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瑞晶成30納米制程轉(zhuǎn)換最快的臺灣DRAM廠

瑞晶董事會日前通過30納米制程轉(zhuǎn)換資本支出18.15億元決議案，并沖刺單月產(chǎn)能到年底達到8.8萬片，成為邁向30納米制程進展最快的臺系DRAM廠。此外，董事會也通過，向臺灣歐力士公司申請機器設(shè)備售后租回融資約10億元，

智能硬件
2011-07-04

DRAM 爾必達 ASML BSP
臺積電臺聯(lián)電分別拋出設(shè)備大訂單

日本東京電子(TEL)日前收到來自聯(lián)電的一筆后繼設(shè)備訂單，價值約為三千零五十萬美元，這是TEL今年迄今為止收到的來自聯(lián)電的最大一筆設(shè)備訂單，TEL接獲來自聯(lián)電的上一筆訂單是在今年四月，價值為一千九百十萬美元。與此

半導(dǎo)體
2011-06-30

聯(lián)電臺積電 TE ASML
臺積電加入EIDEC聯(lián)盟

臺積電與日本瑞薩電子(Renesas)決定加入以研發(fā)次世代半導(dǎo)體制造技術(shù)為目標(biāo)的EUVL基板開發(fā)中心(EIDEC)。EIDEC是由東芝(Toshiba)領(lǐng)軍，由11間日本企業(yè)共同出資設(shè)立，致力于研究深紫外線(EUV)微影技術(shù)。目前EIDEC已經(jīng)和

電子設(shè)計自動化
2011-06-15

東芝臺積電 IDE ASML
ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺　預(yù)計2012年開始正式交貨

2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，

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2011-05-19

EUV光刻機 EUV DRAM ASML
ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺　預(yù)計2012年開始正式交貨

2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(ImmersionScanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，對

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2011-05-18

EUV光刻機 EUV DRAM ASML
ASML單價近一億美元EUV光刻機訂單已達10臺

2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨;不過，對

電子設(shè)計自動化
2011-05-18

EUV光刻機 EUV DRAM ASML
日震效應(yīng)延燒半導(dǎo)體設(shè)備下單

據(jù)路透(Reuters)報導(dǎo)，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備商ASML指出，日本強震打亂客戶供應(yīng)鏈，導(dǎo)致部分客戶下單態(tài)度出現(xiàn)遲疑現(xiàn)象。 ASML以微顯影機臺引領(lǐng)半導(dǎo)體設(shè)備市場，近期發(fā)布2011年第1季財報，該期間ASML營收為14.52億歐元(約

消費電子
2011-04-18

供應(yīng)鏈半導(dǎo)體設(shè)備 ICE ASML
ASML第一季度凈利潤增至3.95億歐元訂單規(guī)模達8.45億歐元

荷蘭半導(dǎo)體光刻設(shè)備供應(yīng)商ASMLHoldingNV日前宣布，第一季度凈利潤增加兩倍以上達到3.95億歐元，季度營收同樣增加近一倍升至14.5億歐元，好于分析師預(yù)期。季度利潤升至3.95億歐元(5.70億美元)或每股0.9歐元，一年前同

半導(dǎo)體
2011-04-17

供應(yīng)鏈芯片制造商光刻 ASML
2010年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商排行榜公布

VLSI Research市調(diào)公司近日公布了2010年全球芯片廠用設(shè)備制造廠商排行榜，應(yīng)用材料公司仍然穩(wěn)居老大位置，而近年來相當(dāng)活躍的光刻設(shè)備廠商荷蘭ASML則排名超過東電電子公司(TEL)上升到了第二位，東電電子則在排行榜上

電子設(shè)計自動化
2011-03-31

電子半導(dǎo)體設(shè)備 RESEARCH ASML
亞洲產(chǎn)業(yè)重鎮(zhèn) 封測設(shè)備站更穩(wěn)

