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Intel 2029年上1.4nm工藝？非官方路線圖
Intel的制程工藝一直備受關(guān)注。今天早些時候，荷蘭光刻機巨頭ASML(阿斯麥)放出一張路線圖，赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工藝節(jié)點，尤其是最后這個將在2029年
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ASML擅自修改英特爾工藝路線圖
12月11日，多家外媒報道ASML在近期的IEEE國際電子設(shè)備會議（IEDM）上，公布了一張英特爾未來10年的工藝路線圖，路線圖顯示英特爾未來將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。AS
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中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
在半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復(fù)雜的一步—;—;光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示
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唯一打破ASML光刻機雙工臺技術(shù)壟斷：華卓精科擬登陸科創(chuàng)板
近年來，隨著國家的大力支持以及國內(nèi)市場需求的快速增長，國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進步。 比如在硅刻蝕機領(lǐng)域，北方華創(chuàng)實現(xiàn)了14nm設(shè)備的突破，同時也在去年實現(xiàn)了適
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英特爾首次公開1.4nm工藝？官方：ASML自作主張修改了PPT
據(jù)多家外媒報道，在IEEE國際電子設(shè)備會議(IEDM)上，一張英特爾即將推出的制造工藝的擴展路線圖被透露，其中顯示，英特爾未來將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。而這張圖是由ASML發(fā)言人在會議上展示的，ASML表示，此圖為英特爾9月在一次光刻會議上展示的。然而英特爾方面則澄清，這張圖被ASML修改過了。
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ASML回應(yīng)對中國廠商斷供光刻機：全球客戶一視同仁
今天鬧得沸沸揚揚的ASML光刻機對中國廠商斷供一事，ASML公司官方也發(fā)表了聲明，否認(rèn)了延遲出貨、斷供等說法，稱媒體報道有誤，ASML對全球客戶是一視同仁的。 這次外媒報道來源于日本的日經(jīng)新聞獨家新聞
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中芯國際回應(yīng)ASML斷供光刻機：EUV還在紙面上 一切正常
11月7日消息，針對荷蘭ASML公司延遲出貨EUV光刻機的報道，中芯國際剛剛也作出了回應(yīng)，稱“極紫外光（EUV）還在紙面工作階段，未進行相關(guān)活動。公司先進工藝研發(fā)進展順利。目前，研發(fā)與生產(chǎn)的連結(jié)一切正
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ASML延遲向中芯發(fā)貨？
EUV還在紙面工作階段，未進行相關(guān)活動。公司先進工藝研發(fā)進展順利。目前，研發(fā)與生產(chǎn)的連結(jié)一切正常?？蛻襞c設(shè)備導(dǎo)入正常運作。
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ASML公司Q3季度營收27.9億歐元 EUV光刻機訂單23臺
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)可以說是制造業(yè)的皇冠，而光刻機就是皇冠上的明珠，EUV光刻機則是明珠之光，其設(shè)計之復(fù)雜遠超一般工業(yè)設(shè)備。 目前EUV光刻機只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn)，Q3季度他們交付了7臺EUV光刻機
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三星發(fā)力EUV工藝 向ASML訂購15臺EUV光刻機 價值181億
臺積電今天宣布將全年的資本開支從110億美元提升到140-150億美元，增長了40%左右，希望進一步提升7nm及5nm產(chǎn)能。 在這個領(lǐng)域，唯一能跟臺積電競爭的就是三星了，但是三星的問題在于進展較慢，現(xiàn)
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ASML光刻機入駐中國晶圓廠：投資25億美元 55nm工藝
北京清芯華創(chuàng)投資公司投委會主席陳大同博士日前在報告中談到了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與世界一流水平的差距，其中封裝方面差距最小，最快5年追上，半導(dǎo)體制造上則需要10-15年，這部分也是國產(chǎn)最弱的一部分了。 在半導(dǎo)
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ASML光刻機機密被中國人竊取？荷蘭部長否認(rèn)
在半導(dǎo)體制造過程中，最重要的一個過程就是光刻工藝，需要用到光刻機，7nm及以下節(jié)點工藝則需要EUV光刻機，目前只有荷蘭ASML公司能生產(chǎn)，每臺售價超過1億歐元，可以說是半導(dǎo)體行業(yè)的明珠了，是門檻非常高
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1納米可期！ASML研發(fā)第二代EUV光刻機
半導(dǎo)體制造過程中最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為最重要的半導(dǎo)體制造設(shè)備。在7nm制程的較量中，臺積電之所以能夠領(lǐng)先，一個很重要的原因就是EUV技術(shù)，在半導(dǎo)體制造的工藝中，這部分的成本就能
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光刻機領(lǐng)域ASML研發(fā)新代機型，預(yù)計2025年1納米工藝
在2019年，臺積電和三星都準(zhǔn)備量產(chǎn)7納米的EUV工藝了，并且明年也會是5納米工藝的一個重要節(jié)點。要知道，在半導(dǎo)體制造的工藝中，最重要而且最復(fù)雜的就是光刻步驟，往往光這部分的成本就能占到33%左右，所
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ASML：Q2售出10臺EUV 下半年7納米以下制程投資強勁
全球半導(dǎo)體設(shè)備廠ASML于17日公布2019年第2季財報。資料顯示，ASML第一季繳出成長成績單，整體表現(xiàn)優(yōu)于市場預(yù)期。
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半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML盈利大增，帶領(lǐng)半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇
近日，阿斯麥在官網(wǎng)披露的數(shù)據(jù)顯示，其在二季度的營收為25.68億歐元，較今年一季度的22.29億歐元增加3.39億歐元，環(huán)比增長率為15.2%。
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臺積電再向ASML訂購一批設(shè)備
6月24日晚間，臺積電發(fā)布公告稱，斥資152.79億新臺幣(約合人民幣34億元)向ASML臺灣分公司訂購了一批機器設(shè)備。
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為什么一臺最新的光刻機可以賣到超過一億美金？
為什么一臺最新的光刻機可以賣到超過一億美金？
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為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV
晶圓制造產(chǎn)業(yè)進入7納米制程之后，目前全世界僅剩臺積電與三星，再加上號稱自家10納米制程優(yōu)于競爭對手7納米制程的英特爾等，有繼續(xù)開發(fā)能力之外，其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下，都已宣布放棄。
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半導(dǎo)體先進制程發(fā)展擴大EUV市場需求，ASML可望持續(xù)受惠
在先進制程納米節(jié)點持續(xù)微縮下，光刻機是重要關(guān)鍵設(shè)備。12寸晶圓主要光刻機為ArF immersion機臺，可覆蓋45nm一路往下到7nm節(jié)點的使用范圍，其雷射光波長最小微縮到193nm；針對7nm節(jié)點以下的制程，EUV(Extreme Ultra-Violet)極紫外光使用光源波長為13.5nm，確保先進制程持續(xù)發(fā)展的可能性。
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