為四種基本類型：鈮酸鋰鍍鈦光波導(dǎo)、硅基二氧化硅光波導(dǎo)、InGaAsP/InP光波導(dǎo)和聚合物光波導(dǎo)。

　　LiNbO3晶體的電光、聲光及非線性光學(xué)系數(shù)較大，材料的化學(xué)性能穩(wěn)定。其晶體生長成本低且易長出大尺寸的單晶，適合制作各種調(diào)制、耦合和傳輸元件，但不能做光源和探測器。是集成光學(xué)最常用的晶體材料。

　　鈮酸鋰鍍鈦光波導(dǎo)的主要工藝是：首先在鈮酸鋰基體上用蒸發(fā)沉積或濺射沉積的方法鍍上鈦膜，然后進行光刻，形成所需要的光波導(dǎo)圖形，再進行擴散，可以采用外擴散、內(nèi)擴散、質(zhì)子交換和離子注入等方法來實現(xiàn)。最后沉積上二氧化硅保護層，制成平面光波導(dǎo)。該波導(dǎo)的損耗一般為0.2-0.5dB/cm；調(diào)制器和開關(guān)的驅(qū)動電壓一般為10V左右；一般的調(diào)制器帶寬為幾個GHz，采用行波電極的LiNbO3光波導(dǎo)調(diào)制器，帶寬已達50GHz以上。

　　現(xiàn)在對LiNbO3光波導(dǎo)器件的研究，主要是為了進一步提高LiNbO3調(diào)制器的工作速率以及開發(fā)具有其它功能的LiNbO3器件和集成模塊，如TI:Er:LiNbO3激光器、攙Er光波導(dǎo)放大器和LiNbO3光波導(dǎo)開關(guān)等。

　　硅基二氧化硅光波導(dǎo)是20世紀90年代發(fā)展起來的新技術(shù)。其制作需要沉積較厚的二氧化硅層，通過加入鍺等摻雜劑，或者是加入氮氣生成氮氧化物，可以對膜層的折射率進行調(diào)整。還可以在氧化物中加入其它物質(zhì)，如加入硼和磷即可生成硼磷硅酸鹽玻璃（BPSG）。

　　國外此技術(shù)已比較成熟。其制造工藝有：火焰水解法（FHD）、化學(xué)氣相淀積法（CVD，NEC公司開發(fā)）、等離子增強CVD法（FECVD，朗訊公司開發(fā)）、反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)（RIE）、多孔硅氧化法和熔膠－凝膠法（Sol-gel）。該波導(dǎo)的損耗很小，約為0.02dB/cm。

　　基于磷化銦（InP）的InGaAsP/InP光波導(dǎo)可與InP基的有源與無源光器件及InP基微電子回路集成在同一基片上，但其與光纖的耦合損耗較大?！?/p>

　　聚合物波導(dǎo)的熱光系數(shù)和電光系數(shù)都比較大，很適合于研制高速光波導(dǎo)開關(guān)、AWG等。 聚合物材料可淀積在任何半導(dǎo)體材料上，為制作電光調(diào)制器提供了方便。此外，由于聚合物的相對介電系數(shù)低，為制作高速寬帶行波結(jié)構(gòu)提供了方便。由于有機聚合物的制備工藝與半導(dǎo)體的相容，因而器件的制備非常簡單。德國HHI公司利用這種波導(dǎo)研制成功的AWG在25-65℃的波長漂移僅為±0.05nm。

　　需指出的是，在上述四種平面光波導(dǎo)器件中，除了LiNbO3平面光波導(dǎo)器件外，其余三種光波導(dǎo)器件目前都尚未成熟，仍處于研發(fā)階段。

　　光纖通信用之集成光學(xué)器件

　　目前，光纖通信中用得最多的集成光學(xué)器件主要有：光耦合器（Coupler、Splitter）、光調(diào)制器、光開關(guān)、可調(diào)諧光濾波器(OTF)等。

光耦合器

　　光耦合器是實現(xiàn)光信號分路/合路的功能器件，一般是對同一波長的光功率進行分路和合路。用于光纖通信的耦合器分為：光纖熔錐型耦合器、微機電元件型(MEMS)耦合器和集成光波導(dǎo)型耦合器。這里介紹集成光波導(dǎo)型耦合器。

　　采用平面光波導(dǎo)技術(shù)能做成不同結(jié)構(gòu)與功能的集成光波導(dǎo)型耦合器，其主要工藝過程有：沉積、光刻、擴散。圖1所示為最簡單的Y形（1&TImes;2）分支耦合器的基本結(jié)構(gòu)。