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[導(dǎo)讀]日本電子封裝學(xué)會(huì)下屬、從事部件內(nèi)置基片調(diào)查等業(yè)務(wù)的EPADs研究會(huì)于2009年9月3日舉行了以“進(jìn)化的三維封裝及部件內(nèi)置技術(shù)”為題的公開研討會(huì)。在該研討會(huì)上,5名演講者介紹了半導(dǎo)體三維封裝的現(xiàn)有技術(shù)以及5年后的未來

日本電子封裝學(xué)會(huì)下屬、從事部件內(nèi)置基片調(diào)查等業(yè)務(wù)的EPADs研究會(huì)于2009年9月3日舉行了以“進(jìn)化的三維封裝及部件內(nèi)置技術(shù)”為題的公開研討會(huì)。在該研討會(huì)上,5名演講者介紹了半導(dǎo)體三維封裝的現(xiàn)有技術(shù)以及5年后的未來技術(shù)。

 

首先,日本IBM東京基礎(chǔ)研究所的佐久間克幸就力爭(zhēng)今后5年實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體三維封裝發(fā)表了演講。佐久間表示,現(xiàn)有CMOS技術(shù)在功率密度上已至極限,時(shí)鐘頻率在2005年前后達(dá)到了頂峰。為了提高性能開始推進(jìn)多核技術(shù),但為了使性能達(dá)到最大,必須確保內(nèi)存帶寬。目前使用硅貫通電極的三維LSI的需求不斷擴(kuò)大。

 

佐久間介紹了硅的層疊及接合技術(shù)的現(xiàn)狀。在層疊方面,充分利用以往技術(shù)薄化晶圓進(jìn)行層疊的“Top-down(自上而下)方法”目前頗受關(guān)注。另外,對(duì)于芯片間的連接,佐久間表示,可將薄化晶圓的曲翹吸收掉的金屬凸點(diǎn)最為合適。經(jīng)剪切應(yīng)力測(cè)試表明,鉛焊錫的強(qiáng)度較高,錫銅焊點(diǎn)較脆。

 

WEISTI董事社長(zhǎng)福岡義孝就使用硅貫通電極的三維LSI封裝的一種、硅轉(zhuǎn)接板進(jìn)行了演講。在配備多個(gè)LSI的硅轉(zhuǎn)接板上,集成通過薄膜技術(shù)形成的L、C、R,為連接布線面和背面的外部電極,使用硅貫通電極。已試制出R使用鉻薄膜時(shí)為2000μm×31.25μm、最大78000Ω,L為800μm見方、最大圈數(shù)為4.5圈,C為1mm見方、1.93nF的無源部件。

 

第三個(gè)登臺(tái)的是從事半導(dǎo)體封裝業(yè)務(wù)的新光電氣工業(yè)開發(fā)統(tǒng)括部的小山昌一。小山介紹了使用內(nèi)置底板的轉(zhuǎn)接板的極限和解決方案。在光刻方面,由于會(huì)發(fā)生布線剝離,因此布線及布線間隔存在極限,需要應(yīng)用半導(dǎo)體薄膜技術(shù)等。在通孔方面,用于服務(wù)器等終端用途時(shí)要對(duì)孔完全填埋,需進(jìn)行利用周期脈沖反向電流(PPR,Periodic Pulse Reverse)的電鍍處理。小山指出了介電體存在的課題,比如,介電體雖然具有成為硅轉(zhuǎn)接板的可能性,但稱為“Microball”的焊錫球無法完全吸收硅底板的扭曲及曲翹。

 

半導(dǎo)體封裝使用部件內(nèi)置基片

 

第四個(gè)和第五個(gè)登臺(tái)的演講者談到了部件內(nèi)置基片。目前,部件內(nèi)置基片作為可通過現(xiàn)有技術(shù)實(shí)現(xiàn)的實(shí)質(zhì)性三維LSI手段之一而廣為人知。但實(shí)際上多被用作模塊基片。用作模塊基片時(shí),具有下落沖擊性及導(dǎo)熱性出色等特點(diǎn),在手機(jī)及車載等趨于模塊化、要求可靠性的用途中,需求有望增加。

 

太陽(yáng)誘電復(fù)合元件事業(yè)部EOMIN商品部的宮崎政志介紹了無源部件內(nèi)置底板的薄型化等內(nèi)容。該公司將向部件內(nèi)置底板推出外形尺寸為1mm×0.5mm×0.3mm、靜電容量為0.22μF的多層陶瓷電容(MLCC)。今后計(jì)劃開發(fā)薄型、大容量化的MLCC,向部件內(nèi)置底板推廣。內(nèi)置薄型產(chǎn)品時(shí),具有可減小連接通孔所積蓄應(yīng)力的優(yōu)點(diǎn)。宮崎表示,目前在高度不足0.13μm的MLCC薄型化方面尚存在局限性,內(nèi)置基片過渡至薄膜類的開發(fā)也在推進(jìn)之中。

 

卡西歐微電子的若林猛介紹了在半導(dǎo)體封裝中部件內(nèi)置基片所受關(guān)注度越來越高的情況。關(guān)注度日益提高的原因主要有三個(gè)。一是用于PoP等時(shí)內(nèi)置基片也可控制在1mm以下。二是可實(shí)現(xiàn)低廉價(jià)格。目前在低價(jià)位封裝中大多采用以引線框?qū)崿F(xiàn)封裝背面的平面電極QFN,但將部件內(nèi)置基片用作半導(dǎo)體封裝則可進(jìn)一步降低成本。三是能夠?qū)崿F(xiàn)無鉛接合。比如,可通過利用激光的通孔形成電鍍法來連接晶圓級(jí)CSP(WLP)。另外,還可自由設(shè)定半導(dǎo)體芯片的形狀。由于無需線焊,因此還可將芯片細(xì)長(zhǎng)化,便于配置平行于總線的布線。

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