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IBM與三星將共同開發(fā)20nm以后工藝研究人員將會(huì)聚奧爾巴尼

時(shí)間：2011-01-18 06:01:00
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[導(dǎo)讀]美國(guó)IBM與韓國(guó)三星電子宣布，決定共同開發(fā)20nm以后的半導(dǎo)體工藝。開發(fā)的工藝將用于兩公司的制造受托（代工）業(yè)務(wù)等。 此前兩公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域就一直在進(jìn)行各種合作。其中，邏輯工藝的共同開發(fā)從2005年開始，開發(fā)

美國(guó)IBM與韓國(guó)三星電子宣布，決定共同開發(fā)20nm以后的半導(dǎo)體工藝。開發(fā)的工藝將用于兩公司的制造受托（代工）業(yè)務(wù)等。

此前兩公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域就一直在進(jìn)行各種合作。其中，邏輯工藝的共同開發(fā)從2005年開始，開發(fā)出了65nm、45nm及32nm工藝。據(jù)稱，此次就是這種共同開發(fā)的進(jìn)一步發(fā)展。

例如，將形成一種更密切、從更深的基礎(chǔ)研發(fā)開始的共同開發(fā)體制等。三星的研究開發(fā)人員將在位于紐約州奧爾巴尼的奧爾巴尼納米技術(shù)研究中心（Albany Nanotech Complex），與從事半導(dǎo)體研發(fā)聯(lián)盟（Semiconductor Research Alliance）工作的IBM的研究開發(fā)人員匯聚一堂，開發(fā)新材料、晶體管構(gòu)造及安裝技術(shù)。開發(fā)的工藝旨在適用于移動(dòng)計(jì)算及云計(jì)算等廣泛的領(lǐng)域。

發(fā)布資料中介紹了三星的ES Jung（LSI系統(tǒng)部門技術(shù)研發(fā)高級(jí)副總裁）和IBM的邁克爾·卡迪甘（Michael Cadigan，微電子部門總經(jīng)理）的發(fā)言。兩人均強(qiáng)調(diào)了從基礎(chǔ)研究開始共同開發(fā)的意義。（記者：小島 郁太郎）

來源：技術(shù)在線

作者：zhaobin

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