7月24日上午消息(楊笑)由中國(guó)和東盟10國(guó)政府經(jīng)貿(mào)主管部門(mén)及東盟秘書(shū)處共同主辦、廣西壯族自治區(qū)人民政府承辦的“第十屆中國(guó)-東盟博覽會(huì)”將于2013年9月3日至6日舉行,同期,還將舉辦“第十屆中國(guó)-
被視為產(chǎn)學(xué)攜手雄踞世界舞臺(tái)的產(chǎn)學(xué)大聯(lián)盟計(jì)劃審議結(jié)果昨(23)日出爐,臺(tái)積電及中鋼兩支團(tuán)隊(duì)獲得青睞。 國(guó)科會(huì)與經(jīng)濟(jì)部昨(23)日召開(kāi)指導(dǎo)委員會(huì)共同審議「補(bǔ)助前瞻技術(shù)產(chǎn)學(xué)合作計(jì)劃」(簡(jiǎn)稱(chēng)產(chǎn)學(xué)大聯(lián)盟),歷經(jīng)3個(gè)月的
曾經(jīng)報(bào)道了一次天河2,但關(guān)于這部機(jī)器的細(xì)節(jié)還是一團(tuán)迷霧,特別是升級(jí)了「ARCH」聯(lián)網(wǎng)系統(tǒng)的內(nèi)部細(xì)節(jié),16,000個(gè)節(jié)點(diǎn)是怎么通過(guò)這個(gè)ARCH堆到一起的。但下面這些圖片,稍能滿(mǎn)足一下大家的好奇心。首先是天
Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司昨日宣布,歷經(jīng)廣泛的基準(zhǔn)測(cè)試后,半導(dǎo)體制造商聯(lián)華電子(UMC)已采用Cadence“設(shè)計(jì)內(nèi)”和“簽收”可制造性設(shè)計(jì)(DFM)流程對(duì)28納米設(shè)計(jì)進(jìn)行物理簽收和電學(xué)變量?jī)?yōu)化。該流程既解
臺(tái)積電發(fā)動(dòng)新一波擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃。臺(tái)積電在18日法說(shuō)會(huì)中宣布,將加速臺(tái)南Fab14廠五、六、七期擴(kuò)建工程,以在2014~2015年加入28奈米量產(chǎn)行列,同時(shí)提出新一代超大晶圓廠(Giga-Fab)計(jì)劃,將以空橋連接所有Fab14新舊廠,全面
蓄電池技術(shù)是下一代汽車(chē)--電動(dòng)汽車(chē)的核心技術(shù)之一。蓄電池是復(fù)雜的電化學(xué)系統(tǒng),國(guó)內(nèi)外對(duì)電池管理技術(shù)都進(jìn)行了大量的研究,取得了許多成果。一般認(rèn)為電池管理系統(tǒng)主要有如下
在日前于美國(guó)舊金山舉行的 Semicon West 半導(dǎo)體設(shè)備展上,仍在開(kāi)發(fā)中的超紫外光(EUV)微影技術(shù)又一次成為討論焦點(diǎn);歐洲微電子研究機(jī)構(gòu)IMEC總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)Luc Van den Hove在一場(chǎng)座談會(huì)中表示:「EUV仍然是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界
天河2號(hào)已經(jīng)報(bào)道了很多次了,但關(guān)于這部全球第一的超級(jí)計(jì)算機(jī),很多細(xì)節(jié)還是一團(tuán)迷霧,特別是升級(jí)了“ARCH”聯(lián)網(wǎng)系統(tǒng)的內(nèi)部細(xì)節(jié),16000個(gè)節(jié)點(diǎn)是怎么通過(guò)這個(gè)ARCH堆到一起的?希望本文能稍微滿(mǎn)足一下大家的好
新的NMOS(N型金屬氧化物半導(dǎo)體)外延沉積工藝對(duì)下一代移動(dòng)處理器芯片內(nèi)更快的晶體管至關(guān)重要。應(yīng)用材料公司在Applied Centura RP Epi系統(tǒng)設(shè)備上新開(kāi)發(fā)了一套NMOS晶體管應(yīng)用技術(shù),繼續(xù)保持其在外延技術(shù)方面十年來(lái)的領(lǐng)先
與傳統(tǒng)有線檢測(cè)系統(tǒng)相比,低功耗無(wú)線技術(shù)正在使傳感器網(wǎng)絡(luò)的成本大幅降低,并為采用有線方法根本不可能實(shí)現(xiàn)的傳感器網(wǎng)絡(luò)提供了實(shí)現(xiàn)的可能性。低功耗無(wú)線傳感器網(wǎng)絡(luò) (WSN)
