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[導(dǎo)讀]臺(tái)系DRAM廠力晶宣布2011年的資本支出為新臺(tái)幣160億元,較2010年的資本支出200億元減少約20%;此外,之前被主管機(jī)關(guān)退件的上限8億股的海外存托憑證(GDR)申請(qǐng)案也將重新啟動(dòng);再者,力晶亦宣布將出售部分機(jī)臺(tái)設(shè)備給設(shè)備商

臺(tái)系DRAM力晶宣布2011年的資本支出為新臺(tái)幣160億元,較2010年的資本支出200億元減少約20%;此外,之前被主管機(jī)關(guān)退件的上限8億股的海外存托憑證(GDR)申請(qǐng)案也將重新啟動(dòng);再者,力晶亦宣布將出售部分機(jī)臺(tái)設(shè)備給設(shè)備商,再用「售后租回」方式使用,以達(dá)活用資產(chǎn)的目的。

力晶日前決定再度啟動(dòng)募資計(jì)劃,以籌措資金購(gòu)買浸潤(rùn)式曝光機(jī)臺(tái)(Immersion Scanner)機(jī)器設(shè)備,轉(zhuǎn)進(jìn)45納米制程技術(shù),之前提出發(fā)行上限8億股GDR遭到主管機(jī)關(guān)退件,力晶召開董事會(huì)決定重新提出申請(qǐng),額度同樣維持上限8億股。

力晶也宣布,將部分晶圓廠機(jī)臺(tái)設(shè)備賣給設(shè)備商,再用「售后租回」的方式,以達(dá)到資產(chǎn)活用的目標(biāo),增加手上的現(xiàn)金水位。

在2011年的資本支出方面,力晶宣布將較2010年的資本支出200億元減少20%左右,約160億元,主要用于將旗下12寸晶圓廠轉(zhuǎn)進(jìn)45納米制程技術(shù)。

力晶自結(jié)第3季財(cái)報(bào)出爐,在不加計(jì)轉(zhuǎn)投資瑞晶的財(cái)報(bào)中,單季營(yíng)收為250.24億元,毛利率17.35%,營(yíng)業(yè)凈利率12.89%,稅前獲利22.91億元、稅后獲利19.36億元,換算每股稅后0.34元。

以前3季獲利來(lái)看,力晶累計(jì)稅后獲利達(dá)122.39億元,換算前3季每股獲利為2.22元。

在12寸晶圓廠方面,目前單月產(chǎn)能為13萬(wàn)片,分為標(biāo)準(zhǔn)型存儲(chǔ)器和代工2大業(yè)務(wù),標(biāo)準(zhǔn)型存儲(chǔ)器生產(chǎn)占8萬(wàn)片產(chǎn)能,代工產(chǎn)能占5萬(wàn)片,隨著DRAM報(bào)價(jià)下滑,力晶會(huì)逐漸增加代工比重。

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