去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上,Intel第一次向世人展示了22nm工藝晶圓,并宣布將在2011年下半年發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。
當(dāng)然了,新型半導(dǎo)體工藝的實(shí)現(xiàn)并不是Intel一家就能做到的,背后默默貢獻(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備的功臣卻往往不為人所知。Arete Research LLC公司的分析師Jagadish Iyer在一份報(bào)告中指出,Intel即將最終決定22nm光刻工藝設(shè)備的供應(yīng)商,最終入圍的是荷蘭ASML Holding NV和日本尼康兩家。
其實(shí)在更早的45nm世代,ASML和尼康也曾雙雙成為Intel的光刻設(shè)備供應(yīng)商,但在32nm節(jié)點(diǎn)上Intel首次應(yīng)用了沉浸式光刻技術(shù),只有尼康一家提供相關(guān)設(shè)備,如今ASML又要回來了。
此番ASML提供的光刻機(jī)為“NXT:1950i”,每臺(tái)平均售價(jià)4000萬歐元(5440萬美元),負(fù)責(zé)40%的前道(FEOL)光刻層;尼康的光刻機(jī)則是“S620D”,報(bào)價(jià)3000萬美元,負(fù)責(zé)60%的后道(BEOL)光刻層。Intel的22nm工藝將有45個(gè)光刻層,其中55%需要進(jìn)行沉浸式光刻。
在22nm工藝上,Intel會(huì)繼續(xù)使用193nm沉浸式光刻,而最近披露的一份路線圖顯示它會(huì)一直延續(xù)到11nm工藝節(jié)點(diǎn),這也就意味著極紫外(EUV)光刻又被推后了。
Jagadish Iyer估計(jì)到今年底的時(shí)候Intel能每月生產(chǎn)大約5000塊22nm晶圓,2011-2012年間四座晶圓廠全力開工,每座每月可生產(chǎn)大約4.5萬塊22nm晶圓,一個(gè)月合計(jì)18萬塊左右。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,昨天半導(dǎo)體光刻機(jī)供應(yīng)商荷蘭ASML公司發(fā)布了今年Q3季度的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù), 其中銷售額和利潤均好于預(yù)期,凈預(yù)訂數(shù)據(jù)更是創(chuàng)新紀(jì)錄。
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