
電路的功能為了把大范圍的信號電平壓縮顯示,可使用對數(shù)電路,通常稱對數(shù)放大器,在電氣電路中多使用以10為底的常用對數(shù),本電路是1V/十進(jìn)位、即10倍的變化引起1V變化輸出的電路。對數(shù)作為除法、乘法等運(yùn)算電路的基本
在2011財年中,夏普預(yù)計凈虧損38億美元;索尼預(yù)計虧損29億美元,已是連續(xù)四年虧損;松下更是創(chuàng)下年度虧損之最,預(yù)計虧損102億美元;安全芯片巨頭爾必達(dá)也于日前申請破產(chǎn)保護(hù)。日本制造業(yè)的困局絕非孤立事件,而是全球消
如圖電路,在有入射光時,該電路中接有光敏電阻LDR的晶體管接通高電平或零電平。晶體管放大系數(shù)取B>100就已足夠,光敏電阻阻值在100~100k歐之間,分別對應(yīng)于有光照射和暗時的情況。如果要想控制較大功率的負(fù)載,則應(yīng)
上電循環(huán)測試非常重要,因為它測試的是用戶環(huán)境。設(shè)計不良的系統(tǒng)板或芯片會造成上電循環(huán)測試失敗。此外,對系統(tǒng)板工作臺測試時,上電循環(huán)測試的設(shè)置可能需要采用沉重而昂貴的商用電源。當(dāng)你需要同時測試多塊系統(tǒng)板時
附圖電路是只用一只晶體管的簡易溫度遙測儀,他將溫度轉(zhuǎn)換為每秒鐘“咔嗒”聲的次數(shù),用AM短波收音機(jī)接收。實現(xiàn)溫度遙測。圖1電路是一產(chǎn)生間隙脈沖的發(fā)射機(jī)。利用晶體管Tr1對線圈電流的通、斷進(jìn)行控制,發(fā)
近年來,芯片的發(fā)展進(jìn)程始終嚴(yán)格遵守著“摩爾定律”,并有條不紊地進(jìn)行著,直到14nm制造工藝的芯片在英特爾的實驗室中被研制成功,業(yè)界開始有了擔(dān)憂。 據(jù)摩爾定律所說,集成在同一芯片上的晶體管數(shù)
盡管英特爾依然樂觀地預(yù)測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片,但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來,芯片的發(fā)展進(jìn)程始終嚴(yán)格遵守著“摩爾定律”,并有條不紊地進(jìn)行著,直到14nm制
北京, 2012年3月14日 —— 全球領(lǐng)先的電子和能源行業(yè)半導(dǎo)體材料生產(chǎn)制造商 Soitec (Euronext)今天宣布,無線平臺和半導(dǎo)體領(lǐng)軍企業(yè) ST-Ericsson 已選擇全耗盡平面晶體管技術(shù)(FD-SOI)開發(fā)設(shè)計其下一代移動處理器
盡管英特爾依然樂觀地預(yù)測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片,但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來,芯片的發(fā)展進(jìn)程始終嚴(yán)格遵守著“摩爾定律”,并有條不紊地進(jìn)行著,直到14nm制
盡管英特爾依然樂觀地預(yù)測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片,但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來,芯片的發(fā)展進(jìn)程始終嚴(yán)格遵守著“摩爾定律”,并有條不紊地進(jìn)行著,直到14nm制
盡管英特爾依然樂觀地預(yù)測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片,但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來,芯片的發(fā)展進(jìn)程始終嚴(yán)格遵守著“摩爾定律”,并有條不紊地進(jìn)行著,直到14nm制造工藝的芯
盡管英特爾依然樂觀地預(yù)測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片,但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。 近年來,芯片的發(fā)展進(jìn)程始終嚴(yán)格遵守著“摩爾定律”,并有條不紊地進(jìn)行著,直到14nm制造工藝
英特爾:14nm工藝的Atom移動芯片2014年問世
隨著微電子制造業(yè)的發(fā)展,制作高速、高集成度的CMOS電路已迫在眉睫,從而促使模擬集成電路的工藝水平達(dá)到深亞微米級。因為諸如溝道長度、溝道寬度、閾值電壓和襯底摻雜濃度都未隨器件尺寸的減小按比例變化,所以器件
附圖為數(shù)碼相機(jī)充電適配器電路。電路采用一對晶體管差分放大器和一級電流放大器.分別輸出恒定的電壓和要求的電流。晶體管T1和T2構(gòu)成一對差分放大器.T1基極電壓由穩(wěn)壓二極管ZD1穩(wěn)定在3V.T2基極電壓則由電源經(jīng)R3和R