〖eNews消息〗英特爾公司今天宣布開設全球首家300毫米晶片研究實驗室。該實
驗室名為RP1(RP- research and pathfinding表示研究和探索)，耗資2.5億美元，是全球首家
致力于進行基于新型300毫米晶片的先進硅處理技術研究的實驗室。

英特爾
研究人員將利用RP1開發(fā)下一代照相平板印刷術(photolithography)、高性能晶體管、先進(銅和
光)互聯以及（涉及新材料和新化學過程的）環(huán)保生產工藝。這一新設施將使英特爾研究人員一如
既往地制造世界上體積最小、性能最佳的晶體管。晶體管越小，運行速度越快。而高速晶體管是高
速微處理器的關鍵建筑模塊，后者是計算機和無數其它智能產品的大腦。

英
特爾高級副總裁兼技術和制造事業(yè)部總經理Sunlin Chou博士說：“英特爾的技術隊伍將通過研
究、探索、開發(fā)和制造階段高效地促進創(chuàng)新。RP1與D1C相鄰，英特爾300毫米技術過程的各個環(huán)節(jié)
均已到位，將按照摩爾定律開發(fā)更大尺寸的晶片?！?/p>

RP1隸屬英特爾實驗室
下屬英特爾元件研究實驗室。英特爾元件研究實驗室開發(fā)的硅技術通常要領先英特爾目前的制造工
藝2－3代。

新建的RP1研究設施擁有56,000平方英尺的潔凈車間
(cleanroom)，與英特爾的開發(fā)工廠D1C和大規(guī)模制造廠Fab20相鄰。RP1將促使英特爾盡快將研究
進展付諸于生產制造。RP1是研究和探索機構，區(qū)別于英特爾的開發(fā)工廠。探索是研究和開發(fā)之間
的關鍵性過渡階段。這極大加快了英特爾將先進技術應用于量產產品的速度。

class=p14h>英特爾元件研究研究實驗室總監(jiān)Gerald Marcyk說：“RP1在業(yè)界獨樹一幟。

我們既可以在燒杯里進行小規(guī)模的研究，也能夠成批使用300毫米晶片進行
大規(guī)模研究，所有工作都是在一個實驗室中完成的?！?/p>

英特爾實驗室是英特
爾的研發(fā)機構，設施遍及全球，擁有6,000多名研究員和科學家。英特爾實驗室采用分散的研發(fā)模
式，內部研究機構實力雄厚，與之相輔相成的是和院校、政府實驗室和業(yè)界聯營機構開展的諸多外
部研究方案。這種結構與業(yè)界傳統(tǒng)的集中式研究實驗室有所不同，使英特爾能夠在更為廣泛的領域
內開展研究項目。英特爾實驗室與英特爾業(yè)務部門密切協(xié)作，使實驗室能夠針對客戶和消費者的需
求進行技術開發(fā)。

英特爾硅技術研究詳細情況見英特
爾新開設的硅展室，網址為www.intel.com/research/silicon。英特爾實驗室科研項目詳細情
況見www.intel.com/labs。