為800V應(yīng)用選擇合適的半導(dǎo)體技術(shù)
摘要
隨著AI數(shù)據(jù)中心向更高功率密度和更高效能源分配演進(jìn),高壓中間母線轉(zhuǎn)換器(HV IBC)正逐漸成為下一代云計算供電架構(gòu)中的關(guān)鍵器件。本文針對橫向GaN HEMT、碳化硅MOSFET及SiC Cascode JFET(CJFET)三類寬禁帶功率器件,在近1 MHz高頻開關(guān)條件下用于高壓母線轉(zhuǎn)換器的性能展開對比分析。重點評估了導(dǎo)通損耗、開關(guān)特性、柵極電荷損耗及緩沖電路需求等關(guān)鍵指標(biāo)。同時,本文亦探討了三種諧振轉(zhuǎn)換器拓?fù)洹询B式LLC、單相LLC與三相LLC——對其系統(tǒng)效率與元件數(shù)量的影響。仿真結(jié)果表明,盡管三類半導(dǎo)體器件的系統(tǒng)總損耗相近,但CJFET因結(jié)構(gòu)簡單、驅(qū)動便捷,在成本方面具備顯著優(yōu)勢。在拓?fù)浔容^中,三相LLC通過有效降低RMS電流并減少元件數(shù)量,表現(xiàn)出更優(yōu)的綜合性能。本研究為未來高壓IBC設(shè)計中半導(dǎo)體選型與拓?fù)渑渲锰峁┝死碚撘罁?jù),安森美(onsemi)正開展相關(guān)實驗驗證工作。
引言
當(dāng)前,云計算供電架構(gòu)正朝著更高傳輸電壓的方向演進(jìn)。這一趨勢不僅體現(xiàn)在數(shù)據(jù)中心與電網(wǎng)的連接方式上——將通過固態(tài)變壓器直接接入中壓電網(wǎng),也體現(xiàn)在數(shù)據(jù)中心內(nèi)部的電力分配系統(tǒng)中——其正逐步轉(zhuǎn)向高壓直流配電架構(gòu)。在該架構(gòu)下,計算托盤將直接連接至800V直流母線,隨后通過高壓IBC將電壓降至50V或12V,為下游負(fù)載供電。
高壓IBC具備以下關(guān)鍵特性:
? 實現(xiàn)電壓降壓(16:1或64:1變換比)
? 提供電氣隔離以保障安全
? 非穩(wěn)壓輸出
? 具備短時過載能力
? 超緊湊的外形尺寸
? 轉(zhuǎn)換效率高
本白皮書將重點圍繞實現(xiàn)上述目標(biāo)的轉(zhuǎn)換器拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)與半導(dǎo)體技術(shù)展開探討。內(nèi)容主要聚焦于原邊的拓?fù)溥x擇與半導(dǎo)體器件;副邊假定采用低壓硅基MOSFET,并配置為中心抽頭電流倍增器或全橋結(jié)構(gòu)。
半導(dǎo)體技術(shù)
為滿足高壓IBC在小型化設(shè)計中無源元件的布局要求,系統(tǒng)需以極高的開關(guān)頻率(接近1 MHz)運(yùn)行。因此可選的半導(dǎo)體器件被限定為寬禁帶器件,主要包括:氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)、碳化硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(SiC MOSFET)以及SiC Cascode JFET(CJFET)。在本應(yīng)用中,上述器件的關(guān)鍵評估指標(biāo)集中于導(dǎo)通損耗、開關(guān)特性與成本三個方面。
導(dǎo)通損耗
這三種器件在導(dǎo)通狀態(tài)下均可用電阻Rds,on來表征(與IGBT等具有恒定導(dǎo)通壓降的器件不同)。因此,其導(dǎo)通損耗與流經(jīng)電流的平方成正比:
Pcon=Rds,on × I2ds (方程1)
