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[導(dǎo)讀]東芝展出的300mm晶圓(點(diǎn)擊放大) 展板(點(diǎn)擊放大) 東芝在“nano tech 2011國(guó)際納米科技綜合展及技術(shù)會(huì)議”(2011年2月16~18日,東京有明國(guó)際會(huì)展中心)上公開了集成有作為新一代邏輯LSI的基礎(chǔ)元件而備受期待


東芝展出的300mm晶圓(點(diǎn)擊放大)

展板(點(diǎn)擊放大)
東芝在“nano tech 2011國(guó)際納米科技綜合展及技術(shù)會(huì)議”(2011年2月16~18日,東京有明國(guó)際會(huì)展中心)上公開了集成有作為新一代邏輯LSI的基礎(chǔ)元件而備受期待的納米線晶體管的300mm晶圓。這是一種有望以11nm以后工藝實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的技術(shù)。

納米線晶體管具備將MOSFET的溝道設(shè)計(jì)成立體構(gòu)造后從3個(gè)方向由柵極電極圍起來(lái)的構(gòu)造。與現(xiàn)有的平面(Plane)構(gòu)造的MOSFET相比短溝道特性等更為出色,因此“有望將驅(qū)動(dòng)電壓降至0.5V”(東芝展臺(tái)解說(shuō)員)。東芝將該技術(shù)“定位于比現(xiàn)有MOSFET的后續(xù)晶體管即鰭型晶體管及SOI晶體管更先進(jìn)的下一代候補(bǔ)技術(shù)”(東芝展臺(tái)解說(shuō)員)(參閱本站報(bào)道)。

此次展出的300mm晶圓集成了具有將10條寬9nm、高14nm的溝道并排排列形成的晶體管。該納米線晶體管除了使外延硅固相生長(zhǎng)減小了源漏寄生電阻之外,還通過施加溝道結(jié)晶方向的控制及應(yīng)變提高了驅(qū)動(dòng)電流。據(jù)稱已經(jīng)獲得了超過平面構(gòu)造的MOSFET的驅(qū)動(dòng)電流。(記者:大下 淳一)





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