臺(tái)積電規(guī)劃32納米制程提供HKMG技術(shù) 以爭取AMD訂單
[導(dǎo)讀]臺(tái)積電年底40納米即將導(dǎo)入量產(chǎn)，對(duì)次世代32納米技術(shù)也有了新規(guī)劃，除了提供一般型及低功耗的32納米技術(shù)外，近期業(yè)內(nèi)已傳出將提供高介電金屬柵電極（High-K Metal Gate，HKMG）技術(shù)。
據(jù)Chinatimes報(bào)道，臺(tái)積電年底40納米即將導(dǎo)入量產(chǎn)，對(duì)次世代32納米技術(shù)也有了新規(guī)劃，除了提供一般型及低功耗的32納米技術(shù)外，近期業(yè)內(nèi)已傳出將提供高介電金屬柵電極（High-K Metal Gate，HKMG）技術(shù)，此舉等同于可提供中央處理器（CPU）代工服務(wù)，業(yè)內(nèi)預(yù)期這是為了爭取AMD處理器訂單而先行鋪路。
臺(tái)積電于今年3月底正式推出40納米晶圓共乘服務(wù)，提供客戶泛用型制程（40G）及低耗電制程（40LP）等兩種制程，下半年亦有多個(gè)產(chǎn)品完成設(shè)計(jì)定案（tape-out），明年第二季將推出行動(dòng)通訊制程（40LPG），確實(shí)已獲得數(shù)十個(gè)客戶進(jìn)行產(chǎn)品設(shè)計(jì)。臺(tái)積電預(yù)計(jì)年底40納米的量產(chǎn)將如期進(jìn)行，明年將轉(zhuǎn)入40納米投片的客戶，已包括高通（Qualcomm）、阿爾特拉（Altera）、英偉達(dá)（NVIDIA）、AMD等。
臺(tái)積電持續(xù)基于摩爾定律進(jìn)行制程微縮工程，明年底將推出32納米制程，原本只計(jì)劃提供泛用型制程（32G）及低耗電制程（32LP）等兩種，但是臺(tái)積電已經(jīng)開始著手32納米的HKMG制程，以利其后續(xù)爭取更多的中央處理器代工訂單。
設(shè)備商表示，目前先進(jìn)制程微縮至32納米有兩大挑戰(zhàn)，一是微影技術(shù)（Lithography）的微縮問題，二是愿意導(dǎo)入32納米的邏輯組件訂單十分有限，且每項(xiàng)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)研發(fā)金額高達(dá)7,500萬美元，較45及40納米高出50％。臺(tái)積電為了如期提供32納米技術(shù)，已透過雙重曝影（double patterning）方式，將浸潤式（immersion）微影技術(shù)應(yīng)用延伸至32納米，現(xiàn)在面臨的問題則是要找到夠多的訂單填補(bǔ)開出的產(chǎn)能。
業(yè)內(nèi)人士透露，臺(tái)積電希望以處理器代工訂單做為32納米最大需求來源，所以才會(huì)增加32納米HKMG技術(shù)，因?yàn)槌似錇镾un計(jì)算機(jī)代工的Sparc處理器，可能需要用到HKMG技術(shù)來降低漏電，也可開始為其一年來積極爭取的AMD處理器代工訂單進(jìn)行鋪路，因?yàn)?strong>AMD已透露32納米世代可能導(dǎo)入HKMG技術(shù)。
臺(tái)積電于今年3月底正式推出40納米晶圓共乘服務(wù)，提供客戶泛用型制程（40G）及低耗電制程（40LP）等兩種制程，下半年亦有多個(gè)產(chǎn)品完成設(shè)計(jì)定案（tape-out），明年第二季將推出行動(dòng)通訊制程（40LPG），確實(shí)已獲得數(shù)十個(gè)客戶進(jìn)行產(chǎn)品設(shè)計(jì)。臺(tái)積電預(yù)計(jì)年底40納米的量產(chǎn)將如期進(jìn)行，明年將轉(zhuǎn)入40納米投片的客戶，已包括高通（Qualcomm）、阿爾特拉（Altera）、英偉達(dá)（NVIDIA）、AMD等。
臺(tái)積電持續(xù)基于摩爾定律進(jìn)行制程微縮工程，明年底將推出32納米制程，原本只計(jì)劃提供泛用型制程（32G）及低耗電制程（32LP）等兩種，但是臺(tái)積電已經(jīng)開始著手32納米的HKMG制程，以利其后續(xù)爭取更多的中央處理器代工訂單。
設(shè)備商表示，目前先進(jìn)制程微縮至32納米有兩大挑戰(zhàn)，一是微影技術(shù)（Lithography）的微縮問題，二是愿意導(dǎo)入32納米的邏輯組件訂單十分有限，且每項(xiàng)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)研發(fā)金額高達(dá)7,500萬美元，較45及40納米高出50％。臺(tái)積電為了如期提供32納米技術(shù)，已透過雙重曝影（double patterning）方式，將浸潤式（immersion）微影技術(shù)應(yīng)用延伸至32納米，現(xiàn)在面臨的問題則是要找到夠多的訂單填補(bǔ)開出的產(chǎn)能。
業(yè)內(nèi)人士透露，臺(tái)積電希望以處理器代工訂單做為32納米最大需求來源，所以才會(huì)增加32納米HKMG技術(shù)，因?yàn)槌似錇镾un計(jì)算機(jī)代工的Sparc處理器，可能需要用到HKMG技術(shù)來降低漏電，也可開始為其一年來積極爭取的AMD處理器代工訂單進(jìn)行鋪路，因?yàn)?strong>AMD已透露32納米世代可能導(dǎo)入HKMG技術(shù)。
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