Rds,on會隨溫度升高而增加,其標(biāo)稱值僅適用于25℃的結(jié)溫。下表對比了典型GaN器件、安森美(onsemi)M3S 650 V器件以及安森美第四代CJFET 750 V器件的導(dǎo)通電阻隨溫度上升的情況。
表1. 不同結(jié)溫下的Rds,on值
在為特定應(yīng)用確定正確的Rds,on值時,必須考慮這種增加。
開關(guān)特性
在“轉(zhuǎn)換器拓?fù)洹币还?jié)中探討的所有拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)均受益于軟開關(guān)特性,其固定電流可在轉(zhuǎn)換器設(shè)計階段進(jìn)行優(yōu)化。在開關(guān)轉(zhuǎn)換瞬間,諧振電流為零,僅勵磁電流流通,而該電流可通過調(diào)整變壓器勵磁電感(例如改變氣隙)等參數(shù)靈活控制。因此,三種半導(dǎo)體技術(shù)在開關(guān)過程中產(chǎn)生的損耗可忽略不計。然而,其寄生電容仍顯著影響開關(guān)軌跡。
影響開關(guān)特性的主要差異源于器件的輸出電容(COSS)。通常,SiC MOSFET具有較大的COSS,這是由于其需要更大的裸芯尺寸才能實現(xiàn)與GaN HEMT或SiC CJFET相當(dāng)?shù)膶?dǎo)通電阻(Rds,on),如表2所示。該電容與勵磁電流共同決定了半導(dǎo)體器件的開關(guān)轉(zhuǎn)換速度。
(方程2)
在此過渡階段,轉(zhuǎn)換器不傳輸任何功率。因此,將其保持在整個開關(guān)周期的較小比例更為有利。對方程(2)進(jìn)行時間變量積分并求解勵磁電流,可得到方程(3)。
(方程 3)
該方程可用于計算在給定時間(td)內(nèi),根據(jù)半導(dǎo)體器件的電容(COSS)完成電壓轉(zhuǎn)換所需的勵磁電流(Im)。表2列出了各半導(dǎo)體技術(shù)對應(yīng)的結(jié)果。
達(dá)到該勵磁電流所需的勵磁電感,可通過以下方式推導(dǎo):對施加在變壓器原邊的電壓(該電壓由副邊反射而來)進(jìn)行積分,再除以所需的勵磁電流,如方程(4)所示。
(方程 4)
其中Vout為輸出電壓,n為變壓器變比,?r為開關(guān)(諧振)頻率。表2列出了三種半導(dǎo)體技術(shù)對應(yīng)的勵磁電感值。
其次,在計算損耗時,還需考慮驅(qū)動半導(dǎo)體器件導(dǎo)通所需的柵極電荷所引起的輔助損耗。該電荷值通常在器件數(shù)據(jù)手冊中給出,將所需柵極電荷乘以柵源電壓VGS,即可得到存儲在柵極上的能量。該能量在器件每個開關(guān)周期關(guān)斷時耗散一次。存儲能量乘以開關(guān)頻率即為因放電導(dǎo)致的功率損耗(PG)。此外,柵極電容充電過程中還存在柵極驅(qū)動器和電阻產(chǎn)生的額外損耗,本文暫不討論。表2給出了三種半導(dǎo)體配置對應(yīng)的上述損耗值:SiC MOSFET因柵極導(dǎo)通電壓高、柵極電荷大,其柵極損耗顯著;相比之下,CJFET的柵極損耗約為SiC MOSFET的一半,這得益于其較低的柵極驅(qū)動電壓以及由低壓MOSFET(由驅(qū)動器直接驅(qū)動)所帶來的較小柵極電荷;而GaN器件表現(xiàn)最優(yōu),其柵極電荷損耗比前兩者小10~20倍。
表2. 一個25mΩ器件,在以下條件下運(yùn)行的參數(shù)對比:?r=750?kHz,Vout=12.5?V,n=16,Vdc=400?V,td=100?ns)
緩沖電路(Snubber)
