[導讀]受到DRAM與晶圓代工廠擴充先進制程產能影響,讓全球浸潤式微顯影機臺(Immersion)喊缺貨,主要供貨商ASML指出,近 幾月來除回聘先前裁員的員工,并且增聘新員,合計較2009年增聘逾千名員工,加緊趕工。
根 據(jù)ASML
受到DRAM與晶圓代工廠擴充先進制程產能影響,讓全球浸潤式微顯影機臺(Immersion)喊缺貨,主要供貨商ASML指出,近 幾月來除回聘先前裁員的員工,并且增聘新員,合計較2009年增聘逾千名員工,加緊趕工。
根 據(jù)ASML統(tǒng)計,首季底未交貨訂單(backlog)達28個系統(tǒng),ASML主管Lucas van Grinsven表示,近兩年景氣循環(huán)較以往相較不太尋常,復蘇力道強勁,因此造成部分訂單無法趕在交期交貨,不過預期不會有長遠的 影響。所幸ASML在2009年也進行廠房投資,讓機臺短缺情況不至于太嚴重,另一方面,也陸續(xù)將過去裁員的員工回聘 700名,同時也聘估上百名的約聘員工,預計還要征300名員工,希望透過增加人力,讓設備能盡速交到客戶手中。
2010 年半導體產業(yè)積極擴產,也讓供過于求的疑慮浮現(xiàn),Lucas van Grinsven指出,隨著消費性電子產品、PC等應用端,對 于內存逐漸往高容量走,加上供應端過去兩年并無擴充,因此預估2010與2011年并不會有供過于求的狀況。
國 際半導體設備材料產業(yè)協(xié)會(SEMI))統(tǒng)計,2010年晶圓廠資本支出成長117%,臺灣設備投資達77億美元全球居冠,南韓以 74億美元次之。2010年首季全球半導體設備出貨值達74.6億美元,較2! 009年同期成長142%。
強 勁的晶圓廠投資也將帶動臺灣前段設備市場成長77%,達到77億美元,整體設備市場則上看79億美元,再次成為全球最大半導體設備投 資市場。根據(jù)SEMI World Fab Watch報告預估2011年晶圓廠支出將有18%的成長,達420.35億美元。
另 外市調機構顧能(Gartner)最新研究報告也指出,預期2010年全球半導體設備支出將較2009年的166.061億美元大增 113.2%至354.123億美元,主要是拜制程技術日益進步之賜。
此 外,英特爾(Intel)對3x奈米制程的投入、NAND Flash廠商支出攀高,以及廠商轉換至次世代DDR3 DRAM的動作,都是帶動半導體設備投資上揚的主因。
在半導體設備需求大增之下, 半導體主要供應廠商包括ASML、美商應材(Applied Materials)、KLA-Tencor、東京電子(TEL) 等,2010年可望呈現(xiàn)強勁成長。
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據(jù)業(yè)內消息,昨天半導體光刻機供應商荷蘭ASML公司發(fā)布了今年Q3季度的財報數(shù)據(jù), 其中銷售額和利潤均好于預期,凈預訂數(shù)據(jù)更是創(chuàng)新紀錄。
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ASML
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布2022年第三季度業(yè)績。期內凈銷售額58億歐元,同比增長10.24%;凈利潤17億歐元,同比下降2.24%。第三季度,ASML賣出了80臺全新的光刻系統(tǒng),以及6臺二手光刻系統(tǒng)。三季度新...
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ASML
光刻機
EUV
據(jù)彭博社2月9日的消息,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)警告稱,一家此前被指控竊取其商業(yè)機密的中國公司的關聯(lián)公司已開始銷售疑似侵犯其知識產權的產品。
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ASML
光刻機
知識產權
眾所周知,目前5nm及以下的尖端半導體制程必須要用到價格極其高昂的EUV光刻機,ASML是全球唯一的供應商。更為尖端2nm制程的則需要用到ASML新一代0.55 NA EUV光刻機,售價或高達4億美元。
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ASML
1nm
芯片
10月5日訊當?shù)貢r間周二(10月4日),美國最大內存芯片制造商美光科技在官網(wǎng)宣布,公司計劃在紐約州中部打造一個巨型晶圓廠,以促進在美存儲芯片的生產。
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美光科技
巨型
晶圓廠
半導體器件型號由五部分(場效應器件、半導體特殊器件、復合管、PIN型管、激光器件的型號命名只有第三、四、五部分)組成。
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國產化
國產
半導體設備
特斯拉(Tesla)首席執(zhí)行官馬斯克(Elon Musk)表示,該公司計劃12月向食品和飲料制造商百事公司(PepsiCo)交付其首輛Semi全電動半掛卡車。按照計劃,該卡車一次充電可行駛500英里(約合805公里)。這...
