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爾必達30納米制程DRAM邁入量產

時間：2010-09-30 10:30:53
關鍵字： DRAM    爾必達    制程技術    晶圓   
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[導讀]日廠爾必達(Elpida)將自2010年12月開始導入30納米前半制程量產DRAM，與同年7月早一步投入30納米前半制程DRAM量產的三星電子(SamsungElectronics)較勁。據悉，新的制程技術可撙節(jié)約30%的生產成本。爾必達另計劃2011年

日廠爾必達(Elpida)將自2010年12月開始導入30納米前半制程量產DRAM，與同年7月早一步投入30納米前半制程DRAM量產的三星電子(SamsungElectronics)較勁。據悉，新的制程技術可撙節(jié)約30%的生產成本。爾必達另計劃2011年中技轉瑞晶電子。

據悉，相較于爾必達導入的40納米制程，制程進一步微縮的30納米制程技術，每片晶圓所產出的芯片數(shù)約可增加45%；生產成本則可降低約30%。爾必達欲藉此提高成本競爭力，擴大市占。

日本經濟新聞報導指出，爾必達將自12月起先行于廣島廠導入量產；2011年中將生產技術移轉至臺灣子公司瑞晶電子后投入量產，而加計子公司產能在內，爾必達月產能估計將達21萬片(以12寸晶圓計)，預料數(shù)年后，爾必達產能中約有7成采30納米制程技術。

來源：DigiTimes

作者：zhaobin

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