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[導(dǎo)讀]涉足尖端技術(shù)研究工作的芯片制造商正在把無(wú)數(shù)新材料和奇特的器件結(jié)構(gòu)結(jié)合起來(lái),用于65nm及更低節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)。同時(shí)他們發(fā)現(xiàn),在這些研究上的努力生產(chǎn)的結(jié)果還包括目前必須著手解決各器件各個(gè)層上出現(xiàn)的越來(lái)越多的細(xì)微的

涉足尖端技術(shù)研究工作的芯片制造商正在把無(wú)數(shù)新材料和奇特的器件結(jié)構(gòu)結(jié)合起來(lái),用于65nm及更低節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)。同時(shí)他們發(fā)現(xiàn),在這些研究上的努力生產(chǎn)的結(jié)果還包括目前必須著手解決各器件各個(gè)層上出現(xiàn)的越來(lái)越多的細(xì)微的電缺陷和微小物理缺陷。在存儲(chǔ)器中,可能會(huì)出現(xiàn)多晶硅阻塞管道問(wèn)題poly-plug piping problems,從而引起B(yǎng)PSG(硼磷硅酸鹽玻璃)孔隙問(wèn)題。在邏輯領(lǐng)域,使用應(yīng)變硅引起的應(yīng)變硅位錯(cuò)可能產(chǎn)生缺陷,有時(shí)這類(lèi)缺陷直到后道工藝才顯露出來(lái)。

這些缺陷的重要性是始料未及的,它們既可能使當(dāng)前的檢測(cè)方法失效,也可能延長(zhǎng)檢測(cè)時(shí)間。雖然有些人嘗試在應(yīng)變硅上使用NiSi,希望俘獲位錯(cuò)缺陷,但仍不能對(duì)這些位錯(cuò)進(jìn)行精確定位;也不能對(duì)缺陷所在的特定結(jié)構(gòu)或方向精確定位。他們只知道這些缺陷大量存在于早期的工藝中。

KLA-Tencor介紹了一種電子束檢測(cè)平臺(tái) ——eS32,用于俘獲65和45nm節(jié)點(diǎn)各器件層中影響成品率的深層電缺陷和小物理缺陷。電子束檢測(cè)系統(tǒng)的基本優(yōu)勢(shì)是發(fā)現(xiàn)問(wèn)題相對(duì)較早。使用這種方法可以發(fā)現(xiàn)位錯(cuò)缺陷,從而采用應(yīng)變工程技術(shù)實(shí)現(xiàn)高速器件,而不必以犧牲成品率為代價(jià),同時(shí)在FEOL和BEOL應(yīng)用中加速系統(tǒng)的檢測(cè)和分辨速度,快速檢測(cè)到影響成品率的缺陷。即使NiSi和應(yīng)變Si的難題得以解決,這些問(wèn)題在后道工藝中還會(huì)再次出現(xiàn),因此要求對(duì)整條生產(chǎn)線進(jìn)行監(jiān)控。新的檢測(cè)平臺(tái)具有這種能力,無(wú)論在監(jiān)控銅BEOL孔隙問(wèn)題、斷開(kāi)問(wèn)題還是細(xì)微的短路問(wèn)題中都是如此。

DRAM廠商面臨著產(chǎn)品壽命周期縮短的問(wèn)題,他們必須在不斷縮短的時(shí)間范圍內(nèi),促使其新型芯片快速投入量產(chǎn)。當(dāng)他們等比縮小到更小單元時(shí),將面臨關(guān)鍵的FEOL和互連挑戰(zhàn) ——從檢測(cè)高深寬比的通孔和電容,到處理小物理缺陷對(duì)成品率產(chǎn)生的越來(lái)越大的影響。DRAM所面臨的關(guān)鍵新型缺陷是在其生產(chǎn)過(guò)程中多晶硅阻塞上細(xì)微的蝕刻不足問(wèn)題。需要通過(guò)高阻材料 ——非退火多晶硅 ——對(duì)這一問(wèn)題進(jìn)行檢測(cè)。低沉積能、高獲取場(chǎng)以及低束電流增大了對(duì)這類(lèi)缺陷的檢測(cè)能力。

對(duì)邏輯廠商來(lái)說(shuō),關(guān)鍵的考慮是漏問(wèn)題 ——NiSi管道和應(yīng)變硅位錯(cuò)。不像檢測(cè)銅孔隙問(wèn)題時(shí)是對(duì)比非橋接金屬尋找斷開(kāi)和橋接缺陷(一種相對(duì)容易發(fā)現(xiàn)的問(wèn)題),這類(lèi)缺陷是細(xì)微的短路問(wèn)題,要求對(duì)結(jié)進(jìn)行控制。平臺(tái)可以偏置結(jié),并使短路接地,具有觀察位錯(cuò)和管道缺陷的能力。

這類(lèi)缺陷 ——位錯(cuò)和應(yīng)變硅,以及管道問(wèn)題 ——易產(chǎn)生于專(zhuān)用結(jié)構(gòu)中。以位錯(cuò)為例,注入的局部應(yīng)力和曲線數(shù)量都可能引起某種應(yīng)力分布,從而對(duì)專(zhuān)用電路產(chǎn)生影響。

為提供新型缺陷的檢測(cè)能力,平臺(tái)具有物理和電壓對(duì)比成像靈敏度能力,從而可以更快地找到問(wèn)題產(chǎn)生的根源。擴(kuò)展沉積能的范圍,可增強(qiáng)細(xì)微蝕刻不足接觸缺陷的俘獲能力。另外,在高阻材料中設(shè)計(jì)了束電流和掃描靈活性選項(xiàng),可俘獲不斷增多的深層細(xì)微短路缺陷。使用小型25nm像素改進(jìn)了致密、高深寬比結(jié)構(gòu)中小物理缺陷的俘獲能力,并采用binning算法輔助系統(tǒng)缺陷機(jī)理的識(shí)別能力。

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