在快速開關(guān)過程中,CJFET可能因寄生電感、電容與快速電壓變化的相互作用而產(chǎn)生振鈴現(xiàn)象。盡管該拓?fù)溆兄谝种泼桌招?yīng)并提升帶寬,但同時會引入易引發(fā)諧振的高阻抗節(jié)點。因此,精心優(yōu)化的PCB布局與有效的抑制措施對于控制此類振鈴尤為關(guān)鍵,常見方法是在晶體管兩端并聯(lián)緩沖電路。
然而,此類振鈴現(xiàn)象主要源于CJFET在硬開關(guān)過程中半導(dǎo)體器件間的快速切換。當(dāng)CJFET用于軟開關(guān)應(yīng)用時,該問題可得到顯著緩解。圖1展示了CJFET在500kHz LLC諧振轉(zhuǎn)換器中運(yùn)行時的實測結(jié)果。
圖1. CJFET在LLC諧振轉(zhuǎn)換器中工作時的漏源電壓實測波形
測量在LLC運(yùn)行開始時進(jìn)行。由于運(yùn)行初始階段勵磁電感未充電,首次換流是硬開關(guān)方式。因此,在未并聯(lián)緩沖電路的情況下,CJFET的漏源極電壓會產(chǎn)生振鈴現(xiàn)象。然而,僅經(jīng)過兩個開關(guān)周期后,勵磁電流便已足夠大,能夠?qū)崿F(xiàn)開關(guān)的換流。此后,無論是否使用緩沖電路,實測波形幾乎無明顯差異。
對于CJFET而言,無需額外配置緩沖電路具有顯著優(yōu)勢:不僅節(jié)省了PCB面積和物料成本,又能消除轉(zhuǎn)換器設(shè)計中的一個損耗來源。
損耗
為基于損耗對比三種半導(dǎo)體器件的性能,需進(jìn)行系統(tǒng)級仿真。例如,更大的輸出電容(COSS)需更大的勵磁電流,從而增加變壓器銅損。圖2展示了堆疊式LLC轉(zhuǎn)換器的總損耗,包括磁芯損耗、銅損、柵極驅(qū)動損耗以及開關(guān)與導(dǎo)通損耗,其中所仿真的轉(zhuǎn)換器與“轉(zhuǎn)換器拓?fù)洹币还?jié)中所述的規(guī)格和設(shè)計相匹配。
三種器件的總損耗對比結(jié)果顯示其性能幾乎相同。為深入分析,圖3進(jìn)一步給出了按損耗來源分解的結(jié)果。該分解表明,在此轉(zhuǎn)換器中,半導(dǎo)體技術(shù)的選擇對整體損耗影響甚微:GaN HEMT雖柵極驅(qū)動損耗較低,但其較高的導(dǎo)通電阻導(dǎo)致導(dǎo)通損耗增加,最終使各類器件的整體表現(xiàn)趨于一致。
圖2. 采用不同原邊開關(guān)器件的堆疊式LLC轉(zhuǎn)換器系統(tǒng)損耗
圖3. 采用不同原邊開關(guān)器件的堆疊式LLC轉(zhuǎn)換器在標(biāo)稱功率下的系統(tǒng)損耗來源分解
各損耗來源顏色標(biāo)識如下:磁芯損耗:暗紅色;PCB繞組銅損:淺藍(lán)色;副邊柵極電荷損耗:綠色;副邊導(dǎo)通損耗:紫色;原邊柵極電荷損耗:橙色;原邊導(dǎo)通損耗:深藍(lán)色
轉(zhuǎn)換器拓?fù)?/strong>
諧振式轉(zhuǎn)換器拓?fù)渚哂谐叩墓β拭芏?,但代價是在寬輸入或輸出電壓范圍內(nèi)效率降低。由于高壓IBC具有固定的輸入輸出電壓比以及對超高功率密度的需求,因此諧振拓?fù)浞浅_m合此類應(yīng)用。
諧振拓?fù)浯嬖诙喾N方案,本研究將對其中的三種進(jìn)行探討,如圖4所示。圖4a展示了一種堆疊式LLC轉(zhuǎn)換器(sC),其主要優(yōu)勢在于可采用650V級別的開關(guān)器件實現(xiàn)高壓IBC。圖4b所示為單相LLC轉(zhuǎn)換器(1pC),其原邊使用的器件數(shù)量最少。圖4c展示了一種三相LLC轉(zhuǎn)換器(3pC),它得益于三相拓?fù)涔逃械母蚏MS電流和電壓紋波,可縮小元器件的尺寸。
a) sC的原邊
b) 1pC的原邊
c) 3pC的原邊
圖4. 本研究中探討的三種轉(zhuǎn)換器拓?fù)湓呺娐?
