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首創(chuàng)！臺(tái)積電取得艾司摩爾超紫外光微影設(shè)備研發(fā)先進(jìn)制程

時(shí)間：2010-02-22 18:38:00

關(guān)鍵字：臺(tái)積電紫外光先進(jìn)制程 ASML

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[導(dǎo)讀]臺(tái)積電與荷蘭艾司摩爾（ASML）公司今(22)日共同宣布，臺(tái)積公司將取得ASML公司TWINSCAN? NXE:3100 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個(gè)取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶伙伴之一。臺(tái)積電指出，這項(xiàng)設(shè)備將

臺(tái)積電與荷蘭艾司摩爾（ASML）公司今(22)日共同宣布，臺(tái)積公司將取得ASML公司TWINSCAN? NXE:3100 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個(gè)取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶伙伴之一。

臺(tái)積電指出，這項(xiàng)設(shè)備將安裝在臺(tái)積公司的超大晶圓廠（GigaFab?）臺(tái)積十二廠，用以發(fā)展新世代的制程技術(shù)。臺(tái)積公司也將成為全球第一個(gè)可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。

臺(tái)積電表示，相較于現(xiàn)行浸潤(rùn)式微影技術(shù)以193奈米波長(zhǎng)當(dāng)作光源，超紫外光微影技術(shù)導(dǎo)入更短波長(zhǎng)的光源，將有機(jī)會(huì)降低生產(chǎn)成本，成為集成電路制造更先進(jìn)技術(shù)世代一個(gè)有潛力的選擇。臺(tái)積公司目前正在對(duì)超紫外光及其他微影技術(shù)的最佳成本效益的潛力進(jìn)行評(píng)估。

臺(tái)積電研究發(fā)展資深副總經(jīng)理蔣尚義指出，「臺(tái)積公司將會(huì)利用ASML公司的TWINSCAN? NXE:3100設(shè)備，進(jìn)行更先進(jìn)世代制程技術(shù)的研發(fā)。超紫外光微影技術(shù)是我們正在研究的下世代微影技術(shù)之一，導(dǎo)入此項(xiàng)設(shè)備，不但切合我們保持先進(jìn)技術(shù)領(lǐng)先的目標(biāo)，更強(qiáng)化了我們不斷投資于歐洲半導(dǎo)體業(yè)創(chuàng)新的一貫承諾」。

他表示，「經(jīng)由ASML和其他公司，歐洲半導(dǎo)體業(yè)將在臺(tái)積公司未來(lái)制程技術(shù)的發(fā)展上，繼續(xù)扮演重要的角色」。

ASML公司執(zhí)行副總裁暨產(chǎn)品及技術(shù)長(zhǎng)Martin van den Brink表示，「包括此次提供NXE:3100設(shè)備給臺(tái)積公司，ASML已經(jīng)為邏輯、動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存、NAND閃存及專業(yè)集成電路制造服務(wù)等芯片制造主的要領(lǐng)域提供超紫外光設(shè)備。藉由為臺(tái)積公司提供未來(lái)芯片制造最佳的技術(shù)，將可促進(jìn)我們與臺(tái)積公司長(zhǎng)久的伙伴關(guān)系」。

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