繼Intel、美光上個(gè)月宣布投產(chǎn)25nm NAND閃存芯片后,韓國(guó)兩大存儲(chǔ)廠三星和海力士近日也宣布了自家的30nm以下工藝NAND閃存投產(chǎn)計(jì)劃。
海力士將采用26nm工藝生產(chǎn)容量為64Gb的NAND閃存芯片,這和Intel、美光首批投產(chǎn)的25nm芯片容量一致。而三星則計(jì)劃在今年第二季度投產(chǎn)27nm NAND閃存。
海力士表示,和30nm工藝相比,新工藝的閃存芯片的產(chǎn)能將翻一番,成本也將大幅度降低。根據(jù)韓國(guó)當(dāng)?shù)孛襟w的報(bào)道,海力士將在今年第三季度開(kāi)始量產(chǎn) 26nm閃存芯片。在這一點(diǎn)上三星已經(jīng)占據(jù)了先機(jī),三星稱他們?cè)谌ツ昃屯瓿闪藢?duì)27nm NAND閃存芯片的研發(fā),并計(jì)劃在今年二季度進(jìn)行量產(chǎn)。
不過(guò)三星和海力士并沒(méi)有透露,新工藝芯片是否采用了MLC存儲(chǔ)技術(shù)。
根據(jù)市場(chǎng)調(diào)研公司IC Insights的統(tǒng)計(jì),全球NAND閃存市場(chǎng)今年的收入將達(dá)到188億美元,占據(jù)半導(dǎo)體市場(chǎng)總收入的7%,高于去年的154億美元。
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