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[導讀]近日在臺積電 2021 開放創(chuàng)新平臺?(OIP)生態(tài)系統(tǒng)論壇上,西門子數(shù)字化工業(yè)軟件公布了一系列與臺積電攜手交付的新產品認證,雙方已在云上 IC 設計以及臺積電 3D 硅堆疊和先進封裝技術系列——3DFabric? 方面達到了關鍵里程碑。

近日在臺積電 2021 開放創(chuàng)新平臺?(OIP)生態(tài)系統(tǒng)論壇上,西門子數(shù)字化工業(yè)軟件公布了一系列與臺積電攜手交付的新產品認證,雙方已在云上 IC 設計以及臺積電 3D 硅堆疊和先進封裝技術系列——3DFabric? 方面達到了關鍵里程碑。

西門子與臺積電深化合作,不斷攀登設計工具認證高峰

近期獲得臺積電 N3 和 N4 工藝認證的西門子 EDA 產品包括 Calibre?nmPlatform ——用于 IC sign-off 的領先物理驗證解決方案;以及 Analog FastSPICE? 平臺——專為納米級模擬、射頻(RF)、混合信號、存儲器和定制數(shù)字電路提供快速電路驗證。同時,西門子還與臺積電密切合作,針對西門子 Aprisa? 布局布線解決方案進行先進工藝認證,以幫助共同客戶在晶圓廠最先進的工藝上順利、快速地實現(xiàn)芯片成功。

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件 IC-EDA 執(zhí)行副總裁 Joe Sawicki 表示:“臺積電持續(xù)創(chuàng)新芯片工藝,在其幫助下,我們的共同客戶能夠迎合市場需求,不斷推出世界領先的 IC 產品。西門子很榮幸能與臺積電長期合作,持續(xù)提供推動改變的技術,助力客戶將這些 IC 創(chuàng)新產品更快地推向市場?!?

西門子對臺積電的最新工藝支持承諾更延伸至臺積電的 3DFabric 技術。目前,西門子已成功滿足臺積電尖端 3DFabric 設計流程的設計要求。在鑒定過程中,西門子改進了其 Xpedition? Package Designer(xPD)工具,支持使用自動避免和校正功能進行扇出型晶圓級封裝(InFO)設計規(guī)則處理。此外,Calibre 3DSTACK、DRC 和 LVS 也獲得了臺積電最新的 3DFabric 技術(包括 InFO、CoWoS? 和 TSMC-SoIC?)的支持與認證。對于客戶來說,這些通過 3DFabric 認證的西門子 EDA 工具將助其縮短設計和簽核(signoff)周期,并減少與人工干預相關的錯誤。

此外,西門子還與臺積電合作,為臺積電的 3D 硅堆疊架構開發(fā)可測試性設計(DFT)流程。西門子的 Tessent? 軟件提供了基于層次化 DFT、SSN(Streaming Scan Network)、增強型 TAP(測試接入端口)和 IEEE 1687 IJTAG(內部聯(lián)合測試行動小組)網絡技術的領先 DFT 解決方案,所有這些技術都符合 IEEE 1838 標準。Tessent 解決方案具備可擴展、靈活性和易用性等特點,旨在幫助客戶優(yōu)化與 IC 測試技術相關的資源。

臺積電設計基礎架構管理事業(yè)部副總裁 Suk Lee 表示:“西門子持續(xù)提供完善的解決方案支持臺積電最先進的技術,對臺積電 OIP 生態(tài)系統(tǒng)的價值也在不斷提升。我們期待與西門子繼續(xù)深化合作,結合西門子領先的電子設計自動化(EDA)技術與臺積電的最新工藝和 3DFabric 技術,幫助雙方共同客戶加快芯片創(chuàng)新。”

近期,西門子與臺積電還攜手幫助一家全球領先的 IC 設計公司利用 Calibre 工具在領先的云計算環(huán)境中大幅提升性能和擴展性。Calibre 針對云端環(huán)境將最新設置、規(guī)則集(deck)和引擎等多項技術進行了優(yōu)化,以幫助共同客戶縮短流片時間并加快上市速度。欲了解更多信息,請觀看西門子臺積電 2021 OIP 生態(tài)系統(tǒng)論壇中的技術演示。

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