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SEMI
特斯拉
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馬斯克
半導體景氣下行已延伸至最上游的硅晶圓材料領域。近期8寸硅晶圓市況“急轉直下”,后續(xù)12寸硅晶圓產品也難逃沖擊。預期客戶端于第四季度到明年第一季度將調整庫存。有部分硅晶圓廠商已同意一些下游長約客戶的要求,可延后拉貨時程,但...
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半導體
硅晶圓
晶圓廠
據(jù)業(yè)內消息,近日美國一家商業(yè)精密制造公司Zyvex表示制出了亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1,這個系統(tǒng)沒有采用EUV光刻技術,但是卻能產出只有0.7nm線寬的芯片,是目前最高制造精度。
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Zyvex
0.7nm
芯片
EBL
EUV
ASML
愛思開海力士·英特爾DMTM半導體(大連)有限公司非易失性存儲器項目在大連金普新區(qū)舉行開工儀式。該項目將建設一座新的晶圓工廠,從事非易失性存儲器3D NAND芯片產品的生產。全球領先的半導體供應商SK海力士已在中國市場深...
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SK海力士
晶圓廠
閃存芯片
數(shù)個月前,英特爾宣布將斥資 200 億美元在俄亥俄州建造兩座先進制程晶圓廠,并表示其投資“在未來十年內可能增長到高達 1000 億美元”,但這部分取決于關于聯(lián)邦的芯片補貼。由于此前美國芯片法案遲遲未能獲得通過,英特爾在6...
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英特爾
晶圓廠
基辛格
據(jù)臺灣媒體報道,目前臺積電先進制程進展順利,3nm制程將于今年下半年量產,升級版3nm(N3E)制程將于2023年量產,2nm制程將會在預定的2025年量產。目前,臺積電2nm晶圓廠將座落于竹科寶山二期擴建計畫用地中,竹...
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2nm
臺積電
ASML
據(jù)彭博社報導,為制造制程更先進、耗電更少的芯片,往往制造需要大量的電力。光刻機巨頭ASML最先進極紫外(EUV)光刻機,每臺預估耗電1MW(megawatt,百萬瓦),約為前幾代設備的10 倍,加上制造先進制程芯片還沒有...
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臺積電
先進制程
晶圓廠
荷蘭ASML公司 (全稱: Advanced Semiconductor Material Lithography,該全稱已經(jīng)不作為公司標識使用,公司的注冊標識為ASML Holding N.V),中文名稱為阿斯麥爾(中...
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ASML
工程師
芯片
上海2022年8月2日 /美通社/ -- 中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱"中微公司",上交所股票代碼:688012)今日迎來成立18周年的"成年禮"。歷經(jīng)十八年的風雨...
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集成電路
等離子體
數(shù)碼
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Jul. 7, 2022 ---- 據(jù)TrendForce集邦咨詢調查,晶圓代工廠浮現(xiàn)砍單浪潮,首波訂單修正來自大尺寸Driver IC及TDDI,兩者主流制程分別為0.1Xμm及55nm。盡管先前在MCU、PMIC等產...
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TrendForce集邦咨詢
晶圓廠
臺積電在美國建設的5nm晶圓廠日前取得了重要進展,位于美國亞利桑那州的Fab 21工廠舉行了上梁典禮。
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臺積電
5nm
半導體
晶圓廠
美國最近的芯片法案事件鬧得沸沸揚揚,歐洲頂級芯片設備供應商ASML周三警告稱,如果美國迫使該公司停止向中國出售其主流設備,全球半導體供應鏈將面臨中斷。
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ASML
芯片法案
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為了遏制中國的發(fā)展,美國近年來對華采取一系列的干預和打壓措施已經(jīng)屢見不鮮,在高新科技領域的技術封鎖/貿易封鎖更是美國的慣用伎倆,半導體就是這樣的一個領域。據(jù)近日報道,美國為了全面遏制中國的半導體業(yè)發(fā)展,已經(jīng)向荷蘭政府施壓...
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ASML
光刻機
EUV
根據(jù)外媒報道,荷蘭的阿斯麥公司正在制造新一代的及紫外線UV光刻機。據(jù)悉,新一代高數(shù)值孔徑augusta機的原型機將在2023年上半年制造完成,并有望。在2025年交付客戶開始使用阿斯曼新一代的EUV光刻機。光刻機的重要性...
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ASML
光刻機
臺積電
英特爾