挺進(jìn)20nm：臺(tái)積電將在Fab12工廠裝用ASML產(chǎn)EUV光刻設(shè)備
[導(dǎo)讀]據(jù)臺(tái)積電公司負(fù)責(zé)技術(shù)研發(fā)的副總裁蔣尚義表示，2011年臺(tái)積電從荷蘭ASML公司訂購(gòu)的極紫外(EUV，波長(zhǎng)13.5nm)光刻設(shè)備將運(yùn)抵廠內(nèi)，這批訂購(gòu)的設(shè)備將為臺(tái)積電公司2013年將公司制程能力升級(jí)到20nm級(jí)別鋪平道路。蔣尚義是在
據(jù)臺(tái)積電公司負(fù)責(zé)技術(shù)研發(fā)的副總裁蔣尚義表示，2011年臺(tái)積電從荷蘭ASML公司訂購(gòu)的極紫外(EUV，波長(zhǎng)13.5nm)光刻設(shè)備將運(yùn)抵廠內(nèi)，這批訂購(gòu)的設(shè)備將為臺(tái)積電公司2013年將公司制程能力升級(jí)到20nm級(jí)別鋪平道路。蔣尚義是在本月24日舉辦的臺(tái)積電技術(shù)論壇會(huì)議上說(shuō)出這番話的，他同時(shí)還指出EUV光刻技術(shù)要想投入商用還需要更加成熟，另外他還透露這批訂購(gòu)的EUV光刻工具每小時(shí)能刻制100片晶圓。
臺(tái)積電首批EUV光刻設(shè)備將被安裝在300mmFab12工廠內(nèi)，而臺(tái)積電未來(lái)的研發(fā)重點(diǎn)則將放在28nm及更高級(jí)別制程技術(shù)的研發(fā)方面。
臺(tái)積電早些時(shí)候曾宣布他們會(huì)跳過(guò)22nm制程節(jié)點(diǎn)，直接從28nm節(jié)點(diǎn)跳至20nm制程，這家公司透露將于2012年下半年開(kāi)始20nm制程芯片的試產(chǎn)。
EUV(極紫外光：波長(zhǎng)13.5nm)是目前比較流行的DUV(深紫外光：波長(zhǎng)193nm)光刻技術(shù)的下一代技術(shù)，與眼下流行的沉浸式光刻193nm波長(zhǎng)技術(shù)這種增加光刻系統(tǒng)數(shù)值孔徑的方案相比，EUV從另外一個(gè)方面即直接縮短光波的波長(zhǎng)入手來(lái)提升制程的等級(jí)。不過(guò)目前EUV光刻技術(shù)由于需要重新開(kāi)發(fā)光掩膜技術(shù)，提升光源功率，因此這項(xiàng)技術(shù)要想走向主流仍有較多困難需要克服。
臺(tái)積電首批EUV光刻設(shè)備將被安裝在300mmFab12工廠內(nèi)，而臺(tái)積電未來(lái)的研發(fā)重點(diǎn)則將放在28nm及更高級(jí)別制程技術(shù)的研發(fā)方面。
臺(tái)積電早些時(shí)候曾宣布他們會(huì)跳過(guò)22nm制程節(jié)點(diǎn)，直接從28nm節(jié)點(diǎn)跳至20nm制程，這家公司透露將于2012年下半年開(kāi)始20nm制程芯片的試產(chǎn)。
EUV(極紫外光：波長(zhǎng)13.5nm)是目前比較流行的DUV(深紫外光：波長(zhǎng)193nm)光刻技術(shù)的下一代技術(shù)，與眼下流行的沉浸式光刻193nm波長(zhǎng)技術(shù)這種增加光刻系統(tǒng)數(shù)值孔徑的方案相比，EUV從另外一個(gè)方面即直接縮短光波的波長(zhǎng)入手來(lái)提升制程的等級(jí)。不過(guò)目前EUV光刻技術(shù)由于需要重新開(kāi)發(fā)光掩膜技術(shù)，提升光源功率，因此這項(xiàng)技術(shù)要想走向主流仍有較多困難需要克服。
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據(jù)業(yè)內(nèi)消息，昨天半導(dǎo)體光刻機(jī)供應(yīng)商荷蘭ASML公司發(fā)布了今年Q3季度的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)， 其中銷售額和利潤(rùn)均好于預(yù)期，凈預(yù)訂數(shù)據(jù)更是創(chuàng)新紀(jì)錄。
關(guān)鍵字： ASML據(jù)業(yè)內(nèi)信息，近日一家名為Daedalus Prime的小公司陸續(xù)對(duì)多個(gè)半導(dǎo)體巨頭發(fā)起337專利訟訴，其中包含三星電子、高通公司、臺(tái)積電等。
關(guān)鍵字： 專利侵權(quán) 三星 臺(tái)積電 高通公司 337調(diào)查 USITC據(jù)彭博社2月9日的消息，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）警告稱，一家此前被指控竊取其商業(yè)機(jī)密的中國(guó)公司的關(guān)聯(lián)公司已開(kāi)始銷售疑似侵犯其知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。
關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī) 知識(shí)產(chǎn)權(quán)
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