在EVG的NILPhotonics ® 技術(shù)處理中心，共同合作開發(fā)衍射光學的新材料，以應用于波導管、臉部識別傳感器和其他光子組件

2020年2月17日，奧地利ST. FLORIAN和芬蘭埃斯波—EV Group(EVG)，為MEMS、納米科技和半導體市場提供晶圓鍵合和光刻設(shè)備的領(lǐng)導品牌供貨商，今天宣布，它和專注于高折射率和低折射率涂層材料的制造商 INKRON開始合作伙伴關(guān)系。兩間公司將為開發(fā)和生產(chǎn)高質(zhì)量衍射光學組件(DOE)結(jié)構(gòu)提供優(yōu)化的制程和相符的高折射材料。這些DOE結(jié)構(gòu)包括用于擴增實境/混合實境/虛擬現(xiàn)實(AR / MR / VR)的波導器件，以及在車用、消費電子和商業(yè)應用中的先進光學感測組件，如光束分離器和光束擴散器。

印刻有配備Inkron先進樹脂的EVG光刻/納米壓印系統(tǒng)的光學組件結(jié)構(gòu)

這伙伴關(guān)系正在EVG總部，位于奧地利 St. Florian的NILPhotonics®技術(shù)處理中心內(nèi)開展 。EVG的NILPhotonics技術(shù)處理中心為NIL供應鏈中的客戶和合作伙伴提供一個開放式創(chuàng)新平臺，其目的為縮短新創(chuàng)光子組件及其應用的開發(fā)周期和產(chǎn)品上市時間。作為該協(xié)議的一部分，Inkron為自己的研發(fā)機構(gòu)購買了EVG 7200 NIL系統(tǒng)，來加速新光學材料的開發(fā)和驗證。EVG 7200系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL ® 技術(shù)和材料經(jīng)驗，能夠在大面積上大規(guī)模生產(chǎn)小至30 nm的微米和納米級結(jié)構(gòu)，其特色還包含它只需用到極小的力量同時保有結(jié)構(gòu)不變形，快速的高功率曝光和平順的脫模。.

“ 商用和消費者市場對晶圓級光學組件和傳感器的需求正以驚人的速度增長，而這造成所需的原材料及工藝必須被優(yōu)化，以達到市場所需的效能及產(chǎn)能，” EVG技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)，Markus Wimplinger這樣說，“ Inkron在光學材料方面擁有廣泛的專業(yè)知識，并且是高折射和低折射涂層材料的領(lǐng)先制造商之一，因此Inkron成為與我們在NILPhotonics技術(shù)處理中心合作的理想伙伴。像這樣的合作使EVG能夠進一步探索和擴展我們NIL技術(shù)的應用和特性，而得以為下一代光學組件和其最終產(chǎn)品提供可用于量產(chǎn)的解決方案。”

光學組件和組件的材料特性，對已封裝的光學組件整體效能及大小有著極大影響。舉例來說，較高的折射率(RI≧1.9 以上)可優(yōu)化光萃取效能，進而顯著提升光導管可見視野，提供給AR / VR頭罩更逼真的體驗。高折材料還可以提供更高的光密度，使衍射光學更有效地用于分束器(例如臉部識別的傳感器)，如此未來的光學組件就可變得更小。高折射材料的附加優(yōu)化可以改善膜的透明度，并減少霧度和散射，從而提供更好的對比度;而改善的樹脂穩(wěn)定性可以滿足更嚴苛的熱要求，如車用方面的需求。

為NIL制程而調(diào)配的高折材料，有助于確保NIL制程在量產(chǎn)化的實現(xiàn)。NIL 是一種被驗證過的光學組件制造方法，因為它能夠在保有其經(jīng)濟效益下，于量產(chǎn)中做出納米等級的結(jié)構(gòu)，而且并不限制于特別的尺寸、形狀和復雜性。

“我們很高興與EVG合作，這將加速我們推出更新、更優(yōu)化和更創(chuàng)新的光學材料技術(shù)，這些技術(shù)對實現(xiàn)我們客戶的關(guān)鍵性能指針有著很大的幫助。” Inkron執(zhí)行長Juha Rantala表示，“我們的納米壓印高折材料和搭配的填充涂層，再加上EVG領(lǐng)先的NIL系統(tǒng)，為光學制造商提供了關(guān)鍵的晶圓級解決方案，這可以讓他們最新產(chǎn)品能更大量的生產(chǎn)。”

晶圓級光學(WLO)的應用和解決方案

EVG的NIL系統(tǒng)構(gòu)成了該公司W(wǎng)LO制造解決方案的關(guān)鍵部件，這使得大量新的光感器可用于移動消費電子產(chǎn)品中。舉例包括3D感應、飛行時間、結(jié)構(gòu)光、生物識別、臉部識別、虹膜掃描、光學指紋、光譜感應、環(huán)境感應和紅外線熱成像。其他應用包括車用照明、光地毯、抬頭顯示器、車內(nèi)感應和LiDAR(激光雷達)，以及用于內(nèi)窺鏡相機，眼科應用和外科手術(shù)機器人的醫(yī)學成像。EVG的WLO解決方案由該公司NILPhotonics技術(shù)處理中心提供。

關(guān)于Inkron

長瀨集團成員Inkron是高折射和低折射涂層材料的開發(fā)商和制造商。這些業(yè)界領(lǐng)先的光學涂料包含在VIS / NIR范圍內(nèi)，有著破紀錄的折射率，其折射率介于1.1到2.0之間。高折射材料針對納米壓印光刻(NIL)制程進行了優(yōu)化。應用包括DOE(衍射光學組件)，如AR / MR / VR設(shè)備的波導管、光學擴散器、LIDAR和其他光子應用。高折射材料可同時搭配Inkron的低折射材料，其低折射范圍為1.1-1.4。低折射材料的典型應用包括抗反射涂層(可見光和NIR范圍)、波導管包覆層和接著層。自制合成的樹脂和配方具有光學透明性，熱穩(wěn)定性，并且可以滿足商業(yè)需求的嚴苛應用。Inkron的其他產(chǎn)品包括導熱粘合劑，封裝膠和一系列可印刷膠材。

關(guān)于EV Group(EVG)

EV集團(EVG)是為半導體、微機電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)先供應商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻(NIL)與計量設(shè)備，以及涂膠機、清洗機和檢測系統(tǒng)。EV集團成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò)提供各類服務(wù)與支持。