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[導讀]全球光罩(Photo Mask)大廠凸版印刷(Toppan Printing)9日發(fā)布新聞稿宣布,已于今(2010)年9月在旗下朝霞光罩工廠(埼玉縣新座市)內建構了與IBM所共同研發(fā)完成的新光罩制程技術,該制程技術可支持22nm/20nm半導體產(chǎn)品的制

全球光罩(Photo Mask)大廠凸版印刷(Toppan Printing)9日發(fā)布新聞稿宣布,已于今(2010)年9月在旗下朝霞光罩工廠(埼玉縣新座市)內建構了與IBM所共同研發(fā)完成的新光罩制程技術,該制程技術可支持22nm/20nm半導體產(chǎn)品的制造,凸版印刷并已針對研發(fā)22nm/20nm半導體產(chǎn)品的廠商,整備了試產(chǎn)用及量產(chǎn)用光罩供應體制。新聞稿指出,此次所研發(fā)的新光罩制程技術細節(jié)將于9月13-16日期間于美國蒙特雷市舉行的先端光罩會議「2010 SPIE Photomask Technology conference」上發(fā)表。凸版印刷與IBM于2005年就開始共同研發(fā)支持45nm半導體產(chǎn)品的先端光罩技術,之后并于2009年將支持對象提升至32nm/28nm等級。


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