國內(nèi)封測業(yè)樂見國際封測設(shè)備大廠透過并購壯大版圖，包括日月光、矽品及力成等封測大廠強調(diào)，愛德萬（Advantest）的半導(dǎo)體測試機臺長期以來一直是臺灣封測業(yè)重要設(shè)備采購對象，隨國際整合元件大廠（IDM）持續(xù)對臺下

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2011-03-29

元件測試機 DM ASML
光刻世界的期待與沮喪

數(shù)十年來，光刻一直是關(guān)鍵的芯片生產(chǎn)技術(shù)。今天它仍然很重要。不過，在最近的SPIE先進光刻技術(shù)大會中，一些跡象顯示，光刻界及其客戶需要的微縮──字面上的微縮──事實上幾乎已經(jīng)有點像心理安慰了。焦慮、緊張

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2011-03-21

光刻光刻技術(shù) EUV ASML
微影世界的藍色憂郁

數(shù)十年來，微影一直是關(guān)鍵的晶片生產(chǎn)技術(shù)。今天它仍然很重要。不過，在最近的 SPIE 先進微影大會中，一些跡象顯示，微影社群及其客戶需要的微縮──字面上的微縮──事實上幾乎已經(jīng)有點像心理安慰了。焦慮、緊張和憂

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2011-03-18

晶片東芝 EUV ASML
英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技

消費電子
2011-03-09

英特爾 EUV NIKON ASML
英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯失良機

英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技

電子設(shè)計自動化
2011-03-09

英特爾 EUV NIKON ASML
英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技

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2011-03-09

英特爾 EUV NIKON ASML
英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定，EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技

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2011-03-08

英特爾 EUV NIKON ASML
英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定，EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微

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2011-03-08

英特爾 EUV NIKON ASML
比利時IMEC宣布已安裝ASML NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機

比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC最近宣布在其設(shè)在比利時魯汶的研究設(shè)施中安裝了一臺ASML生產(chǎn)的NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機。IMEC機構(gòu)的總裁兼CEO Luc Van den hove會在今天召開的SPIE高級光刻技術(shù)會議（SPIE advanced lithog

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2011-03-01

光刻技術(shù) EUV光刻機 SPI ASML
日本人揚頭趕上：尼康光刻機市場表現(xiàn)回勇

日本尼康公司曾經(jīng)一度在高端光刻機市場上相比其對手荷蘭ASML公司有所失寵，不過最近由于高端光刻機市場需求相當(dāng)旺盛，尼康公司的光刻部門終于擺脫了兩年以來一直賠本經(jīng)營的局面。由于市場對尼康193nm液浸式光刻工

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2011-02-09

相機尼康光刻機 ASML
歐洲半導(dǎo)體業(yè)者4Q營收樂觀

據(jù)道瓊(DowJones)報導(dǎo)，由于智能型手機、平板計算機2011年持續(xù)發(fā)燒，毆洲半導(dǎo)體業(yè)者可望大展身手，走出往昔的經(jīng)濟泥沼，加上美國、亞洲對手上需面對棘手的PC市場挑戰(zhàn)，歐洲業(yè)者當(dāng)前更顯輕松寫意。半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷商

半導(dǎo)體
2011-01-24

英飛凌 ASML

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瑞晶成30納米制程轉(zhuǎn)換最快的臺灣DRAM廠

臺積電臺聯(lián)電分別拋出設(shè)備大訂單

臺積電加入EIDEC聯(lián)盟

ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺　預(yù)計2012年開始正式交貨

ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺　預(yù)計2012年開始正式交貨

ASML單價近一億美元EUV光刻機訂單已達10臺

日震效應(yīng)延燒半導(dǎo)體設(shè)備下單

ASML第一季度凈利潤增至3.95億歐元訂單規(guī)模達8.45億歐元

2010年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商排行榜公布

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光刻世界的期待與沮喪

微影世界的藍色憂郁

英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯失良機

英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定，EUV技術(shù)恐錯過良機

英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定，EUV技術(shù)恐錯過良機

比利時IMEC宣布已安裝ASML NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機

日本人揚頭趕上：尼康光刻機市場表現(xiàn)回勇

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