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[導讀]東京都市大學(原武藏工業(yè)大學)綜合研究所宣布,已證實采用硅類半導體制作的元件,可在室溫(300K)下通過注入電流實現(xiàn)Q值高達1560的發(fā)光。該大學表示,“這在硅類半導體技術中屬于全球最高值,完全可用作LED”。在

東京都市大學(原武藏工業(yè)大學)綜合研究所宣布,已證實采用硅類半導體制作的元件,可在室溫(300K)下通過注入電流實現(xiàn)Q值高達1560的發(fā)光。該大學表示,“這在硅類半導體技術中屬于全球最高值,完全可用作LED”。在采用硅類半導體實現(xiàn)光傳輸的“硅光子”技術領域,開發(fā)進程滯后的發(fā)光元件有可能由此向前邁進了一步。

負責此次開發(fā)的是東京都市大學工學部教授,綜合研究所硅納米科學研究中心主任丸泉琢也的研發(fā)小組。此次,該小組在鍺(Ge)半導體的量子點層和硅半導體層構成的超晶格中,嵌入采用光子結晶技術的共振器,由此證實了高Q值發(fā)光現(xiàn)象。

此次開發(fā)元件的主要部分尺寸約為30μm見方。具體制作方法是,在硅上采用分子束外延(MolecularBeamEpitaxy,MBE)法按照約1010個/cm2的面密度制作直徑78±3nm、高12nm的鍺量子點,然后,在其上面層疊硅層。按照這種順序重疊三層鍺量子點層。此時,會打多個直徑約為260nm的垂直孔,這些垂直孔會形成光子結晶,起到將光線封閉起來的共振器作用。

然后再進行n型和p型摻雜,形成以共振器部分為i層(本征半導體層)的硅類PIN構造,制成元件。

鍺和硅都被稱作“間接躍遷型半導體”,在半導體的能帶結構中,能量最大的價帶與能量最小的導帶之間的動能并不一致。因此,鍺和硅就成了電子和空穴難以再結合、因而不易發(fā)光的半導體。

而此次的元件之所以能發(fā)光,是因為以鍺量子點為p型半導體、以硅層為n型半導體,使空穴和電子能再結合。丸泉表示,“這不同于量子點的尺寸效應”。該元件的發(fā)光波長約為1.4μm。另外,塊狀鍺的帶隙為0.67eV(對應的發(fā)光波長約為1.9μm),硅的帶隙為1.1eV(對應的發(fā)光波長約為1.1μm),與此次元件的發(fā)光波長完全不同。東京都市大學介紹:“波長基本上由共振器的尺寸來決定?!?BR>
改變電流的流向

丸泉的研發(fā)小組此前曾采用由鍺量子點和硅構成的超晶格,于2010年在室溫下確認了基于電流注入的發(fā)光現(xiàn)象。不過,以前共振器無法按預想動作,發(fā)光波長范圍太大,只能獲得微弱的發(fā)光。

此次與原來的最大不同是流入元件中的電流流向,原來的電流流向是垂直貫穿鍺量子點與硅超晶格層,而此次則是電流沿著超晶格層流動,改變了電極的位置。這樣一來,共振器可有效發(fā)揮作用,Q值大幅提高。

另外,此次還優(yōu)化了共振器的設計,從而提高了面發(fā)光的提取效率。具體做法是稍微減小了共振器兩端垂直孔的尺寸,將其位置向外側稍微移動了一些,由此便可輕松地從表面沿著垂直方向發(fā)出光線。

據(jù)介紹,東京都市大學丸泉研發(fā)小組今后將使發(fā)光波長接近光通信中使用的1.55μm,同時進一步優(yōu)化元件構造,將Q值提高至數(shù)千甚至上萬,爭取在3~4年內實現(xiàn)激光振蕩。

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