GT Advanced Technologies (GTAT)宣布向Kyma Technologies, Inc.收購其等離子體汽相淀積(PVD)技術(shù)及專門知識的獨家使用權(quán)。Kyma所開發(fā)的等離子體汽相淀積柱狀納米技術(shù)(PVDNC(TM))可以在氮化鎵沉淀前，在晶圓上沉積一層高品質(zhì)的生長型初始層氮化鋁。GT 計劃將等離子體汽相淀積工具商業(yè)化，以配合其正在研發(fā)的氫化物氣相外延(HVPE)系統(tǒng)，該組合將令LED生產(chǎn)商可以在圖案化或平面晶圓上，用更低的成本生產(chǎn)更高產(chǎn)量的氮化鎵模板。GT已經(jīng)有一個可以用于大量生產(chǎn)的原型工具，結(jié)合Kyma的等離子體汽相淀積柱狀納米技術(shù)，預(yù)期到2015年上半年即可提供量產(chǎn)工具。

GTAT的總裁兼首席執(zhí)行官Tom Gutierrez 表示：“Kyma創(chuàng)新的“柱狀納米”PVDNC技術(shù)為我們不斷擴張的LED生產(chǎn)基地帶來了重要的補充。我們的目標是提供一系列的解決方案，以提升LED的生產(chǎn)品質(zhì)及降低成本。將GT的PVD AlN工具與我們正在研發(fā)的HVPE系統(tǒng)相結(jié)合，預(yù)計可讓LED生產(chǎn)商以比現(xiàn)行生產(chǎn)技術(shù)更低的成本生產(chǎn)出開盒即用晶圓。”

Kyma的總裁兼首席執(zhí)行官Keith Evans表示：“我們非常高興GT決定將我們的等離子體汽相淀積柱狀納米技術(shù)商業(yè)化。經(jīng)過多年創(chuàng)新及生產(chǎn)AIN模板，我們深信柱狀納米AlN 薄膜將為LED行業(yè)帶來實實在在的好處。”

今天，將氮化鎵沉積在開盒即用的晶圓時，需要使用較為昂貴而且進程緩慢的MOCVD工具。透過結(jié)合PVD與HVPE這兩個流程，將可以生產(chǎn)低成本的氮化鎵模板，廠商將能夠利用現(xiàn)有的LED生產(chǎn)線擴產(chǎn)；另外，由于他們需要的MOCVD 工具更少，此舉也可以降低其資本開支。

LED網(wǎng)編輯觀點：如若等離子體汽相淀積工具商業(yè)化真正實現(xiàn)，LED生產(chǎn)商通過結(jié)合PVD與HVPE兩個流程用更低的成本生產(chǎn)更高產(chǎn)量的氮化鎵模板，從而LED的生產(chǎn)成本也將隨之降低，這無疑對LED的普及產(chǎn)生了推動作用。（責編：Flora）