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[導讀]應用材料公司日前宣​​布,推出新的物理氣相沉積(PVD)和電漿強化化學氣相沉積(PECVD)技術,促使超高畫質(UHD)電視及高像素密度顯示屏的行動裝置邁向新紀元。這項重大轉型技術的關鍵是新的金屬氧化物與低溫

應用材料公司日前宣​​布,推出新的物理氣相沉積(PVD)和電漿強化化學氣相沉積(PECVD)技術,促使超高畫質(UHD)電視及高像素密度顯示屏的行動裝置邁向新紀元。這項重大轉型技術的關鍵是新的金屬氧化物與低溫多晶矽(LTPS)材料,可用來制造更快速、更小巧的薄膜電晶體(TFT),適用于液晶顯示器(LCD)和有機發(fā)光二極體(OLED)技術。 Applied AKT-PiVot?物理氣相沉積和Applied AKT-PX電漿強化化學氣相沉積薄膜沉積系統(tǒng)為面板業(yè)者提供高效能、符合成本效益的途徑,帶動先進材料的量產。

應用材料公司集團副總裁暨顯示器事業(yè)群總經理湯姆.艾德曼(Tom Edman)表示:「在過去的20年中,TFT技術的精進,推動顯示器產業(yè)進行一場最關鍵的技術轉型。應用材料公司開發(fā)出通過驗證的系統(tǒng)產品組合,協(xié)助我們客戶技術躍進,進而運用這些新的薄膜??蛻衾梦覀兊南到y(tǒng)獲得出色的成果,應用材料公司業(yè)已獲得主要顯示器制造商的多張訂單。

針對采用金屬氧化物的TFT,應用材料公司的AKT-PiVot PVD系統(tǒng)使用專屬的旋轉陰極技術來沉積銦鎵鋅氧化物(IGZO),這是具有高電子遷移率的新材料,能形成電晶體通道。 PiVot 系統(tǒng)為顯示器產業(yè)提供了強大的IGZO 解決方案,能夠克服影響顯示器品質的顯示不均(mura effect) 缺陷,這項問題曾讓金屬氧化物技術無法成為液晶顯示器的主流。此外,由PiVot 沉積的銦鎵鋅氧化物薄膜突破了TFT 穩(wěn)定性問題,確保OLED可以使用金屬氧化物背板,大幅降低成本,讓經濟實惠而細致鮮艷的大型OLED電視成為可能。

低溫多晶矽(LTPS)技術是一項通過驗證的方法,可用來制造行動LCD和OLED裝置的最高解析度顯示幕,但一直面臨玻璃基板放大問題和單位制造成本高昂的挑戰(zhàn)。應用材料公司AT-PX電漿強化化學氣相沉積系統(tǒng)的全新擴充系列產品,可在1.6平方公尺到5.7平方公尺的玻璃基板上沉積出極為均勻的LTPS薄膜。這些加大的基板,讓面板制造商能夠實現經濟規(guī)模,大幅提高產能并降低成本,同時也讓全球各地數十億的消費者能夠享受大型LCD電視。應用材料的系統(tǒng)用于大面積玻璃制造,也有助加速LTPS技術的轉型,讓行動裝置與電視的顯示屏變得更大。

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