新的NMOS(N型金屬氧化物半導(dǎo)體)外延沉積工藝對(duì)下一代移動(dòng)處理器芯片內(nèi)更快的晶體管至關(guān)重要 應(yīng)用材料公司在Applied Centura RP Epi系統(tǒng)設(shè)備上新開(kāi)發(fā)了一套NMOS晶體管應(yīng)用技術(shù),繼續(xù)保持其在外延技術(shù)方面十年來(lái)的領(lǐng)
新的NMOS(N型金屬氧化物半導(dǎo)體)外延沉積工藝對(duì)下一代移動(dòng)處理器芯片內(nèi)更快的晶體管至關(guān)重要 應(yīng)用材料公司在Applied Centura RP Epi系統(tǒng)設(shè)備上新開(kāi)發(fā)了一套NMOS晶體管應(yīng)用技術(shù),繼續(xù)保持其在外延技術(shù)方面十年來(lái)的領(lǐng)
有一種常見(jiàn)的工業(yè)和消費(fèi)應(yīng)用,即按一個(gè)長(zhǎng)間隔(如每分鐘一次)對(duì)環(huán)境條件,如GPS(全球定位系統(tǒng))位置、電壓、溫度或光線進(jìn)行采樣的系統(tǒng)。這類(lèi)系統(tǒng)正越來(lái)越多地采用無(wú)線和電池供
由于汽車(chē)產(chǎn)業(yè)不斷追求安全可靠、極致性能、舒適方便以及低成本等目標(biāo),但汽車(chē)內(nèi)高復(fù)雜的系統(tǒng)網(wǎng)絡(luò),使得線束過(guò)于龐大,導(dǎo)致成本提高且網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)也難以持續(xù)提升,與前者形成沖突。于是德國(guó)Bosch在1985年提出CAN BUS(Con
在日前召開(kāi)的“互聯(lián)網(wǎng)經(jīng)濟(jì)國(guó)際交流專(zhuān)題研討會(huì)”上,工信部電信研究院政策與經(jīng)濟(jì)研究所副主任馬志剛表示,寬帶建設(shè)能大幅度提升互聯(lián)網(wǎng)經(jīng)濟(jì)發(fā)展水平。以三家基礎(chǔ)電信企業(yè)為主體,加快“光進(jìn)銅退”進(jìn)
根據(jù)SemicoResearch的報(bào)告顯示,采用28nm制程的系統(tǒng)級(jí)晶片(SoC)設(shè)計(jì)成本較前一代40nm制程節(jié)點(diǎn)增加了78%,此外,軟體成本增加的比重更高,提高約一倍以上。Semicon估計(jì),推出系統(tǒng)晶片所需的軟體開(kāi)發(fā)成本,目前已經(jīng)遠(yuǎn)高
根據(jù)SemicoResearch的報(bào)告顯示,采用28nm制程的系統(tǒng)級(jí)晶片(SoC)設(shè)計(jì)成本較前一代40nm制程節(jié)點(diǎn)增加了78%,此外,軟體成本增加的比重更高,提高約一倍以上。Semicon估計(jì),推出系統(tǒng)晶片所需的軟體開(kāi)發(fā)成本,目前已經(jīng)遠(yuǎn)高
根據(jù)SemicoResearch的報(bào)告顯示,采用28nm制程的系統(tǒng)級(jí)晶片(SoC)設(shè)計(jì)成本較前一代40nm制程節(jié)點(diǎn)增加了78%,此外,軟體成本增加的比重更高,提高約一倍以上。Semicon估計(jì),推出系統(tǒng)晶片所需的軟體開(kāi)發(fā)成本,目前已經(jīng)遠(yuǎn)高
根據(jù)SemicoResearch的報(bào)告顯示,采用28nm制程的系統(tǒng)級(jí)晶片(SoC)設(shè)計(jì)成本較前一代40nm制程節(jié)點(diǎn)增加了78%,此外,軟體成本增加的比重更高,提高約一倍以上。Semicon估計(jì),推出系統(tǒng)晶片所需的軟體開(kāi)發(fā)成本,目前已經(jīng)遠(yuǎn)高
雙鑲嵌、矽通孔(TSV)、微機(jī)電(MEMS)與太陽(yáng)能等領(lǐng)域濕沉積技術(shù)的領(lǐng)先供應(yīng)商Alchimer,宣布與歐洲研究機(jī)構(gòu)IMEC攜手進(jìn)行一項(xiàng)合作研發(fā)計(jì)劃,為先進(jìn)的奈米互連技術(shù)評(píng)估和實(shí)施銅(Cu)填充解決方案。該計(jì)劃的重點(diǎn)將是Alchime