TSMC6日宣布，客戶美商巨積公司(LSI Corporation)使用TSMC65納米低功耗工藝的降低功耗(PowerTrim)技術(shù)，有效減少下一世代產(chǎn)品的總漏電耗能達(dá)百分之二十五以上。

TSMC這項(xiàng)降低功耗的技術(shù)與服務(wù)獲得Tela Innovations公司獨(dú)家專(zhuān)利授權(quán)，是將設(shè)計(jì)技術(shù)與先進(jìn)半導(dǎo)體工藝巧妙整和的創(chuàng)新技術(shù)，能有效降低每個(gè)產(chǎn)品的漏電耗能。

降低功耗軟件(PowerTrim Software)分析巨積公司的設(shè)計(jì)，并些微增加對(duì)時(shí)序較不敏感的路徑上的閘極長(zhǎng)度，以代替本來(lái)的元件。而閘極長(zhǎng)度的增加，將使漏電功耗成指數(shù)型的遞減，是以這些細(xì)微的調(diào)整會(huì)有相當(dāng)可觀的影響。

美商巨積公司產(chǎn)品及測(cè)試工程暨網(wǎng)絡(luò)元件處處長(zhǎng)Norm Lawrence表示：「低功耗與高效能是我們產(chǎn)品成功的關(guān)鍵，藉由和TSMC密切的合作并采用Tela Innovations的降低功耗技術(shù)，我們的產(chǎn)品減少了超過(guò)百分之二十五的漏電耗能，有效改善漏電的良率分布。」

TSMC降低功耗服務(wù)藉由臨界尺寸(Critical Dimension)的微調(diào)技術(shù)，分析產(chǎn)品設(shè)計(jì)，并在對(duì)時(shí)序較不敏感的路徑上將閘極長(zhǎng)度調(diào)整為合適的大小，同時(shí)有效節(jié)省對(duì)時(shí)序較不敏感的路徑上的電晶體耗能，而不影響芯片的性能。此閘極臨界尺寸微調(diào)屬于光學(xué)臨近效應(yīng)修正(Optical Proximity Correction)的一部分，并不影響元件或芯片尺寸。因此，降低功耗服務(wù)能在不影響芯片性能及尺寸下，有效的大幅降低漏電耗能，同時(shí)亦能大幅降低漏電耗能變異性，進(jìn)而改善元件參數(shù)良率。

TSMC設(shè)計(jì)建構(gòu)行銷(xiāo)處資深處長(zhǎng)莊少特表示：「協(xié)助客戶提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，例如減少耗能，是TSMC創(chuàng)立開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)的主要目標(biāo)之一。藉由與不斷創(chuàng)新的公司密切合作，例如Tela Innovations公司，使得開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)能夠提供客戶具有差異化價(jià)值的服務(wù)，是建構(gòu)開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)背后的核心目標(biāo)。我們很高興美商巨積公司選擇采用TSMC的降低功耗服務(wù)，并有效達(dá)到降低漏電功耗的成果?！?/p>

TSMC降低功耗服務(wù)可與其他降低漏電的技術(shù)如multi-Vt cell libraries, reverse body biasing, header/footer sleep switches, and voltage islands等相容，可進(jìn)一步減少漏電并強(qiáng)化節(jié)能效果，較臨介高壓電晶體的表現(xiàn)為佳。

TSMC降低功耗服務(wù)

TSMC降低功耗服務(wù)獨(dú)家使用Tela Innovations公司的技術(shù)，提供給采用先進(jìn)工藝技術(shù)(包括90納米、80納米、65納米、及45納米等)的客戶使用。欲了解進(jìn)一步相關(guān)訊息，請(qǐng)洽TSMC的業(yè)務(wù)團(tuán)隊(duì)。