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后ArF時代的光刻征途
Cost matters。用中國話說就是“成本猛于虎”。 半導體業(yè)人士最大的夢想莫過于以最小的成本投入換取最大的回報。因此，按比例縮小、在單片晶圓上制造出更多的芯片是創(chuàng)新最強大的驅(qū)動力，它影響著成千上萬的工程師
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隨筆：EUV光刻技術與協(xié)和式超音速客機的奇妙類比
與我們熟悉的摩爾定律類似，如果采樣對比的時間長度足夠短，那么幾乎任何科技發(fā)展的速度都會呈現(xiàn)出一種對數(shù)級的線性增長。有些業(yè)內(nèi)人士總是喜歡將其所在業(yè)界的發(fā)展歷史趨勢總結為與摩爾定律類似的形式，希望業(yè)界的未
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MIT實現(xiàn)9納米工藝電子束光刻技術
麻省理工學院 (MIT)的研究人員表示，已經(jīng)開發(fā)出一種技術，可望提升在芯片上寫入圖案的高速電子束光刻解析度，甚至可達9nm，遠小于原先所預期的尺寸。MIT表示，電子束光刻工具的最小特征尺寸已證實可以解決25nm的制程
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麻理將電子束光刻可刻制最小圖像尺寸降至9nm
麻省理工學院的研究人員表示，他們已經(jīng)研制出了一種可以刻制尺寸為9nm圖像的電子束光刻技術，而此前電子束光刻技術所能刻制的圖像尺寸極限則為25nm左右.有關這次研究的詳細內(nèi)容將發(fā)表在下一期的《微電子工程》（ Mic
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后ArF時代的光刻征途
Cost matters。用中國話說就是“成本猛于虎”。 半導體業(yè)人士最大的夢想莫過于以最小的成本投入換取最大的回報。因此，按比例縮小、在單片晶圓上制造出更多的芯片是創(chuàng)新最強大的驅(qū)動力，它影響著成千上萬的工程師
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光源問題仍是EUV光刻技術中的難題
GlobalFoundries公司的光刻技術專家Obert Wood在最近召開的高級半導體制造技術會議ASMC2011上表示，盡管業(yè)界在改善EUV光刻機用光源技術方面取得了一定成效，但光源問題仍是EUV光 刻技術成熟過程中最“忐忑”的因素。
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GlobalFoundries光刻專家談EUV最新進展
GlobalFoundries公司的光刻技術專家Obert Wood在最近召開的高級半導體制造技術會議ASMC2011上表示，盡管業(yè)界在改善EUV光刻機用光源技術方面取得了一定成效，但光源問題仍是EUV光刻技術成熟過程中最“忐忑”的因素。O
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光刻技術：193nm波長光源光刻技術的延壽術與緩兵之計
半導體工業(yè)目前的普遍做法是使用的是波長接近200nm的光源來刻制30nm尺寸級別的芯片圖像。如果按照常規(guī)的光學理論，由于所謂衍射極限的存 在，200nm光源光刻技術的理論分辨率極限應在400nm左右。 然而，實際上人們
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Intel:極遠紫外光刻恐將錯過10nm工藝
Intel近日親口承認，備受關注的極遠紫外光刻(EUV)技術可能又要推遲了，要趕不上10nm工藝這一里程碑步驟希望渺茫。 Intel目前的計劃是在14nm工藝上擴展193nm沉浸式光刻技術，預計2013年下半年實現(xiàn)，然后2015年下半
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EUV掩膜版清洗技術遭遇資金危機
本周在奧斯汀由美國半導體制造技術戰(zhàn)略聯(lián)盟(Sematech)牽頭舉辦的表面制備與清潔技術大會(SPCC:Surface Preparation and Cleaning Conference)上,與會者紛紛表示EUV光刻技術的發(fā)展對EUV有關的量測技術以及掩膜清潔技術
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光刻世界的期待與沮喪
數(shù)十年來，光刻一直是關鍵的芯片生產(chǎn)技術。今天它仍然很重要。不過，在最近的SPIE先進光刻技術大會中，一些跡象顯示，光刻界及其客戶需要的微縮──字面上的微縮──事實上幾乎已經(jīng)有點像心理安慰了。 焦慮、緊張
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誰才是IC大佬們的光刻技術最愛？
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務(至少從對外公布的路線圖上看是這樣)
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芯片制造三巨頭的次世代光刻技術戰(zhàn)略
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務（至少從對外公布的路線圖上看是這樣
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Intel：極遠紫外光刻恐將錯過10nm工藝
Intel近日親口承認，備受關注的極遠紫外光刻(EUV)技術可能又要推遲了，要趕不上10nm工藝這一里程碑步驟希望渺茫。 Intel目前的計劃是在14nm工藝上擴展193nm沉浸式光刻技術，預計2013年下半年實現(xiàn)，然后2015年下半年
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芯片制造三巨頭的次世代光刻技術戰(zhàn)略對比分析
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務（至少從對外公布的路線圖上看是這樣
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芯片制造三巨頭的次世代光刻技術戰(zhàn)略對比分析
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務（至少從對外公布的路線圖上看是這樣
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芯片制造三巨頭的次世代光刻技術戰(zhàn)略異同分析
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方 面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務（至少從對外公布的路線圖上看是這樣
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芯片制造三巨頭的次世代光刻技術戰(zhàn)略對比分析
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方 面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務（至少從對外公布的路線圖上看是這樣
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Intel：EUV技術的發(fā)展可能趕不上我們部署10nm制程技術的腳步
在最近召開的SPIE高級光刻技術會議上，記者了解到了更多有關Intel與EUV光刻技術方面的新動向，據(jù)了解，Intel將EUV光刻技術應用到大批 量生產(chǎn)的時間點將會遲于Intel推出14nm制程產(chǎn)品的時間點，而且按現(xiàn)在的發(fā)展趨勢來
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Intel：EUV技術的發(fā)展可能趕不上我們部署10nm制程技術的腳步
在最近召開的SPIE高級光刻技術會議上，記者了解到了更多有關Intel與EUV光刻技術方面的新動向，據(jù)了解，Intel將EUV光刻技術應用到大批量生產(chǎn)的時間點將會遲于Intel推出14nm制程產(chǎn)品的時間點，而且按現(xiàn)在的發(fā)展趨勢來看