系統(tǒng)規(guī)格
本研究基于仿真結(jié)果對三種拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)及半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)行對比分析。仿真采用PLECS軟件平臺,基于安森美針對CJFET和SiC MOSFET的Elite Power仿真工具,以及通用橫向GaN模型。表3列出了本次仿真所用的高壓IBC規(guī)格參數(shù)。
表3. 本次分析中使用的高壓IBC規(guī)格參數(shù)
采用sC和1pC的高壓IBC系統(tǒng)將拆分為兩個轉(zhuǎn)換器,各承擔(dān)一半標(biāo)稱功率(每臺6kW)。此舉旨在將原邊RMS電流降至可控水平(詳見下面轉(zhuǎn)換器物料清單章節(jié))。3pC方案將通過一臺12kW轉(zhuǎn)換器實現(xiàn)。
轉(zhuǎn)換器損耗
三種拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的損耗如圖5所示。
輸出功率(kW)
圖5. 采用不同原邊開關(guān)器件的sC系統(tǒng)損耗
sC與1pC的損耗特性較為相似。兩者均在約50%標(biāo)稱功率處出現(xiàn)損耗的躍升。這是因為在該功率點,構(gòu)成12 kW系統(tǒng)的兩個變換器單元中的第二個轉(zhuǎn)換單元投入運(yùn)行,導(dǎo)致磁芯損耗和柵極電荷輔助損耗翻倍。而3pC的損耗隨功率增加上升較為平緩,這得益于三相拓?fù)浔旧硭哂械母蚏MS電流特性。然而,在低功率條件下,由于所有變壓器和副邊開關(guān)器件持續(xù)運(yùn)行,其損耗相較于sC和1pC更高。這一特性亦可從圖6所示的損耗細(xì)分中得到印證。
圖6. 研究的三種拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)系統(tǒng)損耗分解。上圖顯示3 kW時的損耗,下圖顯示12 kW時的損耗。
各損耗來源顏色標(biāo)識如下:磁芯損耗:暗紅色;PCB繞組銅損:淺藍(lán)色;副邊柵極電荷損耗:綠色;副邊導(dǎo)通損耗:紫色;原邊柵極電荷損耗:橙色;原邊導(dǎo)通損耗:深藍(lán)色
表4. 12kW轉(zhuǎn)換器系統(tǒng)物料清單
轉(zhuǎn)換器物料清單(BOM)
采用前述三種拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的12 kW轉(zhuǎn)換器系統(tǒng)的物料清單如表4所示。
盡管1pC所需的原邊器件數(shù)量最少,但整體器件總數(shù)最少的方案卻是3pC。這得益于三相拓?fù)涔逃械妮^低RMS電流特性,不僅減少了副邊器件數(shù)量,也簡化了變壓器設(shè)計。
sC每個轉(zhuǎn)換單元使用兩個矩陣式變壓器,整個12 kW系統(tǒng)共需四個變壓器。每個變壓器包含八個基本變壓器單元,總計達(dá)32個單元。而1pC的配置則不同:每個轉(zhuǎn)換器僅需一個變壓器,但由于其所需變壓比高于sC,該變壓器的單元數(shù)量需翻倍。
而3pC僅需三個變壓器,每個包含八個基本單元,是三種方案中基本變壓器單元數(shù)量最少的。
此外,在輸出電容需求方面,3pC也具有明顯優(yōu)勢。相比之下,1pC所需的電容尺寸過大,幾乎無法滿足合理設(shè)計的要求。
結(jié)語
本研究探討的三種半導(dǎo)體技術(shù)(GaN HEMT、SiC MOSFET、SiC CJFET)在高壓IBC應(yīng)用中表現(xiàn)幾乎一致。由于諧振拓?fù)涞能涢_關(guān)特性,它們的開關(guān)損耗差異影響甚微。通過合理選擇勵磁電感,可規(guī)避其寄生電容差異帶來的影響。最后,各技術(shù)間的損耗差異微乎其微,因此成本將成為關(guān)鍵決策因素。CJFET憑借簡化的器件結(jié)構(gòu)實現(xiàn)高效制造工藝,在成本效益方面顯著優(yōu)于其他技術(shù)。
相較于sC和1pC,3pC憑借其更低的RMS電流具有顯著優(yōu)勢,減少了物料清單中的元件數(shù)量(特別是副邊開關(guān)器件和變壓器組件)。這些優(yōu)勢可在轉(zhuǎn)換器設(shè)計中靈活利用——既可用于提升功率密度,也可通過增大單個器件尺寸(例如采用更大的變壓器磁芯以降低峰值磁通密度,從而減少磁芯損耗)來進(jìn)一步優(yōu)化性能。
上述仿真結(jié)果將通過安森美正在開發(fā)的高壓IBC硬件實測數(shù)據(jù)進(jìn)行驗證。





