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據(jù)日本《日刊工業(yè)新聞》報道,一家由東芝、NEC電子等11家日本半導體生產(chǎn)商共同出資建立的高技術企業(yè)半導體尖端技術公司,近日成功開發(fā)出一種電子模型,該模型可被應用于預測互補金屬氧化物半導體(CMOS)晶體管的特性變動。 
  
在下一代半導體的研制與開發(fā)過程中,通常都會應用到一種叫淺溝道隔離(STI)的技術,這種技術被用于分隔大規(guī)模集成電路中CMOS晶體管的相鄰元件。而應用新開發(fā)的這種模型,可以在進行STI工序時預測所產(chǎn)生的應力引起的晶體管的特性變化,從而使對相鄰元件間距離的計算更加精確,不必像過去進行半導體設計時那樣考慮過多的冗余。

據(jù)該公司稱,這項發(fā)明可以將大規(guī)模集成電路的性能最大提高20%%,并將被日本生產(chǎn)商應用于下一代大規(guī)模集成電路的開發(fā)。 
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