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[導(dǎo)讀]Multibeam Corporation 確認(rèn)已開始一項(xiàng)雄心勃勃的項(xiàng)目,以應(yīng)用其創(chuàng)新的Multicolumn電子束光刻技術(shù)(MEBL)對45nm及更大節(jié)點(diǎn)上的整個(gè)晶圓進(jìn)行構(gòu)圖,無需使用任何光罩,即可進(jìn)行后端(BEOL)處理。

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Multibeam Corporation 確認(rèn)已開始一項(xiàng)雄心勃勃的項(xiàng)目,以應(yīng)用其創(chuàng)新的Multicolumn電子束光刻技術(shù)(MEBL)對45nm及更大節(jié)點(diǎn)上的整個(gè)晶圓進(jìn)行構(gòu)圖,無需使用任何光罩,即可進(jìn)行后端(BEOL)處理。這份由美國國防部(DoD)資助,由懷特·帕特森空軍基地(Wright-Patterson Air Force Base)的空軍研究實(shí)驗(yàn)室(AFRL)計(jì)劃管理的合同,總額為3,800萬美元,包括美國政府可以選擇從Multibeam購買另一套MEBL生產(chǎn)系統(tǒng)的合同。

Multibeam董事長兼首席執(zhí)行官David K. Lam博士說:“該合同授予以及我們根據(jù)先前的DoD合同正在開發(fā)的??安全芯片ID應(yīng)用程序凸顯了我們創(chuàng)新的MEBL平臺的多功能性?!斑@兩個(gè)應(yīng)用程序都旨在在我們的MEBL生產(chǎn)系統(tǒng)上運(yùn)行?!?/span>


確保和受信任的代工廠通常為國防部生產(chǎn)“小批量,高混合量”芯片。但是,光學(xué)光刻設(shè)備的領(lǐng)導(dǎo)者對如此少量的種類繁多的芯片幾乎沒有興趣,因?yàn)樗麄兊臉I(yè)務(wù)面向大批量生產(chǎn)。此外,仍然需要具有“成熟”節(jié)點(diǎn)的早期芯片。盡管用于此類節(jié)點(diǎn)的掩碼的價(jià)格較低,但與掩碼相關(guān)的成本確實(shí)會增加。需求較少的掩模通常需要很長的交貨時(shí)間,對生產(chǎn)中的晶圓廠生產(chǎn)率以及新芯片開發(fā)中的學(xué)習(xí)周期產(chǎn)生負(fù)面影響。

物聯(lián)網(wǎng)芯片通常是執(zhí)行特定任務(wù)的小型,簡單的SoC,并且在Internet上無處不在。此類芯片因大多數(shù)政府,商業(yè),工業(yè)和消費(fèi)類產(chǎn)品中IC含量的急劇增加而得到認(rèn)可??傮w而言,物聯(lián)網(wǎng)芯片制造商是大批量生產(chǎn)商。但是它們的批量相對較小,因?yàn)槲锫?lián)網(wǎng)應(yīng)用多種多樣且物聯(lián)網(wǎng)市場分散。在這個(gè)對成本敏感的市場中競爭是一個(gè)真正的挑戰(zhàn)。然而,小批量,成熟節(jié)點(diǎn)的物聯(lián)網(wǎng)芯片制造商很少獲得光學(xué)光刻設(shè)備領(lǐng)導(dǎo)者的支持,這些設(shè)備主要致力于尖端節(jié)點(diǎn)的大批量生產(chǎn)。結(jié)果,自2007年光學(xué)分辨率達(dá)到極限以來,DUV(193nm ArF干法或浸入式)光刻系統(tǒng)的進(jìn)展很少。

Lam博士說:“隨著IC的激增,PC和手機(jī)等傳奇性的“殺手級應(yīng)用”正被眾多物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用(數(shù)字和模擬)所取代?!氨M管光刻設(shè)備領(lǐng)導(dǎo)者忽略了“小批量”,但Multibeam認(rèn)為這一領(lǐng)域是巨大的機(jī)會。我們通過創(chuàng)新的多功能MEBL平臺支持這些服務(wù)水平低下但發(fā)展迅速的市場。今天宣布的全晶圓全無掩模構(gòu)圖計(jì)劃和已經(jīng)開始的安全芯片ID嵌入將引領(lǐng)這一潮流。”


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半導(dǎo)體快評

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