[導讀]DRAM今年約成長33%Flash會到48%
全球半導體設備大廠艾斯摩爾（ASML）財務長韋尼克（PeterWennink）12日指出，第四季晶圓代工、記憶體產(chǎn)能供需都將趨于平衡，這代表晶圓廠必須持續(xù)下設備訂單，明、后年半導體產(chǎn)
DRAM今年約成長33%Flash會到48%
全球半導體設備大廠艾斯摩爾（ASML）財務長韋尼克（PeterWennink）12日指出，第四季晶圓代工、記憶體產(chǎn)能供需都將趨于平衡，這代表晶圓廠必須持續(xù)下設備訂單，明、后年半導體產(chǎn)業(yè)景氣將進入一個新的上升循環(huán)。
韋尼克解釋，明、后年半導體產(chǎn)業(yè)景氣將進入一個新的上升循環(huán)，這符合過去五、六年來ASML的成長軌跡，經(jīng)過一年調(diào)整期后，接著會經(jīng)歷兩、三年的二位數(shù)成長。他說，產(chǎn)業(yè)平均的年成長率在8%至10%，ASML的成長將超過整體產(chǎn)業(yè)平均值。
ASML20年前進入微影設備產(chǎn)業(yè)，當時的市場占有率是零。20年來，透過有效的價值委外（Valuesourcing）與并購策略，成為全球最大的微影設備廠，日本以外的市占率超過七成，公司總市值更超過90億歐元。
韋尼克說，ASML截至今年第一季底的在手訂單達21.63億歐元，再創(chuàng)新高，訂單數(shù)量共148套，平均接單價格則因為浸潤（immersion）等先進設備增加，已提升至1,460萬歐元。他估計有78%的在手訂單，將在第二季、第三季出貨。
ASML的浸潤微影設備目前出貨超過45套，可讓制程微縮到40奈米以下，其中有25套出貨到亞洲。ASML市場與技術(shù)資深副總裁白靈克（MartinBrink）指出，客戶采用浸潤設備生產(chǎn)的晶圓已超過120萬片，日產(chǎn)出也超過1,000片。
ASML維荷芬總部與設在臺灣的全球卓越創(chuàng)新中心（ACE）正在擴建潔凈室，預計2008年，光是維荷芬總部將增加約24%的面積。韋尼克表示，除了客戶的需求已見回升，也是為準備極紫外光微影（EUV）設備的生產(chǎn)使用。
ASML的臺灣晶圓代工客戶包括臺積電、聯(lián)電；記憶體客戶有南科、華亞科、力晶、茂德等。韋尼克表示，根據(jù)客戶端的訊息，晶圓代工廠第二季產(chǎn)能利用率已回升，DRAM今年成長估計在33%、Flash會到48%。
韋尼克解釋，明、后年半導體產(chǎn)業(yè)景氣將進入一個新的上升循環(huán)，這符合過去五、六年來ASML的成長軌跡，經(jīng)過一年調(diào)整期后，接著會經(jīng)歷兩、三年的二位數(shù)成長。他說，產(chǎn)業(yè)平均的年成長率在8%至10%，ASML的成長將超過整體產(chǎn)業(yè)平均值。
ASML20年前進入微影設備產(chǎn)業(yè)，當時的市場占有率是零。20年來，透過有效的價值委外（Valuesourcing）與并購策略，成為全球最大的微影設備廠，日本以外的市占率超過七成，公司總市值更超過90億歐元。
韋尼克說，ASML截至今年第一季底的在手訂單達21.63億歐元，再創(chuàng)新高，訂單數(shù)量共148套，平均接單價格則因為浸潤（immersion）等先進設備增加，已提升至1,460萬歐元。他估計有78%的在手訂單，將在第二季、第三季出貨。
ASML的浸潤微影設備目前出貨超過45套，可讓制程微縮到40奈米以下，其中有25套出貨到亞洲。ASML市場與技術(shù)資深副總裁白靈克（MartinBrink）指出，客戶采用浸潤設備生產(chǎn)的晶圓已超過120萬片，日產(chǎn)出也超過1,000片。
ASML維荷芬總部與設在臺灣的全球卓越創(chuàng)新中心（ACE）正在擴建潔凈室，預計2008年，光是維荷芬總部將增加約24%的面積。韋尼克表示，除了客戶的需求已見回升，也是為準備極紫外光微影（EUV）設備的生產(chǎn)使用。
ASML的臺灣晶圓代工客戶包括臺積電、聯(lián)電；記憶體客戶有南科、華亞科、力晶、茂德等。韋尼克表示，根據(jù)客戶端的訊息，晶圓代工廠第二季產(chǎn)能利用率已回升，DRAM今年成長估計在33%、Flash會到48%。
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關鍵字： 半導體
