全球芯片制造產能都有成長,但市場需求也是一樣;根據國際半導體產能統計組織(Semiconductor International Capacity Statistics,SICAS)所公布的數據,目前數個先進制程領域的晶圓廠產能利用率都維持在九成以上。
SICAS的統計數據顯示,2009年第四季全球晶圓廠產能利用率達到了89.4%,較第三季的86.5%成長;不過較舊制程與8吋晶圓廠產能的利用率較低,約在8成左右,先進CMOS制程(160奈米以下)以及12吋晶圓產能,利用率都在九成以上。
由于晶圓代工廠于第四季的產能貢獻,當季的初制晶圓(wafer starts)量較一年前成長了近一倍(九成以上);09年第四季晶圓代工廠產能利用率則為91.0%,較第三季的91.9%些微下滑。
12吋晶圓廠的產能利用率達到96.7%,8吋晶圓廠則為82.4%。以制程節(jié)點來看,80與60奈米制程的產能利用率在09年第四季為91.4%,較第三季的95.7%些微下滑;60奈米制程產能利用率為96.3%,較第三季的93.5%成長。較舊的MOS制程產能利用率則在八成左右。
(參考原文: Wafer fab utilization stays high, says SICAS,by Peter Clarke)
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