12月11日消息，日本在40年前一度是全球半導(dǎo)體一哥，然而近年來(lái)淪為設(shè)備及材料供應(yīng)商，先進(jìn)工藝上已經(jīng)缺席多年，此前國(guó)內(nèi)自產(chǎn)的工藝還停留在28nm以上。

然而現(xiàn)在日本有可能從28nm一躍升級(jí)到4nm工藝，因?yàn)榕_(tái)積電在日本投資的熊本二廠原計(jì)劃是升級(jí)6/7nm工藝，但是最近已經(jīng)停工了。

這次停工不是臺(tái)積電對(duì)日本的投資暫停，而是要升級(jí)工藝，因?yàn)?/7nm工藝當(dāng)前的需求較低，再建新廠只會(huì)加劇過(guò)剩，因此消息人士稱臺(tái)積電計(jì)劃將二期工廠直接升級(jí)到4nm工藝，以滿足當(dāng)前AI芯片的巨大需求。

臺(tái)積電公司今天也回應(yīng)了這一消息，表示公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞或者臆測(cè)，在日本的專案持續(xù)進(jìn)行中。

雖然臺(tái)積電表態(tài)在日本的投資會(huì)持續(xù)，實(shí)際上不僅二期工廠暫停，此前已經(jīng)建成的一期工廠也暫停擴(kuò)產(chǎn)了，該工廠主要生產(chǎn)40/28nm以及16/12nm工藝的芯片產(chǎn)品，原計(jì)劃2026年會(huì)增加新設(shè)備，但是現(xiàn)在臺(tái)積電已經(jīng)對(duì)設(shè)備供應(yīng)商表示明年一年都沒(méi)有增加設(shè)備的計(jì)劃。

不過(guò)二期工廠如果真要升級(jí)4nm工藝也不是那么簡(jiǎn)單的，因?yàn)?nm需要EUV光刻設(shè)備了，不僅投資會(huì)增加，廠商設(shè)計(jì)之類的也要改變。

因此二期工廠還有一種可能是改建成先進(jìn)封裝工廠，現(xiàn)在的AI芯片對(duì)CoWoS封裝的需求也很高，而此前CoWoS芯片封裝主要在臺(tái)積電本土工廠，在日本擴(kuò)產(chǎn)CoWoS也有助于緩解AI產(chǎn)能不足的問(wèn)題。

只不過(guò)這一切還沒(méi)定論，但是臺(tái)積電不論最終采用哪個(gè)方案，日本在先進(jìn)工藝及封裝上都會(huì)向前邁進(jìn)一大步。