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[導讀]一、半導體產業(yè)生態(tài)環(huán)境 半導體產業(yè)誕生于上世紀70年代,當時主要受兩大因素驅動:一是為計算機行業(yè)提供更符合成本效益的存儲器;二是為滿足企業(yè)開發(fā)具備特定功能的新產品而快速生產的專用集成電路。 到了80年

一、半導體產業(yè)生態(tài)環(huán)境

半導體產業(yè)誕生于上世紀70年代,當時主要受兩大因素驅動:一是為計算機行業(yè)提供更符合成本效益的存儲器;二是為滿足企業(yè)開發(fā)具備特定功能的新產品而快速生產的專用集成電路。

到了80年代,系統(tǒng)規(guī)范牢牢地掌握在系統(tǒng)集成商手中。存儲器件每3年更新一次半導體技術,并隨即被邏輯器件制造商采用。

在90年代,邏輯器件集成電路制造商加速引進新技術,以每2年一代的速度更新,緊跟在內存廠商之后。技術進步和產品性能增強之間不尋常的強相關性,使得相當一部分系統(tǒng)性能和利潤的控制權轉至集成電路(IC)制造商中。他們利用這種力量的新平衡,使整個半導體行業(yè)收入在此期間年均增速達到17%。

21世紀的前十年,半導體行業(yè)全新的生態(tài)環(huán)境已經(jīng)形成:

一是每2年更新一代的半導體技術,導致集成電路和數(shù)以百萬計的晶體管得以高效率、低成本地生產,從而在一個芯片上或同一封裝中,可以以較低的成本整合極為復雜的系統(tǒng)。此外,封裝技術的進步使得我們可以在同一封裝中放置多個芯片。這類器件被定義為系統(tǒng)級芯片(systemonchip,SOC)和系統(tǒng)級封裝(systeminpackage,SIP)。

二是集成電路晶圓代工商能夠重新以非常有吸引力的成本提供“新一代專用集成電路”,這催生出一個非常有利可圖的行業(yè)--集成電路設計。

三是集成電路高端設備的進步帶動了相鄰技術領域的發(fā)展,大大降低了平板顯示器、微機電系統(tǒng)傳感器、無線電設備和無源器件等設備的成本。在此條件下,系統(tǒng)集成商再次控制了系統(tǒng)設計和產品集成。

四是互聯(lián)網(wǎng)應用和移動智能終端的崛起,帶動了光纖電纜的廣泛部署和多種無線技術的發(fā)展,實現(xiàn)前所未有的全球移動互聯(lián)。這個生態(tài)系統(tǒng)創(chuàng)造了“物聯(lián)網(wǎng)”這一新興的市場,而創(chuàng)新的產品制造商、電信公司、數(shù)據(jù)和信息分銷商以及內容提供商正在爭奪該市場的主導權。

半導體是上述所有應用的基石,所有的創(chuàng)新離不開半導體產業(yè)的支持。

二、全球半導體技術發(fā)展路線

上世紀60年代后期,硅柵自對準工藝的發(fā)明奠定了半導體規(guī)格的根基。摩爾1965年提出的晶體管每兩年一次的更新?lián)Q代的“摩爾定律”,以及丹納德1975年提出的“丹納德定律”,促進了半導體產業(yè)的成長,一直到21世紀初,這是傳統(tǒng)幾何尺寸的按比例縮?。–lassicalGeometricallyDrivenScaling)時代。進入等效按比例縮?。‥quivalentScaling)時代的基礎是應變硅、高介電金屬閘極、多柵晶體管、化合物半導體等技術,這些技術的實現(xiàn)支持了過去十年半導體產業(yè)的發(fā)展,并將持續(xù)支持未來產業(yè)的發(fā)展。

(一)器件

信息處理技術正在推動半導體產業(yè)進入更寬廣的應用領域,器件成本和性能將繼續(xù)與互補金屬氧化物半導體(ComplementaryMetal-Oxide-SemiconductorTransistor,CMOS)的維度和功能擴展密切相關。

應變硅、高介電金屬閘極、多柵晶體管現(xiàn)已廣泛應用于集成電路的制造,進一步提升器件性能的重點將在III-V族元素材料和鍺。與硅器件相比,這些材料將使器件具有更高的遷移率。為了利用完善的硅平臺的優(yōu)勢,預計新的高遷移率材料將在硅基質上外延附生。

2DScaling最終將在2013國際半導體技術路線圖(ITRS)期間達到其基本限制,無論是邏輯器件還是存儲器件正在探索如何使用垂直維度(3D)。3D設備架構和低功率器件的結合將開啟“3D能耗規(guī)?;≒owerScaling)”時代,單位面積上晶體管數(shù)量的增加將最終通過多層堆疊晶體管來實現(xiàn)。

遺憾的是,互連方面沒有新的突破,因為尚無可行的材料具有比銅更低的電阻率。然而,處理碳納米管、石墨烯組合物等無邊包裹材料(edgelesswrappedmaterials)方面的進展為“彈道導體”(ballisticconductor)的發(fā)展提供基礎保障,這可能將在未來十年內出現(xiàn)。

多芯片的三維封裝對于減少互聯(lián)電阻提供了可能的途徑,主要是通過增加導線截面(垂直)和減少每個互連路徑的長度。

然而,CMOS或目前正在研究的等效裝置(equivalentdevice)的橫向維度擴展最終將達到極限。未來半導體產品新機會在于:一是通過新技術的異構集成,擴展CMOS平臺的功能;二是開發(fā)支持新一代信息處理范式的設備。

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