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[導(dǎo)讀]氧化物TFT的發(fā)布在此次“SID”(全球最大的顯示器學(xué)會(huì),2011年5月15~20日在美國洛杉磯舉行)上也非常多。而且,有關(guān)高可靠性的發(fā)布趨于增加,令人感到氧化物TFT終于接近了實(shí)用化水平。單從分會(huì)名稱上看,涉及氧化物

氧化物TFT的發(fā)布在此次“SID”(全球最大的顯示器學(xué)會(huì),2011年5月15~20日在美國洛杉磯舉行)上也非常多。而且,有關(guān)高可靠性的發(fā)布趨于增加,令人感到氧化物TFT終于接近了實(shí)用化水平。

單從分會(huì)名稱上看,涉及氧化物TFT的只有“Active Matrix Devices的Oxide TFT I和II”兩個(gè),但“OLED Displays II”分會(huì)的發(fā)布也都集中于將氧化物TFT用于背板上。而且,還有將氧化物TFT應(yīng)用于柔性顯示器的發(fā)布。此外,在展板會(huì)議的26項(xiàng)“Active-Matrix Devices”發(fā)布中,有18項(xiàng)都與氧化物TFT相關(guān)。這表明,作為最有希望的新一代FPD用元件技術(shù),有大量研究人員在從事氧化物TFT的開發(fā)。

Oxide TFT I:發(fā)布200℃工藝以及降低截止電流的新技術(shù)

在“Oxide TFT I”分會(huì)上,首先東芝發(fā)布了使用以低于200℃的低溫工藝在樹脂基板上形成IGZO(In-Ga-Zn-O)TFT試制的柔性有機(jī)EL面板。BT試驗(yàn)結(jié)果顯示,在Vgs=20V、70℃、2000秒的條件下ΔVth=0.22V。試制面板的性能指標(biāo)為:3英寸、160×120像素、2Tr+1Cap(雙晶體管單電容器電路)像素電路、底面發(fā)光型白色有機(jī)EL+彩色濾光片結(jié)構(gòu)、開口率為40%。TFT內(nèi)置掃描驅(qū)動(dòng)電路。

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韓國三星移動(dòng)顯示器(SMD)發(fā)布了實(shí)現(xiàn)讓內(nèi)置掃描電路穩(wěn)定工作以及低耗電化的14英寸有機(jī)EL面板(論文編號(hào):4.2)。使用浮游柵極降低了氧化物TFT的截止電流。

氧化物TFT的Vth一般多在0V以下,Vgs=0V條件下的截止電流較大。因此存在普通電路難以工作以及耗電量變大的問題。因此,SMD將電路的一部分制成了浮游柵極構(gòu)造,在開始掃描之前設(shè)定適當(dāng)?shù)碾娢?。在此基礎(chǔ)上,還通過電容耦合來控制輸出信號(hào),確保了工作的穩(wěn)定。

作為另外一種方法,SMD還發(fā)布了主動(dòng)優(yōu)化柵極偏壓的動(dòng)態(tài)Vth控制式電路(論文編號(hào):49.3)。試制的有機(jī)EL面板的性能指標(biāo)為:14英寸、960×540像素、3Tr+1Cap像素電路。



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